「pattern for」に関連した英語例文の一覧と使い方(101ページ目) - Weblio英語例文検索

ORGANIC LIGHT-EMITTING DEVICE HAVING LIGHT-EMITTING PATTERN, AND METHOD AND APPARATUS FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加

発光パターンを有する有機発光素子、その製造方法および装置 - 特許庁

RESIST ANTISTATIC FILM LAMINATE, METHOD FOR FORMING RELIEF PATTERN, AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

レジスト帯電防止膜積層体、レリーフパターン形成方法及び電子部品 - 特許庁

RESIST PROTECTIVE FILM COMPOSITION FOR IMMERSION LITHOGRAPHY, AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

液浸露光用レジスト保護膜組成物およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁

VOICE RECOGNITION DEVICE, DEVICE AND METHOD FOR STANDARD PATTERN GENERATION, AND PROGRAM例文帳に追加

音声認識装置と標準パターン作成装置及び方法並びにプログラム - 特許庁

LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE WITH EVALUATION PATTERN DISPOSED THEREON, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

評価パターンを配置した液晶表示装置およびその製造方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, NEW COMPOUND, AND ACID GENERATOR例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物及び酸発生剤 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING GRAY TONE MASK AND GRAY TONE MASK, AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加

グレートーンマスクの製造方法及びグレートーンマスク、並びにパターン転写方法 - 特許庁

MATERIAL FOR FORMING PROTECTIVE FILM AND METHOD OF FORMING PHOTORESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

保護膜形成用材料およびこれを用いたホトレジストパターン形成方法 - 特許庁

NEW COPOLYMER, PHOTORESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING HIGH-ASPECT-RATIO RESIST PATTERN例文帳に追加

新規コポリマー、ホトレジスト組成物、および高アスペクト比のレジストパターン形成方法 - 特許庁

LAYERED PRODUCT AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, PATTERN FORMATION DEVICE, AND TRANSFERRING APPARATUS例文帳に追加

積層品及びその製造方法、パターン形成装置並びに転写装置 - 特許庁

A diffusion pattern for diffusion reflection of light is formed on the reflection surface.例文帳に追加

反射面には光の拡散反射のための拡散パターンが形成される。 - 特許庁

LIQUID DISCHARGING DEVICE, METHOD OF FORMING PATTERN FOR CORRECTION, AND LIQUID DISCHARGING SYSTEM例文帳に追加

液体吐出装置、補正用パターン形成方法、及び、液体吐出システム - 特許庁

PATTERN MOLDING METHOD FOR CONCRETE SURFACE AND DECORATIVE MAT USED IN THE METHOD例文帳に追加

コンクリート表面に対する模様成形法およびそれに用いる化粧マット - 特許庁

CHEMICAL FOR DISSOLVING AND DEFORMING AND DISSOLVING AND DEFORMING TREATMENT METHOD OF ORGANIC FILM PATTERN例文帳に追加

溶解変形用薬液及び有機膜パターンの溶解変形処理方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, NEW COMPOUND, AND ACID GENERATOR例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、および酸発生剤 - 特許庁

LAMINATED SHEET AND METHOD FOR MANUFACTURING CONDUCTIVE PATTERN SHEET MANUFACTURED BY USING THE LAMINATED SHEET例文帳に追加

積層シート、及びそれを用いてなる導電性パターンシートの製造方法 - 特許庁

SPECIFIC PATTERN FOR CLOTHING WHICH DOES NOT OBSTRUCT MOVEMENT AND ITS PRODUCTION例文帳に追加

運動を阻害しない衣類のための特殊パターン及びその製造方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE PASTE COMPOSITION FOR CALCINATION AND CALCINED PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

焼成用感光性ペースト組成物及びそれを用いた焼成物パターン - 特許庁

FORMATION OF THIN FILM PATTERN, PRODUCTION OF MEMBER FOR DISPLAY AND DISPLAY例文帳に追加

薄膜パターン形成方法、ディスプレイ用部材の製造方法およびディスプレイ - 特許庁

DEVICE, METHOD AND PROGRAM FOR WALKING PATTERN GENERATION例文帳に追加

歩行パターン生成装置、歩行パターン生成方法、及び歩行パターン生成プログラム - 特許庁

INTERFERENCE PATTERN PREVENTING TRANSFER FOIL, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, AND TRANSFER MATERIAL例文帳に追加

干渉模様防止転写箔、及びその製造方法、並びに転写体 - 特許庁

METHOD FOR ALIGNING SPATIAL ARRAY OF PATTERN PIECE COMPRISING MARKER METHOD例文帳に追加

マーカ方式を含むパターンピースの空間的配列を整列させるための方法 - 特許庁

RECORDING DEVICE, CUT POSITION ADJUSTING PATTERN, AND METHOD FOR ACQUIRING QUANTITY OF CUT POSITION SLIPPAGE例文帳に追加

記録装置、カット位置調整用パターン、カット位置ずれ量取得方法 - 特許庁

PATTERN EVALUATION METHOD, EVALUATION MARK, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

パターン評価方法、評価マーク、それを用いた半導体装置の製造方法 - 特許庁

DISPENSER DEVICE, PATTERN DEFECT CORRECTION DEVICE, AND METHOD FOR ELIMINATING CLOGGING OF DISPENSER例文帳に追加

ディスペンサ装置、パターン欠陥修正装置、ディスペンサの詰まり解消方法 - 特許庁

DECORATIVE FORM FOR FORMING DECORATIVE IRREGULAR PATTERN ON RISING SURFACE OF CONCRETE例文帳に追加

コンクリートの立ち上がり面に化粧凹凸模様を形成する化粧型枠 - 特許庁

COLORED PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE COMPOSITION例文帳に追加

着色感光性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING LAMINATE HAVING CONDUCTIVE RESIN PATTERN, AND LAMINATE例文帳に追加

導電性樹脂パターンを有する積層体の製造方法、および、積層体 - 特許庁

SYSTEM AND METHOD FOR CAPTURING STRUCTURE OF DATA MODEL USING ENTITY PATTERN例文帳に追加

エンティティパターンを用いてデータモデルの構造をキャプチャするシステムおよび方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING NEW POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION例文帳に追加

新規なポジ型感光性樹脂組成物を用いるレジストパターン形成方法 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM FOR IMPROVING PATTERN FORMATION IN MANUFACTURE OF MICROLITHOGRAPHY例文帳に追加

マイクロリソグラフィ製造におけるパタ—ン形成を改善する方法およびシステム - 特許庁

To inspect the pattern quality of a master carrier for magnetic transfer by an easy method.例文帳に追加

磁気転写用マスター担体のパターン品質を安易な方法で検査する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PATTERN AND ELECTRONIC PART USING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物、パターンの製造法及びこれを用いた電子部品 - 特許庁

RESIST ANTISTATIC FILM LAMINATE, METHOD FOR PRODUCING RELIEF PATTERN, AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

レジスト帯電防止膜積層体、レリーフパターン製造方法及び電子部品 - 特許庁

METHOD, DEVICE, AND PROGRAM FOR MEASURING FINE PATTERN例文帳に追加

微細パターン測定方法、微細パターン測定装置、及び、微細パターン測定プログラム - 特許庁

SEMICONDUCTOR DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR AS WELL AS METHOD FOR FORMING MASK PATTERN例文帳に追加

半導体装置およびその製造方法並びにマスクパターンの生成方法 - 特許庁

INK FOR FORMING CONDUCTOR PATTERN, METHOD OF MANUFACTURING WIRING BOARD, AND WIRING BOARD例文帳に追加

導体パターン形成用インク、配線基板の製造方法および配線基板 - 特許庁

OFFSET PRINTING BLANKET AND PRINTING METHOD FOR ELECTRODE PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

オフセット印刷用ブランケットおよびそれを用いた電極パターンの印刷方法 - 特許庁

RESIST MATERIAL CONTAINING NOVEL PHOTOACID GENERATOR AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

新規光酸発生剤を含有するレジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

METHOD FOR VERIFYING PHOTOMASK PATTERN, VERIFICATION APPARATUS AND CORRECTION METHOD USING SAME例文帳に追加

フォトマスクパターン検証方法、検証装置およびこれを用いた補正方法 - 特許庁

ACETAL COMPOUND, HIGH-MOLECULAR COMPOUND, RESIST MATERIAL AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

アセタール化合物、高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法 - 特許庁

GENERATION DEVICE AND GENERATION METHOD OF FLOODLIGHT PATTERN FOR EXECUTING STEREO CORRESPONDENCE例文帳に追加

ステレオ対応づけのための投光パターンの生成装置及び生成方法 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING RESIST UNDERLAYER FILM, RESIST UNDERLAYER FILM, AND PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加

レジスト下層膜形成用組成物、レジスト下層膜及びパターン形成方法 - 特許庁

To obtain a pattern forming method for realizing a negative silylation process.例文帳に追加

本発明は、ネガ型のシリル化プロセスを実現するパターン形成方法を得る。 - 特許庁

A pattern 5 is formed for positioning the TAB 1 with the probe card 9.例文帳に追加

ＴＡＢ１にプローブカード９との位置合わせ用のパターン５を形成する。 - 特許庁