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pattern forの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 30926件
METHOD AND APPARATUS FOR MANUFACTURING PATTERN ROLL AND METHOD FOR MAKING OPTICAL SHEET例文帳に追加
パターンロールの製作方法及び装置並びに光学シートの製膜方法 - 特許庁
METHOD FOR PATTERN LAYOUT, APPARATUS THEREFOR AND RECORDING MEDIUM WITH PROGRAM FOR THE SAME RECORDED THEREON例文帳に追加
パターンレイアウト方法、その装置およびパターンレイアウトプログラムを記憶した媒体 - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR MANUFACTURING STRUCTURE HAVING PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING MOLD例文帳に追加
パターンを有する構造体の製造方法及び装置、モールドの製造方法 - 特許庁
APPARATUS AND METHOD FOR DETECTING CIRCUIT PATTERN, AND APPARATUS AND METHOD FOR INSPECTION例文帳に追加
配線パターンの検出装置、検出方法、検査装置、及び検査方法 - 特許庁
A pattern PA for evaluation for evaluating a banding suppressing effect is used.例文帳に追加
バンディング抑制効果を評価するための評価用パターンPAを用いる。 - 特許庁
METHOD FOR PATTERN-DYEING YARN LIKE MATERIAL AND CONJUGATED YARN LIKE MATERIAL USED FOR THE SAME例文帳に追加
糸状物の模様染め方法、およびそれに用いる複合糸状物 - 特許庁
METHOD FOR DESIGNING CIRCUIT PATTERN, METHOD FOR EXPOSING AND CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM例文帳に追加
回路パターンの設計方法、露光方法及び荷電粒子ビーム露光システム - 特許庁
COMPOSITION FOR FORMING POROUS FILM, METHOD FOR FORMING PATTERN AND POROUS SACRIFICE FILM例文帳に追加
多孔質膜形成用組成物、パターン形成方法、及び多孔質犠性膜 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR FORMING PATTERN ON EXPOSURE MASK例文帳に追加
半導体装置の製造方法及び露光用マスクへのパターン形成方法 - 特許庁
SUBSTRATE FOR PHOTOMASK, PHOTOMASK, METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK, AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加
フォトマスク用基板、フォトマスク、フォトマスクの製造方法、及びパターン転写方法 - 特許庁
METHOD FOR FORMING MASK PATTERN DATA, PHOTOMASK AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
マスクパターンデータ形成方法、フォトマスク、及び半導体デバイスの製造方法 - 特許庁
CALCULATION METHOD FOR INTERCONNECT CAPACITANCE, AND DESIGN SUPPORT DEVICE FOR WIRING PATTERN例文帳に追加
配線間容量の算出方法および配線パターンの設計支援装置 - 特許庁
DISK REPRODUCING DEVICE, METHOD FOR DETECTING SYNCHRONOUS PATTERN, AND METHOD FOR CONTROLLING DISK ROTATION例文帳に追加
ディスク再生装置、同期パターン検出方法、ディスク回転制御方法 - 特許庁
METHOD FOR FORMING ORGANIC FILM PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING SOLID-STATE IMAGE PICKUP DEVICE例文帳に追加
有機膜パターンの形成方法及び固体撮像素子の製造方法 - 特許庁
RESIST PROTECTIVE FILM COMPOSITION FOR IMMERSION EXPOSURE AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加
液浸露光用レジスト保護膜用組成物およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁
METHOD FOR FORMING PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING LCD DEVICE USING THE SAME例文帳に追加
パターン形成方法及びそれを用いた液晶表示素子の製造方法 - 特許庁
APPARATUS AND METHOD FOR CORRECTING DEFECT, AND METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN SUBSTRATE例文帳に追加
欠陥修正装置、欠陥修正方法、及びパターン基板の製造方法 - 特許庁
METHOD FOR MEASUREMENT OF OVERLAY ACCURACY AND PATTERN FOR MEASUREMENT OF OVERLAY ACCURACY例文帳に追加
重ね合わせ精度測定方法および重ね合わせ精度測定用パターン - 特許庁
STAMPER, METHOD FOR FORMING UNEVEN PATTERN, AND METHOD FOR PRODUCING INFORMATION RECORDING MEDIUM例文帳に追加
スタンパー、凹凸パターン形成方法および情報記録媒体製造方法 - 特許庁
METHOD FOR FORMING PATTERN OF MAGNETIC LAYER, AND METHOD FOR MANUFACTURING MAGNETIC HEAD OF THIN FILM例文帳に追加
磁性層パターンの形成方法および薄膜磁気ヘッドの製造方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING THIN-FILM MAGNETIC HEAD, AND METHOD FOR FORMING MAGNETIC LAYER PATTERN例文帳に追加
薄膜磁気ヘッドの製造方法、ならびに磁性層パターンの形成方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, PATTERN FORMING METHOD AND MASK USED FOR THE SAME例文帳に追加
電子装置の製造方法、パターン形成方法、及びそれに用いるマスク - 特許庁
MANUFACTURING METHOD FOR FINE PATTERN, MANUFACTURING METHOD FOR OPTICAL DEVICE, AND ALIGNER例文帳に追加
微細パターンの製造方法、光学素子の製造方法および露光装置。 - 特許庁
POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR MANUFACTURING LCD, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加
LCD製造用ポジ型ホトレジスト組成物およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁
TRANSFER FILM FOR CALCINATION AND METHOD FOR FORMING BASE SUBSTRATE WITH FUNCTIONAL PATTERN例文帳に追加
焼成用転写フィルムおよび機能性パターン付き基体の形成方法 - 特許庁
METHOD FOR FORMING PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE例文帳に追加
パターン形成方法及びそれを用いた液晶表示装置の製造方法 - 特許庁
RESIST PROTECTIVE FILM COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION EXPOSURE AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加
液浸露光用レジスト保護膜組成物およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁
CHARGED BEAM DEVICE, METHOD FOR MEASURING PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
荷電ビーム装置、パターン測定方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁
PRINTING APPARATUS, AND METHOD FOR FORMING PATTERN FOR LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE USING SAME例文帳に追加
印刷装置及びこれを用いた液晶表示素子のパターン形成方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING THIN-FILM SEMICONDUCTOR AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加
薄膜半導体装置の製造方法及びそのレジストパターン形成方法 - 特許庁
COMPOSITION FOR FORMING RESIST LOWER LAYER FILM, RESIST LOWER FILM AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加
レジスト下層膜形成組成物、レジスト下層膜およびパターン形成方法 - 特許庁
APPARATUS AND METHOD FOR CORRECTING MASK PATTERN, AND APPARATUS AND METHOD FOR EXPOSURE CORRECTION例文帳に追加
マスクパターンの補正装置及び方法、並びに露光補正装置及び方法 - 特許庁
TEST PATTERN IMAGE FOR PROJECTOR ADJUSTMENT, METHOD FOR PROJECTOR ADJUSTMENT, AND PROJECTOR例文帳に追加
プロジェクタの調整用テストパターン画像、プロジェクタの調整方法、及びプロジェクタ - 特許庁
The CPU for display control changes a period for a pattern 1b.例文帳に追加
そこで、表示制御用CPU101は、パターンbの期間を変化させる。 - 特許庁
METHOD FOR CREATING LSI MASK DATA AND METHOD FOR FORMING LSI PATTERN例文帳に追加
LSI用マスクデータの作成方法及びLSI用パターンの形成方法 - 特許庁
PHOTOMASK, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING MASTER INFORMATION CARRIER例文帳に追加
フォトマスクとレジストパターン形成方法及びマスター情報担体の製造方法 - 特許庁
METHOD FOR GENERATING INPUT PATTERN FOR DELAY CHARACTERISTIC ANALYSIS OF SEMICONDUCTOR CIRCUIT例文帳に追加
半導体回路の遅延特性解析のための入力パターン生成方法 - 特許庁
COMPOSITION FOR PHOTORESIST COATING, METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN, AND SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加
フォトレジストコーティング用組成物、フォトレジストパターン形成方法及び半導体素子 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE SILANE COUPLING AGENT, METHOD FOR FORMING PATTERN AND METHOD FOR PRODUCING DEVICE例文帳に追加
感光性シランカップリング剤、パターン形成方法およびデバイスの製造方法 - 特許庁
MASK, PATTERN GENERATING METHOD FOR PHASE SHIFTER, AND MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
マスク、位相シフタのパターン生成方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁
METHOD FOR PRINTING ON GLASS PLATE, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE GLASS PLATE WITH PRINTING PATTERN例文帳に追加
ガラス板の印刷方法及び印刷パターン付きガラス板の製造方法 - 特許庁
SURFACE MODIFIER FOR RESIST AND METHOD FOR FORMATION OF RESIST PATTERN WITH THE SAME例文帳に追加
レジスト表面改質剤及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁
PHOTOSETTING RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PATTERN, AND FILM FOR PROTECTION OF SUBSTRATE例文帳に追加
光硬化性樹脂組成物、パターン形成方法及び基板保護用フィルム - 特許庁
METHOD AND DEVICE FOR CONTINUOUSLY TRANSFERRING PHOTOMASK PATTERN TO LONG-SIZED BLANK AND DEVICE FOR THE SAME例文帳に追加
長尺素材上へのフォトマスクパターンの連続転写方法及び装置 - 特許庁
METHOD FOR FORMING ORGANIC MASK AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
有機マスクの形成方法及び該有機マスクを利用したパターン形成方法 - 特許庁
MATERIAL FOR FORMING PROTECTIVE FILM, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
保護膜形成用材料およびこれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁
PATTERN FORMING METHOD AND OUTWARD APPEARANCE INSPECTING METHOD FOR RETICLE例文帳に追加
レチクルのパターン形成方法及びレチクルの外観検査方法 - 特許庁
POLYMER FOR RESIST, RESIST MATERIAL, AND PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加
レジスト用重合体、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁
TWO-AXES POSITIONER FOR MEASURING ELECTROMAGNETIC WAVE IRRADIATION PATTERN OF WIRELESS EQUIPMENT例文帳に追加
無線機器の電磁波放射パターン測定用2軸ポジショナー - 特許庁
SKIN MATERIAL HAVING CONCAVO-CONVEX PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
凹凸模様を有する表皮材及びその製造方法 - 特許庁
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