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method blankの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1424件
A blank state judgment means 223 judges the full blank state by the full blank erasing method or the minimal blank state by the minimal blank erasing method on the basis of the state data of the recording management area.例文帳に追加
ブランク状態判定手段223は、記録管理領域の状態データに基づいてフル・ブランク消去方法によるフル・ブランク状態であるか、ミニマリー・ブランク消去方法によるミニマリー・ブランク状態であるかを判定する。 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING BEVEL GEAR, METHOD FOR MANUFACTURING GEAR BLANK OF BEVEL GEAR, GEAR BLANK OF BEVEL GEAR AND DIE FOR MANUFACTURING GEAR BLANK OF BEVEL GEAR例文帳に追加
傘歯車の製造方法、傘歯車のギアブランクの製造方法、傘歯車のギアブランクおよび傘歯車のギアブランク製造用の金型本体 - 特許庁
PHOTOMASK BLANK, METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK BLANK, PHOTOMASK, METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK, PHOTOMASK INTERMEDIATE, AND METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN例文帳に追加
フォトマスクブランク、フォトマスクブランクの製造方法、フォトマスク、フォトマスクの製造方法、フォトマスク中間体及びパターンの転写方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING GLASS SUBSTRATE FOR MASK BLANK, METHOD FOR MANUFACTURING MASK BLANK, METHOD FOR MANUFACTURING EXPOSURE MASK, AND DEFECT INSPECTION DEVICE例文帳に追加
マスクブランク用ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、露光用マスクの製造方法、及び欠陥検査装置 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING REFLECTIVE MASK BLANK SUBSTRATE, METHOD FOR MANUFACTURING REFLECTIVE MASK BLANK, AND METHOD FOR MANUFACTURING REFLECTIVE MASK例文帳に追加
反射型マスクブランク用基板の製造方法、反射型マスクブランクの製造方法、及び反射型マスクの製造方法 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD OF ALUMINUM BLANK FOR PRINTED CIRCUIT BOARD例文帳に追加
プリント回路基板用アルミニウム素板の製造方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING MASK BLANK, PROCESSING APPARATUS AND CART例文帳に追加
マスクブランクスの製造方法、処理装置および台車 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD OF RETICLE BLANK FOR CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE例文帳に追加
荷電粒子線露光用レチクルブランクの製造方法 - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR MANUFACTURING BLANK OF OPTICAL DEVICE例文帳に追加
光学素子のブランク製造方法及び製造装置 - 特許庁
METHOD FOR FORMING BLANK CONNECTING PART OF CORRUGATED CARDBOARD PACKAGE例文帳に追加
ダンボール製パッケージのブランク接続部の形成方法 - 特許庁
HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SANE例文帳に追加
ハーフトーン位相シフトマスクブランク及びその製造方法 - 特許庁
METHOD FOR PRODUCING LITHOGRAPHY MASK BLANK AND APPARATUS THEREFOR例文帳に追加
リソグラフィーマスクブランクの製造方法及び製造装置 - 特許庁
METHOD AND DEVICE FOR PICKING UP BLANK STACK例文帳に追加
ブランクのスタックを拾い上げるための方法及び装置 - 特許庁
BLANK FOR FISHING ROD, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND FISHING ROD例文帳に追加
釣竿用ブランク及びその製法並びに釣竿 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING SEAMLESS STEEL TUBE BLANK FOR PRINTING ROLL例文帳に追加
印刷ロール用継目無鋼管素材の製造方法 - 特許庁
PHOTO MASK, PHOTO MASK BLANK AND PHOTO MASK MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
フォトマスク、フォトマスクブランク及びフォトマスクの製造方法 - 特許庁
MASK BLANK, PHOTOMASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME例文帳に追加
マスクブランク及びフォトマスク並びにこれらの製造方法 - 特許庁
MASK BLANK, ITS MANUFACTURING METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING TRANSFER MASK例文帳に追加
マスクブランク及びその製造方法、並びに転写マスクの製造方法 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING SUBSTRATE FOR MASK BLANK, METHOD OF MANUFACTURING MASK BLANK, METHOD OF MANUFACTURING TRANSFER MASK, AND CLEANING METHOD OF TRANSFER MASK例文帳に追加
マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、及び転写用マスクの製造方法、並びに転写用マスクの洗浄方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING GLASS SUBSTRATE FOR MASK BLANK, METHOD FOR MANUFACTURING MASK BLANK, METHOD FOR MANUFACTURING TRANSFER MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
マスクブランクス用ガラス基板の製造方法、マスクブランクスの製造方法、転写マスクの製造方法、及び半導体装置の製造方法 - 特許庁
PHOTOMASK BLANK, RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND PHOTOMASK MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
フォトマスクブランク、レジストパターンの形成方法、及びフォトマスクの製造方法 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD OF MASK BLANK GLASS SUBSTRATE, MANUFACTURING METHOD OF MASK BLANK, MANUFACTURING METHOD OF TRANSFER MASK AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
マスクブランク用ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、および半導体デバイスの製造方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING GLASS SUBSTRATE FOR MASK BLANK, METHOD FOR MANUFACTURING MASK BLANK, METHOD FOR MANUFACTURING EXPOSURE MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
マスクブランクス用ガラス基板の製造方法,マスクブランクスの製造方法,露光用マスクの製造方法,及び,半導体装置の製造方法 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD OF SEMI-FINISHED PRODUCT FOR HIGHLY HOMOGENEOUS OPTICAL ELEMENT, BLANK SUITABLE FOR PERFORMING THE MANUFACTURING METHOD, THE BLANK, AND USE OF THE BLANK OR THE SEMI-FINISHED PRODUCT例文帳に追加
高度に均質な光学要素のための半製品の製造方法、この製造方法を実施するに適したブランクそしてそのブランクもしくは半製品の使用 - 特許庁
PHASE SHIFT MASK BLANK, AND METHOD OF MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK例文帳に追加
位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁
PHASE SHIFTING MASK BLANK, AND METHOD FOR PRODUCING PHASE SHIFTING MASK例文帳に追加
位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁
REFLECTION MASK BLANK AND MANUFACTURING METHOD FOR REFLECTION MASK例文帳に追加
反射型マスクブランク及び反射型マスクの製造方法 - 特許庁
MASK BLANK INSPECTION DEVICE AND OPTICAL ADJUSTMENT METHOD THEREOF例文帳に追加
マスクブランク検査装置およびその光学調整方法 - 特許庁
DEVICE AND METHOD FOR DISCRIMINATING KEY BLANK FROM MASTER KEY例文帳に追加
マスターキーからキーブランクを識別する装置及び方法 - 特許庁
STENCIL MASK, BLANK THEREFOR, AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加
ステンシルマスク用ブランク、ステンシルマスク及びそれらの製造方法 - 特許庁
REFLECTIVE MASK BLANK AND METHOD FOR MANUFACTURING REFLECTIVE MASK例文帳に追加
反射型マスクブランク及び反射型マスクの製造方法 - 特許庁
METHOD FOR INSPECTING CLEANING PERFORMANCE OF BLANK MATERIAL CLEANING DEVICE例文帳に追加
ブランク材洗浄装置の洗浄性能検査方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING GLASS BLANK AND GLASS SUBSTRATE FOR MAGNETIC DISK例文帳に追加
ガラスブランク及び磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 - 特許庁
PHASE SHIFT MASK BLANK AND METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK例文帳に追加
位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁
BLANK FOR SOLID MASK WITH MESH AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
メッシュ一体型マスクの原板及びその製造方法 - 特許庁
REFLECTIVE MASK BLANK, AND METHOD OF MANUFACTURING REFLECTIVE MASK例文帳に追加
反射型マスクブランク及び反射型マスクの製造方法 - 特許庁
GRAY TONE MASK, PATTERN TRANSFER METHOD AND GRAY TONE MASK BLANK例文帳に追加
グレートーンマスク、パターン転写方法、及びグレートーンマスクブランク - 特許庁
MASK BLANK USED IN EUV LITHOGRAPHY, AND MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
EUVリソグラフィに用いるマスクブランク及び製造方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING ALUMINUM ALLOY BLANK FOR MAGNETIC DISC例文帳に追加
磁気ディスク用アルミニウム合金ブランク材の製造方法 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING REFLECTIVE MASK BLANK FOR EUV LITHOGRAPHY例文帳に追加
EUVリソグラフィ用反射型マスクブランクの製造方法 - 特許庁
MULTI-GRADATION PHOTOMASK, PHOTOMASK BLANK, AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加
多階調フォトマスク、フォトマスクブランク、及びパターン転写方法 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD FOR FOUR-GRADATION PHOTOMASK, AND PHOTOMASK BLANK例文帳に追加
4階調フォトマスクの製造方法、及びフォトマスクブランク - 特許庁
METHOD FOR PRODUCING BLANK MATERIAL MADE OF LAMINATED SHEET FOR MAGNETIC DISK例文帳に追加
磁気ディスク用ラミネート板製ブランク材の製造方法 - 特許庁
FLASHLIGHT APPLYING DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK BLANK例文帳に追加
閃光照射装置およびフォトマスクブランクの製造方法 - 特許庁
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