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「pattern for」に関連した英語例文の一覧と使い方(49ページ目) - Weblio英語例文検索


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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > pattern forに関連した英語例文

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pattern forの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 30926



例文

METHOD FOR FORMING PATTERN, METHOD FOR FORMING EXPOSURE MASK AND EXPOSURE MASK例文帳に追加

パターン形成方法、露光用マスクの形成方法及び露光用マスク - 特許庁

DETERGENT FOR LITHOGRAPHY AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

リソグラフィー用洗浄剤及びこれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

POLYMERIZABLE COMPOSITION FOR SOLDER RESIST AND METHOD FOR FORMING SOLDER RESIST PATTERN例文帳に追加

ソルダーレジスト用重合性組成物及びソルダーレジストパターンの形成方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING MAGNETIC LAYER PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING THIN-FILM MAGNETIC HEAD例文帳に追加

磁性層パターンの形成方法および薄膜磁気ヘッドの製造方法 - 特許庁

例文

METHOD FOR FORMING LIGHT SHIELDING PATTERN AND METHOD FOR PRODUCING LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE例文帳に追加

遮光パターン形成方法及び液晶表示装置の製造方法 - 特許庁


例文

CLEANING LIQUID FOR LITHOGRAPHY AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

リソグラフィー用洗浄液及びこれを用いたレジストパターンの形成方法 - 特許庁

PRINTING APPARATUS, PRINTING METHOD, PROGRAM FOR PRINTING, AND PATTERN FOR PRINTING CORRECTION例文帳に追加

印刷装置、印刷方法、印刷用プログラム、および印刷補正用パターン - 特許庁

PUNCH PLATE FOR FORMING CONDUCTIVE PATTERN, AND MANUFACTURING METHOD FOR THE PUNCH PLATE例文帳に追加

導電パターン形成用パンチプレート、及びそのパンチプレートの製造方法 - 特許庁

CLEANING LIQUID FOR LITHOGRAPHY AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

リソグラフィー用洗浄液及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

例文

DETERGENT FOR LITHOGRAPHY AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN WITH THE SAME例文帳に追加

リソグラフィー用洗浄剤及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

例文

PAPER PATTERN FOR LAYING MEMBER AND LAYING METHOD FOR LAYING MEMBER BY USE THE SAME例文帳に追加

敷設部材用型紙及びこれを用いた敷設部材の敷設方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION EXPOSURE AND RESIST PATTERN例文帳に追加

液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION FOR THERMAL LITHOGRAPHY, RESIST LAMINATE, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

熱リソグラフィー用レジスト組成物、レジスト積層体、レジストパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOMASK, METHOD FOR INSPECTING PATTERN DEFECT AND METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

フォトマスク、パターン欠陥検査方法、及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING FINE RESIST PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

微細レジストパターンの形成方法、および半導体装置の製造方法 - 特許庁

TOP COAT FOR FORMING VARIEGATED PATTERN AND METHOD FOR FORMING COATING FILM THEREOF例文帳に追加

多彩模様形成用上塗り塗料およびその塗膜の形成方法 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING FOOD WITH MULTICOLORED PATTERN AND MOLD USED FOR THE METHOD例文帳に追加

複数色模様食品の製造方法とその方法に用いるモールド - 特許庁

METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN BY NEAR-FIELD EXPOSURE, A METHOD FOR PROCESSING SUBSTRATE USING METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加

近接場露光によるレジストパターンの形成方法、及び該レジストパターンの形成方法を用いた基板の加工方法、デバイスの作製方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING PATTERN, AND MANUFACTURING METHOD FOR DISPLAY USING THE SAME例文帳に追加

パターン形成方法及びそれを用いた表示装置の製造方法 - 特許庁

MESH PATTERN-ADDED HEAT SEAL PAPER FOR FILTERING LIQUID AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加

メッシュパターン付き液体ろ過用ヒートシール紙およびその製造方法 - 特許庁

METHOD FOR CREATING PIPING ROUTE, APPARATUS FOR CREATING LINEAR PATTERN, AND COMPUTER PROGRAM例文帳に追加

配管経路の生成方法、線状パターン生成装置、コンピュータプログラム - 特許庁

A key opening preset data is then determined for every key zone from the pattern density data for every key zone thus obtaining an accurate preset data.例文帳に追加

そのため、精度のよいプリセットデータを得ることができる。 - 特許庁

SALT FOR ACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN例文帳に追加

酸発生剤用の塩、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 - 特許庁

METHOD FOR ALIGNING PATTERN FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED CIRCUIT BOARD例文帳に追加

パターンフィルムの位置合わせ方法およびプリント配線基板の製造方法 - 特許庁

For example, this invention can be applied for learning of the time-series pattern.例文帳に追加

本発明は、例えば、時系列パターンの学習等に適用できる。 - 特許庁

APPARATUS FOR CALCULATING REPRESENTATIVE POINT OF PATTERN ELEMENT OF NATURAL AND ARTIFICIAL OBJECTS FOR DIGITAL SPATIAL DATA例文帳に追加

デジタル空間データの地物図形要素の代表点算出装置 - 特許庁

ETCHING SOLUTION FOR ALUMINUM THIN FILM AND METHOD FOR FORMING ALUMINUM THIN PATTERN例文帳に追加

アルミニウム薄膜のエッチング液およびアルミニウム薄膜パターン形成方法 - 特許庁

RADIATION-CURING COMPOSITION, METHOD FOR STORING THE SAME, METHOD FOR FORMING CURED FILM, METHOD FOR FORMING PATTERN, METHOD FOR USING PATTERN, ELECTRONIC COMPONENT AND OPTICAL WAVEGUIDE例文帳に追加

放射線硬化性組成物、その保存方法、硬化膜形成方法、パターン形成方法、パターン使用方法、電子部品及び光導波路 - 特許庁

EQUIPMENT AND METHOD FOR CONTROLLING COLOR TONE OF PATTERN FOR PRINTING MACHINE例文帳に追加

印刷機の絵柄色調制御装置及び絵柄色調制御方法 - 特許庁

METALLIC DIE FOR INJECTION MOLDING, AND METHOD FOR MANUFACTURING WAX PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

射出成形金型とそれを使用したワックス模型の製造方法 - 特許庁

MASK FOR EXTREME ULTRA-VIOLET EXPOSURE, BLANK, AND METHOD FOR PATTERN TRANSFER例文帳に追加

極限紫外線露光用マスク及びブランク並びにパターン転写方法 - 特許庁

RESIST DEVELOPER, FORMATION METHOD FOR RESIST PATTERN, AND MANUFACTURING METHOD FOR MOLD例文帳に追加

レジスト現像剤、レジストパターンの形成方法及びモールドの製造方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION LITHOGRAPHY, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING MAGNETIC LAYER PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING THIN FILM MAGNETIC HEAD例文帳に追加

磁性層パターンの形成方法および薄膜磁気ヘッドの製造方法 - 特許庁

METHOD FOR PROCESSING PHOTORESIST LAYER AND METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN FORMING SUBSTRATE例文帳に追加

フォトレジスト層の加工方法およびパターン形成基板の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING CHROMIUM PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL DISPLAY例文帳に追加

クロムパターンの形成方法および液晶表示装置の製造方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR MANUFACTURE OF PHOTOMASK AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

フォトマスク製造用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

METHOD FOR RECORDING SERVO PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING DISK APPARATUS AND DISK APPARATUS例文帳に追加

サーボ・パターンの記録方法、ディスク装置の製造方法、及びディスク装置 - 特許庁

OVERCOAT COMPOSITION FOR PHOTORESIST AND METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN例文帳に追加

フォトレジスト用オーバーコーティング組成物およびフォトレジストパターンの形成方法 - 特許庁

METHOD FOR CORRECTING PHOTOMASK PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK AND RECORDING MEDIUM例文帳に追加

フォトマスクパターンの補正方法、フォトマスクの製造方法および記録媒体 - 特許庁

Lastly, a thicker coating of Yakiba-tsuchi soil (for quenching) is applied for the Shinogichi (ridge line) from the Hamon (blade pattern) to Mune (back). 例文帳に追加

最後に刃紋から棟までを鎬地用焼場土を厚く盛る。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

METHOD AND DEVICE FOR FORMING PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC EQUIPMENT例文帳に追加

パターン形成方法、パターン形成装置および電子機器の製造方法 - 特許庁

LIQUID JET DEVICE, METHOD FOR FORMING PATTERN, AND METHOD FOR SETTING ROTATIONAL AMOUNT例文帳に追加

液体吐出装置、パターン形成方法、及び、回転量設定方法 - 特許庁

ILLUMINATOR, METHOD FOR PROJECTING PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

照明装置、パターン投影方法及び半導体素子の製造方法 - 特許庁

DEVICE, METHOD AND PROGRAM FOR SUPPORTING PROCESS FOR DETERMINING PACKAGING STYLE PATTERN例文帳に追加

荷姿パターンを決定する過程を支援する装置と方法とプログラム - 特許庁

METHOD FOR GENERATING IRRADIATION PATTERN DATA, METHOD FOR MANUFACTURING MASK, AND DRAWING SYSTEM例文帳に追加

照射パターンデータ作成方法、マスク製造方法、及び描画システム - 特許庁

To provide a low cost IC tester by substituting a hardware other than a pattern memory among three kinds of patterns (DRV pattern, CMP pattern and MASK pattern) contained in a pattern memory for CMP pattern section and reducing the capacity of the pattern memory.例文帳に追加

パターンメモリに格納される3種類のパターン(DRVパターン、CMPパターン及びMASKパターン)のうち、CMPパターンの部分をパターンメモリ以外のハードウエアに代替させることによって、パターンメモリの容量を小さくして、原価の低いICテスタを提供する。 - 特許庁

In addition, by transmitting the command for selecting the pattern controlling pattern arbitrarily selected by the main control means 31 to the pattern control means 32, the pattern controlling pattern being practiced by the pattern control means 32 is selected and determined.例文帳に追加

そして、前記主制御手段31が任意に選択した図柄制御パターン選択コマンドを前記図柄制御手段32に送信することで、図柄制御手段32が実行する図柄制御パターンが選択決定されるようにした。 - 特許庁

Also, according to processing in common between the time when normal pattern losing is determined and the time when short normal pattern winning is determined, one normal pattern variation pattern is determined from a plurality of normal pattern variation patterns for losing or short normal pattern winning.例文帳に追加

また、普図ハズレと決定されているときとショート普図当りと決定されているときとで、共通の処理に従って、複数のハズレ/ショート普図当り用の普図変動パターンの中から1つの普図変動パターンを決定する。 - 特許庁

例文

A pattern most approximate to the design pattern is selected from the finely processed test resist patterns, and the test pattern used for the formation of the selected pattern is adopted as a correction pattern (S4, S8).例文帳に追加

微細化されたテスト用レジストパターンの中から前記設計パターンに最も近いパターンを選択し、選択されたパターンの形成に用いたテスト用パターンを補正パターンとして採用する(S4,S8)。 - 特許庁




  
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