「method blank」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

PHOTOMASK BLANK, METHOD OF MANUFACTURING PHOTOMASK, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

フォトマスクブランク及びフォトマスクの製造方法、並びに半導体装置の製造方法 - 特許庁

TAILORED BLANK MATERIAL FOR AUTOMOBILE FLOOR MEMBER, ITS MANUFACTURING METHOD AND PRESS FORMING METHOD例文帳に追加

自動車フロア部材用テーラードブランク材、その製造方法及びプレス成形方法 - 特許庁

REFLECTIVE MASK BLANK, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME AND METHOD OF MANUFACTURING REFLECTIVE MASK例文帳に追加

反射型マスクブランク及びその製造方法、並びに反射型マスクの製造方法 - 特許庁

To provide a reflective mask blank having a light-shielding frame with high light-shielding properties, and a method of manufacturing the reflective mask blank.例文帳に追加

遮光性の高い遮光枠を有する反射型マスクブランク、及び反射型マスクブランクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide the BLANK of a light emitting diode and its manufacturing method in which the bottom part is not sealed hermetically at the time of molding and heat can be dissipated.例文帳に追加

底部がモールディング時に密封されない、熱を発散できる発光ダイオードのBLANKと製造法を提供すること。 - 特許庁

To provide a laser welding method for welding a tailored blank so that the blank may not be broken, even if molded after welding.例文帳に追加

溶接後に成形に供しても破壊しないようにテイラードブランクを溶接するためのレーザ溶接方法を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING COVER GLASS BLANK FOR ELECTRONIC DEVICE AND METHOD FOR PRODUCING COVER GLASS FOR ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加

電子機器用カバーガラスブランクの製造方法および電子機器用カバーガラスの製造方法 - 特許庁

METHOD FOR PROCESSING END PART OF HOLLOW RESIN SHEET MATERIAL AND METHOD FOR MANUFACTURING CASE BLANK OR BOX例文帳に追加

中空樹脂板材の端部処理方法並びにケースブランクまたは箱の製造方法 - 特許庁

MASK BLANK AND METHOD FOR MANUFACTURING EXPOSURE MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING TEMPLATE FOR IMPRINTING例文帳に追加

マスクブランク及び露光用マスクの製造方法、並びにインプリント用テンプレートの製造方法 - 特許庁

SUBSTRATE STORING LIQUID, SUBSTRATE STORAGE METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING MASK BLANK AND TRANSFER MASK, AND SUBSTRATE CASE例文帳に追加

基板保管液、基板保管方法、マスクブランクと転写マスクの製造方法および基板ケース - 特許庁

DEVICE FOR REMOVING UNNECESSARY FILM, METHOD FOR REMOVING UNNECESSARY FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING MASK BLANK例文帳に追加

不要膜除去装置、および不要膜除去方法、並びにマスクブランクスの製造方法 - 特許庁

GRAY TONE MASK BLANK, METHOD FOR MANUFACTURING GRAY TONE MASK AND GRAY TONE MASK, AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加

グレートーンマスクブランク、グレートーンマスクの製造方法及びグレートーンマスク、並びにパターン転写方法 - 特許庁

BLANK, PHOTOMASK, MANUFACTURING METHOD FOR PHOTOMASK, AND PATTERN TRANSFER METHOD USING THE PHOTOMASK例文帳に追加

ブランク、フォトマスク、フォトマスクの製造方法、及びそのフォトマスクを用いたパターン転写方法 - 特許庁

APPARATUS AND METHOD FOR REMOVING UNWANTED FILM, AND METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK BLANK例文帳に追加

不要膜除去装置および不要膜除去方法、並びにフォトマスクブランク製造方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET, ITS MANUFACTURING METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING MASK BLANK USING IT例文帳に追加

スパッタリングターゲット及びその製造方法並びにそれを用いたフォトマスクブランクの製造方法 - 特許庁

PHASE SHIFT MASK BLANK, PHASE SHIFT MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

位相シフトマスクブランクおよび位相シフトマスクならびにこれらの製造方法 - 特許庁

PHASE SHIFT MASK BLANK AND PHASE SHIFT MASK AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスク並びにこれらの製造方法 - 特許庁

PHASE SHIFT MASK BLANK AND PHASE SHIFT MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスク並びにそれらの製造方法 - 特許庁

PHASE SHIFT MASK BLANK, PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR PRODUCING PHASE SHIFT MASK例文帳に追加

位相シフトマスクブランク、位相シフトマスク及び位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁

PHASE SHIFT MASK BLANK, PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING THEM例文帳に追加

位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスク並びにそれらの製造方法 - 特許庁

PROCESSED PAPER FOR PAPER CONTAINER, BLANK, CARTON, AND METHOD FOR MANUFACTURING PROCESSED PAPER FOR PAPER CONTAINER例文帳に追加

紙器用加工紙、ブランクス、カートンおよび紙器用加工紙の製造方法 - 特許庁

PHOTOMASK BLANK, PHOTOMASK, AND PATTERN TRANSFER METHOD USING THE PHOTOMASK例文帳に追加

フォトマスクブランク及びフォトマスク、並びにフォトマスクを用いたパターン転写方法 - 特許庁

TRANSLUCENT LAYERED FILM, PHOTOMASK BLANK, PHOTOMASK AND METHOD FOR MANUFACTURING THEM例文帳に追加

半透明積層膜、フォトマスクブランク、フォトマスク、およびこれらの製造方法 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD AND APPARATUS FOR HIGH PRECISION INNER SURFACE DEEP-SLOT RING BLANK例文帳に追加

高精度内面深溝リング素形品の製造方法および装置 - 特許庁

HALFTONE PHASE SHIFT MASK, ITS BLANK AND METHOD FOR PRODUCING THOSE例文帳に追加

ハーフトーン型位相シフトマスクおよびそのブランク並びにそれらの製造方法 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK BLANK AND PHASE SHIFT MASK例文帳に追加

位相シフトマスクブランクの製造方法、及び位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁

To provide an EUV mask blank quality determination method which makes it possible to reduce EUV mask manufacturing costs and an EUV mask blank manufacturing method.例文帳に追加

ＥＵＶマスクの製造コストを低減可能なＥＵＶマスク用ブランクの良否判定方法及びＥＵＶマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN AND PHOTOMASK BLANK USED THEREFOR例文帳に追加

レジストパターンの形成方法およびこれに用いられるフォトマスク用ブランクス - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING GRAY TONE MASK, GRAY TONE MASK, AND GRAY TONE MASK BLANK例文帳に追加

グレートーンマスクの製造方法及びグレートーンマスク、並びにグレートーンマスクブランク - 特許庁

BLANK HOLDER FOR MANUFACTURE OF EXPOSURE MASK, AND METHOD OF MANUFACTURING EXPOSURE MASK例文帳に追加

露光マスク作製用のブランクス保持具および露光マスクの製造方法 - 特許庁

MASK FOR EXTREME ULTRA-VIOLET EXPOSURE, BLANK, AND METHOD FOR PATTERN TRANSFER例文帳に追加

極限紫外線露光用マスク及びブランク並びにパターン転写方法 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF CENTER PILLAR OUTER PANEL, AND BLANK FOR CENTER PILLAR OUTER PANEL例文帳に追加

センターピラーアウターパネルの製造方法およびセンターピラーアウターパネル用ブランク - 特許庁

REFLECTIVE MASK BLANK, REFLECTIVE MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR例文帳に追加

反射型マスクブランク及び反射型マスク並びに半導体の製造方法 - 特許庁

EXTREME ULTRAVIOLET EXPOSURE MASK BLANK, MASK, AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加

極端紫外線露光用マスクブランク及びマスク並びにパターン転写方法 - 特許庁

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT EXPOSURE MASK AND BLANK AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加

極限紫外線露光用マスク及びブランク並びにパターン転写方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING PLASMA-TAILORED BLANK OF DIFFERENT THICKNESS STEEL SHEET HAVING EXCELLENT GAP RESISTANCE例文帳に追加

耐ギャップ性に優れた異厚鋼板プラズマテーラードブランク材の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR DEPOSITING REFLECTIVE MULTILAYER FILM OF REFLECTIVE MASK BLANK FOR EUV LITHOGRAPHY AND METHOD FOR PRODUCING REFLECTING MASK BLANK FOR EUV LITHOGRAPHY例文帳に追加

ＥＵＶリソグラフィ用反射型マスクブランクの多層反射膜を成膜する方法、ならびにＥＵＶリソグラフィ用反射型マスクブランクの製造方法 - 特許庁

PROTECTIVE FILM OF BLANK FOR FORMING MULTILAYER SUBSTRATE, INSPECTION EQUIPMENT AND INSPECTION METHOD例文帳に追加

多層基板形成用素板の保護フィルム、検査装置及び検査方法 - 特許庁

MULTI-TONE PHOTOMASK, BLANK FOR MULTI-TONE PHOTOMASK, AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加

多階調フォトマスク、多階調フォトマスク用ブランク及びパターン転写方法 - 特許庁

REFLECTION TYPE PHOTOMASK BLANK, REFLECTION TYPE PHOTOMASK, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

反射型フォトマスクブランク、反射型フォトマスク、半導体装置製造方法 - 特許庁

PHASE SHIFT MASK BLANK, PHASE SHIFT MASK, AND METHOD FOR FABRICATING THEM例文帳に追加

位相シフトマスクブランクおよび位相シフトマスクならびにこれらの製造方法 - 特許庁

The other objective method for producing the above heddle from the monolithic blank (1).例文帳に追加

更に、この発明は、一体形ブランク（１）から綜絖を製造する方法。 - 特許庁

METHOD FOR ELIMINATING STRAIN AND WORK HARDENING OF BLANK FOR CLUTCH ROTOR例文帳に追加

クラッチ・ロータ用ブランクの応力歪み及び加工硬化の解消方法 - 特許庁

REFLECTIVE MASK BLANK, REFLECTIVE MASK, AND METHOD OF MANUFACTURING THEM例文帳に追加

反射型マスクブランクおよび反射型マスク並びにこれらの製造方法 - 特許庁

BLANK MATERIAL HAVING DIFFERENT THICKNESS AND PRESS FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

差厚ブランク材およびその差厚ブランク材を用いたプレス成形方法 - 特許庁