「method blank」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a manufacturing method and device for a tire blank with a special bead.例文帳に追加

特別なビードを有するタイヤブランクの製造方法及び装置を提供する。 - 特許庁

REFLECTIVE MASK BLANK, REFLECTIVE MASK, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

反射型マスクブランク及び反射型マスク並びに半導体装置の製造方法 - 特許庁

MULTI-GRADATION MASK BLANK, METHOD OF MANUFACTURING MULTI-GRADATION PHOTOMASK, AND MULTI-GRADATION PHOTOMASK例文帳に追加

多階調マスクブランクス、多階調フォトマスクの製造方法及び多階調フォトマスク - 特許庁

RETICLE FOR ELECTRON BEAM EXPOSURE, RETICLE BLANK FOR ELECTRON BEAM EXPOSURE AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

電子線露光用レチクル、電子線露光用レチクルブランク及びその製造方法 - 特許庁

MULTI-TONE PHOTOMASK, PHOTOMASK BLANK FOR MULTI-TONE PHOTOMASK, AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加

多階調フォトマスク、多階調フォトマスク用フォトマスクブランク、及びパターン転写方法 - 特許庁

To provide a blank photomask and a method for manufacturing a photomask using the same.例文帳に追加

ブランクフォトマスク及びそれを使用したフォトマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

REFLECTION TYPE PHOTOMASK BLANK, REFLECTION TYPE PHOTOMASK AND METHOD AND DEVICE FOR INSPECTING THE SAME例文帳に追加

反射型フォトマスクブランク、反射型フォトマスク、その検査方法及び検査装置 - 特許庁

REFLECTING MASK BLANK AND REFLECTING TYPE MASK AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

反射型マスクブランクス及び反射型マスク並びに反射型マスクの製造方法 - 特許庁

PRODUCTION METHOD FOR MASK BLANK-USE TRANSLUCENT SUBSTRATE, PRODUCTION METHOD FOR MASK BLANK, PRODUCTION METHOD FOR EXPOSING MASK, PRODUCTION METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE AND PRODUCTION METHOD FOR LIQUID CRYSTAL DISPLAY UNIT, AND METHOD OF CORRECTING DEFECT IN EXPOSING MASK例文帳に追加

マスクブランク用透光性基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、露光用マスクの製造方法、半導体装置の製造方法及び液晶表示装置の製造方法、並びに露光用マスクの欠陥修正方法 - 特許庁

To provide an image forming apparatus having a blank paper discharge prevention function for preventing printing of an electronic file such that a paper is printed as a blank print, in printing and to provide a blank paper discharge prevention method and a blank paper discharge prevention program.例文帳に追加

印刷の際に白紙プリントとなって印刷されてしまうような電子ファイルの印刷を抑制する白紙排紙抑制機能を有する画像形成装置、白紙排紙抑制方法、及び白紙排紙抑制プログラムを提供することをを課題とする。 - 特許庁

HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK, HALFTONE PHASE SHIFT MASK AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加

ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク、ハーフトーン型位相シフトマスク及びパターン転写方法 - 特許庁

BLANK FOR PHASE SHIFT MASK, PHASE SHIFT MASK, AND PATTERN TRANSFER METHOD USING THE SAME例文帳に追加

位相シフトマスク用ブランク及び位相シフトマスク及びそれを用いたパターン転写法 - 特許庁

INTERMITTENT FEEDING DEVICE FOR STRIP-SHAPED BLANK PUNCH PRESS, AND METHOD FOR OPERATING THE SAME例文帳に追加

ストリップ形状ブランクパンチプレス機への断続的供給装置及びその操作方法 - 特許庁

BLANK FOR HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK例文帳に追加

ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク及びハーフトーン型位相シフトマスク製造方法 - 特許庁

REFLECTIVE PHOTOTMASK BLANK, REFLECTIVE PHOTOTMASK, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

反射型フォトマスクブランク及び反射型フォトマスク並びに半導体装置の製造方法 - 特許庁

To develop a method which enables neat mounting and moreover, achieves a method with a simple making process without discrepancy between mesh and blank parts in the formation of the mesh and blank parts.例文帳に追加

目部をブランク部に形成するにあたって目部とブランク部との違和感が無く、きちんと取付けが可能で、しかも製作工程の簡単な方法を開発する。 - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR INTERMITTENTLY FEEDING STRIP-SHAPED BLANK TO PRESS例文帳に追加

ストリップ形状ブランクをプレス機へ間歇的に供給するための装置及び方法 - 特許庁

To obtain a method for producing a thermoplastic resin film not generating a blank of printing ink.例文帳に追加

印刷インクの白抜けのない熱可塑性樹脂フィルムの製造方法の提供。 - 特許庁

REFLECTIVE PHOTOMASK BLANK, REFLECTIVE PHOTO MASK, AND PATTERN TRANSFER METHOD USING THE SAME例文帳に追加

反射型フォトマスクブランク、反射型フォトマスク、ならびにこれを用いたパターン転写方法 - 特許庁

HALFTONE PHASE SHIFTING MASK BLANK, HALFTONE PHASE SHIFT MASK AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加

ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク、ハーフトーン型位相シフトマスク及びパターン転写方法 - 特許庁

This composite plating method consists in applying the composite plating to a blank to be plated, then subjecting this blank to electrolytic treatment and the composite plated products are obtained by this method.例文帳に追加

被めっき素材に複合めっきを施した後、これを電解処理することを特徴とする複合めっき方法および当該方法により得られる複合めっき製品。 - 特許庁

UNIT AND METHOD FOR BENDING FLAT BLANK TO FORM FIRM PACKAGE例文帳に追加

堅固な包装物を形成するために平らな紙を曲げるためのユニット及び方法 - 特許庁

In this method, the opening is made by executing punching to the blank by piercing.例文帳に追加

この方法では、ピアッシングにより素材に打抜き加工を施して開口を開ける。 - 特許庁

TAILORED BLANK MATERIAL FOR HOT PRESS, HOT PRESS MEMBER AND ITS PRODUCTION METHOD例文帳に追加

熱間プレス用テーラードブランク材ならびに熱間プレス部材およびその製造方法 - 特許庁

The method for manufacturing the glass optical element includes heating and softening the glass blank having the carbon-based film on the surface obtained by the above manufacturing method, then press forming the glass blank.例文帳に追加

上記製造方法により得られた表面に炭素系膜を有するガラス素材を加熱軟化し、プレス成形することを含む、ガラス光学素子の製造方法。 - 特許庁

METHOD FOR INSPECTING PHOTOMASK BLANK OR INTERMEDIATE THEREOF AND DETERMINING THE QUALITY THEREOF例文帳に追加

フォトマスクブランク又はその製造中間体の検査方法及び良否判定方法 - 特許庁

LENS WITH HOLDER MOUNTING METHOD AND INTERMEDIATE BLANK THEREFOR, AND LASER MODULE例文帳に追加

ホルダ付きレンズ実装方法、ホルダ付きレンズ用中間素材、ホルダ付きレンズ、レーザモジュール - 特許庁

GLASS BLANK, ITS MANUFACTURING METHOD, METHOD OF MANUFACTURING SUBSTRATE FOR INFORMATION RECORDING MEDIUM, AND METHOD OF MANUFACTURING INFORMATION RECORDING MEDIUM例文帳に追加

ガラスブランク及びその製造方法、情報記録媒体用基板の製造方法、情報記録媒体の製造方法 - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR INSPECTING MASK BLANK, METHOD OF MANUFACTURING REFLECTION TYPE EXPOSURE MASK, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT例文帳に追加

マスクブランク検査装置および方法、反射型露光マスクの製造方法ならびに半導体集積回路の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR DETERMINING FLATNESS OF SUBSTRATE FOR ELECTRONIC DEVICE, PRODUCTION METHOD AND METHOD FOR PRODUCING MASK BLANK AND MASK FOR TRANSFER例文帳に追加

電子デバイス用基板の平坦度決定方法および製造方法、マスクブランクおよび転写用マスクの製造方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING SUBSTRATE WITH MULTILAYER REFLECTION FILM, METHOD FOR MANUFACTURING REFLECTION TYPE MASK BLANK AND METHOD FOR MANUFACTURING REFLECTION TYPE MASK例文帳に追加

多層反射膜付基板の製造方法、反射型マスクブランクの製造方法、及び反射型マスクの製造方法 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING SUBSTRATE WITH MULTILAYER REFLECTIVE FILM, METHOD OF MANUFACTURING REFLECTIVE MASK BLANK, AND METHOD OF MANUFACTURING REFLECTIVE MASK例文帳に追加

多層反射膜付き基板の製造方法、反射型マスクブランクの製造方法、及び反射型マスクの製造方法 - 特許庁

STANDARD SAMPLE FOR CALIBRATION, MANUFACTURING METHOD THEREFOR, CALIBRATION METHOD OF SPECTROPHOTOMETER, MASK BLANK AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加

較正用標準試料及びその製造方法、分光光度計の較正方法、並びにマスクブランク及びその製造方法。 - 特許庁

To provide a blank paper detection unit, an image processor, and a blank paper detection method capable of executing blank paper discrimination processing with high accuracy for efficiently utilizing an arithmetic capability of an SIMD DSP.例文帳に追加

ＳＩＭＤ型ＤＳＰの演算能力を効率よく利用した高精度の白紙判定処理を実行することができる白紙検知ユニット、画像処理装置および白紙検知方法を提供する。 - 特許庁

To provide a blank layout production plan creation method and a system for it capable of improving the production yield and productivity during the blank layout in an original blank for a door material matching an ordered product.例文帳に追加

受注した製品に対応する扉材を原板から板取りする際の、歩留まり向上、生産性の向上が図れる板取の生産計画作成方法及びそのシステムを提供することにある。 - 特許庁

To provide a method and device for correcting a glass blank by which the flatness of the plate-shaped glass blank can easily be corrected.例文帳に追加

板状ガラスブランクスの平坦度を容易に矯正することのできるガラスブランクス矯正方法及びガラスブランクス矯正装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a glass blank for information recording medium substrate having high planarity even when manufacturing the glass blank which is thinner.例文帳に追加

より薄肉のガラスブランクを作製する場合においても高い平坦性を有する情報記録媒体基板用ガラスブランクを作製すること。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING PACKAGE AND OTHER ARTICLE SUBJECTED TO EMBOSS PROCESSING FROM SHEET MATERIAL, BLANK MANUFACTURED THEREBY AND SHEET MATERIAL USING BLANK例文帳に追加

シート材料からエンボス加工したパッケージその他の物品を製造する方法、それにより製造されたブランク、およびそれに使用するシート材料 - 特許庁

REFLECTIVE MASK BLANK, REFLECTIVE MASK, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR例文帳に追加

反射型マスクブランクス及び反射型マスク及びそれらの製造方法並びに半導体の製造方法 - 特許庁

WELDING METHOD FOR HEAT TREATMENT TYPE ALUMINUM ALLOY, AND WELDED BLANK FOR PRESS FORMING OBTAINED BY METHOD THEREBY例文帳に追加

熱処理型アルミニウム合金材の接合方法及びそれによって得られるプレス成形用接合材 - 特許庁

REFLECTIVE PHOTOMASK BLANK AND ITS MANUFACTURING METHOD, REFLECTIVE PHOTOMASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

反射型フォトマスクブランク及びその製造方法、反射型フォトマスク、並びに、半導体装置の製造方法 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK, PHASE SHIFT MASK, PHASE SHIFT MASK BLANK AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

位相シフトマスクの製造方法、位相シフトマスク、位相シフトマスクブランクス及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

BLANK FOR REFLECTIVE PHOTOMASK AND MANUFACTURING METHOD THEREOF, AND REFLECTIVE PHOTOMASK AND MANUFACTURING METHOD THEREOF例文帳に追加

反射型フォトマスク用ブランク及びその製造方法並びに反射型フォトマスク及びその製造方法 - 特許庁

This method is characterized by the shape of a blank for press forming, and a blank B in accordance with the invention is constructed by a base body blank portion 11 corresponding to a flat base body of the formed member, and a concave flange blank portion 17 formed by bending on a concave outer peripheral edge 12 of the base body blank portion.例文帳に追加

本発明法はプレス成形に用いるブランクの形状に特徴があり、本発明に係るブランクＢは成形部材の平坦状の基体に対応する基体用ブランク部１１と、該基体用ブランク部の凹状外周縁１２に曲げ成形される凹状フランジ用ブランク部１７とで構成される。 - 特許庁

BLANK MATERIAL OF MOLD FOR CONTAINER AND MANUFACTURING METHOD FOR MOLD FOR CONTAINER USING THE MATERIAL例文帳に追加

容器用金型のブランク材及びこのブランク材を用いた容器用金型の製作方法 - 特許庁