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method blankの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1424件
SEMICONDUCTOR MEMORY DEVICE AND ITS BLANK PAGE RETRIEVAL METHOD例文帳に追加
半導体記憶装置及びそのブランクページ検索方法 - 特許庁
ELECTRON BEAM EXPOSING RETICLE BLANK MANUFACTURING METHOD AND MASK例文帳に追加
電子線露光用レチクルブランクの作製方法及びマスク - 特許庁
BLANK MASK AND METHOD OF MANUFACTURING PHOTOMASK USING THE SAME例文帳に追加
ブランクマスク及びこれを用いるフォトマスクの製造方法 - 特許庁
BINARY PHOTOMASK BLANK AND METHOD FOR MANUFACTURING BINARY PHOTOMASK例文帳に追加
バイナリーフォトマスクブランク及びバイナリーフォトマスクの製造方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING SEALED CONTAINER AND BLANK THEREFOR例文帳に追加
密封容器の製造方法および密封容器用ブランク - 特許庁
APPARATUS FOR REMOVING UNNECESSARY FILM AND METHOD OF MANUFACTURING MASK BLANK例文帳に追加
不要膜除去装置及びマスクブランクスの製造方法 - 特許庁
METHOD FOR SEPARATING GREEN SAND MOLD AND CASTING BLANK AND DEVICE THEREFOR例文帳に追加
生型と鋳物素材の分離方法およびその装置 - 特許庁
GRAY-TONE MASK BLANK, GRAY-TONE MASK AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
グレートーンマスクブランク、グレートーンマスク及びその製造方法 - 特許庁
PHASE SHIFT MASK BLANK AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁
REFLECTION TYPE MASK BLANK, REFLECTION TYPE MASK, METHOD OF MANUFACTURING REFLECTION TYPE MASK BLANK, AND METHOD OF MANUFACTURING REFLECTION TYPE MASK例文帳に追加
反射型マスクブランクス、反射型マスク、反射型マスクブランクスの製造方法、および、反射型マスクの製造方法 - 特許庁
METHOD OF SMOOTHING SURFACE OF SUBSTRATE FOR EUV MASK BLANK, AND EUV MASK BLANK OBTAINED BY ITS METHOD例文帳に追加
EUVマスクブランク用の基板表面を平滑化する方法、および該方法により得られるEUVマスクブランク - 特許庁
REFLECTIVE MASK BLANK, REFLECTIVE MASK, METHOD FOR MANUFACTURING REFLECTIVE MASK BLANK, AND METHOD FOR MANUFACTURING REFLECTIVE MASK例文帳に追加
反射型マスクブランクス、反射型マスク、反射型マスクブランクスの製造方法、および、反射型マスクの製造方法 - 特許庁
METHOD FOR PRODUCING GEAR BLANK FOR HIGH SPEED DRY-CUTTING, AND METHOD FOR PRODUCING GEAR USING THIS GEAR BLANK例文帳に追加
高速ドライ切削用歯車素材の製造方法及びその歯車素材を用いた歯車の製造方法 - 特許庁
OPTICAL DISK, MANUFACTURING METHOD FOR OPTICAL DISK, BLANK MASTER FOR OPTICAL DISK AND MANUFACTURING METHOD FOR BLANK MASTER FOR OPTICAL DISK例文帳に追加
光ディスク、光ディスクの製造方法、光ディスク用ブランクマスタ及び光ディスク用ブランクマスタの製造方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING BLANK MADE FROM ALUMINUM ALLOY FOR MEMORY DISC, AND BLANK MANUFACTURED BY THE METHOD例文帳に追加
メモリーディスク用アルミニウム合金製ブランク材の製造方法および前記製造方法により製造されたブランク材 - 特許庁
A load beam blank 50 and a flexure blank 60 are used in the method of manufacturing the suspension 7.例文帳に追加
サスペンション7の製造方法において、ロードビームブランク50とフレキシャブランク60が使用される。 - 特許庁
PHOTO-MASK BLANK, PHOTO-MASK, REFLECTIVE MASK BLANK AND REFLECTIVE MASK, AND MANUFACTURING METHOD THEREOF例文帳に追加
フォトマスクブランク、フォトマスク、反射型マスクブランクおよび反射型マスク並びにこれらの製造方法 - 特許庁
METHOD OF PRODUCING BLANK MATERIAL FOR PRESS FORMING AND BLANK MATERIAL FOR PRESS FORMING OBTAINED THEREBY例文帳に追加
プレス成形用ブランク材の製造方法並びにそれによって得られるプレス成形用ブランク材 - 特許庁
MASK BLANK FOR FPD DEVICE MANUFACTURE, PHOTOMASK, AND DESIGNING METHOD OF MASK BLANK FOR FPD DEVICE MANUFACTURE例文帳に追加
FPDデバイス製造用マスクブランク、フォトマスク、及びFPDデバイス製造用マスクブランクの設計方法 - 特許庁
MASK BLANK SUBSTRATE, MASK BLANK, EXPOSURE MASK, SEMICONDUCTOR DEVICE, AND METHOD FOR MANUFACTURING THEM例文帳に追加
マスクブランクス用基板,マスクブランクス,露光用マスク及び半導体装置,並びにそれらの製造方法 - 特許庁
PHASE SHIFT MASK BLANK AND HALF TONE TYPE PHASE SHIFT MASK BLANK, PHASE SHIFT MASK AND PATTERN TRANSFERRING METHOD例文帳に追加
位相シフトマスクブランク、及びハーフトーン型位相シフトマスクブランクと、位相シフトマスク、及びパターン転写方法 - 特許庁
GLASS BLANK, METHOD FOR MANUFACTURING GLASS BLANK, METHOD FOR MANUFACTURING SUBSTRATE FOR INFORMATION RECORDING MEDIUM, AND METHOD FOR MANUFACTURING INFORMATION RECORDING MEDIUM例文帳に追加
ガラスブランク、ガラスブランクの製造方法、情報記録媒体用基板の製造方法、および、情報記録媒体の製造方法 - 特許庁
PROCESS FOR PRODUCING MASK, METHOD FOR MANAGING MASK BLANK, PROGRAM FOR MANAGING MASK BLANK, SYSTEM FOR MANAGING MASK BLANK AND PROCESS FOR FABRICATING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
マスクの製造方法、マスクブランクスの管理方法、マスクブランクスの管理プログラム、マスクブランクスの管理装置および半導体装置の製造方法 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK BLANK, AND METHOD OF MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK例文帳に追加
位相シフトマスクブランクの製造方法及び位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK BLANK AND METHOD OF MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK例文帳に追加
位相シフトマスクブランクの製造方法及び位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁
MASK BLANK, METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING TEMPLATE例文帳に追加
マスクブランク、位相シフトマスクの製造方法及びテンプレートの製造方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING GLASS SUBSTRATE FOR MASK BLANK, METHOD FOR MANUFACTURING MASK BLANK, METHOD FOR MANUFACTURING EXPOSURE MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING GLASS MEMBER FOR LITHOGRAPHY例文帳に追加
マスクブランク用ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、露光用マスクの製造方法、及びリソグラフィー用ガラス部材の製造方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK BLANK, METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK, AND COATING DEVICE例文帳に追加
フォトマスクブランクの製造方法、フォトマスクの製造方法及び塗布装置 - 特許庁
METHOD OF SELECTING PROCESS LIQUID, METHOD OF MANUFACTURING MASK BLANK AND METHOD OF MANUFACTURING MASK例文帳に追加
処理液選定方法、及びマスクブランクの製造方法、並びにマスクの製造方法 - 特許庁
TRANSFER MASK BLANK, MANUFACTURING METHOD THEREFOR, TRANSFER MASK, MANUFACTURING METHOD THEREFOR AND EXPOSURE METHOD例文帳に追加
転写マスクブランクス、その製造方法、転写マスク、その製造方法及び露光方法 - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR FORMING BLANK BY ELECTRIC DISCHARGE MACHINING例文帳に追加
放電加工による素材の成形方法及びその装置 - 特許庁
METHOD OF FORMING OPTICAL GLASS ELEMENT AND GLASS BLANK FOR FORMING例文帳に追加
光学ガラス素子の成形方法及び成形用ガラス素材 - 特許庁
TRANSFER MASK BLANK, TRANSFER MASK AND PATTERN EXPOSURE METHOD例文帳に追加
転写マスクブランク及び転写マスク並びにパターン露光方法 - 特許庁
PHASE SHIFT MASK BLANK, PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN例文帳に追加
位相シフトマスクブランク、位相シフトマスク及びパターン転写方法 - 特許庁
BLANK PAPER DETECTION UNIT AND METHOD, IMAGE PROCESSOR例文帳に追加
白紙検知ユニット、画像処理装置および白紙検知方法 - 特許庁
METHOD FOR PRODUCING ALUMINUM ALLOY BLANK FOR PRESS FORMING例文帳に追加
プレス成形加工用アルミニウム合金ブランク材の製造方法 - 特許庁
MASK BLANK FOR IMPRINT MOLDING AND METHOD FOR MANUFACTURING IMPRINT MOLD例文帳に追加
インプリントモールド用マスクブランク及びインプリントモールドの製造方法 - 特許庁
PHOTOMASK BLANK, PHOTOMASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK例文帳に追加
フォトマスクブランクおよびフォトマスク並びにフォトマスクの製造方法 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING REFLECTION TYPE MASTER BLANK FOR EUV LITHOGRAPHY, AND METHOD OF MANUFACTURING SUBSTRATE WITH FUNCTIONAL FILM FOR MASK BLANK例文帳に追加
EUVリソグラフィ用反射型マスクブランクスの製造方法、および該マスクブランクス用の機能膜付基板の製造方法 - 特許庁
PHASE SHIFT MASK BLANK, PHASE SHIFT MASK, METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK BLANK AND METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK例文帳に追加
位相シフトマスクブランクおよび位相シフトマスク並びに位相シフトマスクブランクの製造方法および位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK BLANK, METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK, PHASE SHIFT MASK BLANK AND PHASE SHIFT MASK例文帳に追加
位相シフトマスクブランクの製造方法および位相シフトマスクの製造方法並びに位相シフトマスクブランクおよび位相シフトマスク - 特許庁
IMAGE-FORMING SYSTEM AND BLANK PAGE-OUTPUT MANAGEMENT METHOD例文帳に追加
画像形成システムおよび白紙ページの出力管理方法 - 特許庁
MASK BLANK, TRANSFER MASK AND MANUFACTURING METHOD OF TRANSFER MASK例文帳に追加
マスクブランク、転写用マスク及び転写用マスクの製造方法 - 特許庁
METHOD FOR PRODUCING HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK, HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK, HALFTONE PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN例文帳に追加
ハーフトーン位相シフトマスクブランクの製造方法、ハーフトーン位相シフトマスクブランク、ハーフトーン位相シフトマスク及びパターン転写方法 - 特許庁
TOP-GRIPPING TYPE CARTON, BLANK, AND METHOD FOR ASSEMBLING CARTON例文帳に追加
頂部把持型カートン、ブランクおよびカートンの組み立て方法 - 特許庁
TARGET FOR FORMING FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK BLANK例文帳に追加
成膜用ターゲット及び位相シフトマスクブランクの製造方法 - 特許庁
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