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pattern methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 23002件
METHOD AND DEVICE FOR INSPECTING WIRING PATTERN OF FLEXIBLE PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加
フレキシブルプリント配線基板の配線パターン検査方法および検査装置 - 特許庁
AUTOMATIC PREPARATION METHOD FOR PAPER PATTERN FOR CLOTHES AND AUTOMATIC PREPARATION SYSTEM THEREFOR例文帳に追加
衣服の型紙パターンの自動作成方法とその自動作成システム - 特許庁
TRACKING PATTERN FORMING METHOD, APPARATUS THEREFOR AND OPTICAL STORAGE MEDIUM例文帳に追加
トラッキングパターン形成方法、トラッキングパターン形成装置及び光記録媒体 - 特許庁
SILICON-CONTAINING POLYMER COMPOUND, RESIST MATERIAL AND METHOD OF PATTERN FORMATION例文帳に追加
珪素含有高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND POLYMER COMPOUND例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法および高分子化合物 - 特許庁
POLYMER COMPOUND, POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加
高分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE POLYMER COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加
感光性重合体組成物及びパターン製造法及び電子部品 - 特許庁
PATTERN MATCHING METHOD AND DEVICE THEREFOR, AND SPEECH INFORMATION RETRIEVAL SYSTEM例文帳に追加
パターンマッチング方法およびその装置、および音声情報検索システム - 特許庁
POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN, AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加
ポジ型感光性樹脂組成物、パターンの製造方法及び電子部品 - 特許庁
MUTUAL INTERFERENCE VERIFICATION METHOD AND MUTUAL INTERFERENCE VERIFICATION DISPLAY PATTERN FOR ROBOT例文帳に追加
ロボットの相互干渉検証方法および相互干渉表示パターン - 特許庁
SUEDE-LIKE ARTIFICIAL LEATHER HAVING UNEVEN PATTERN AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加
凹凸柄を有するスエード調人工皮革及びその製造方法 - 特許庁
To provide a method for forming an electrode pattern of a ceramic substrate.例文帳に追加
本発明はセラミック基板の電極パターン形成方法を提供する。 - 特許庁
PATTERN OF SILICON WAFER HAVING MOVING MEANS OR METHOD FOR ELIMINATING THIN FILM例文帳に追加
移動手段を有するシリコンウエハのパターンまたは薄膜の除去方法 - 特許庁
PATTERN FORMING METHOD, TFT ARRAY SUBSTRATE AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT例文帳に追加
パターン形成方法及びTFTアレイ基板並びに液晶表示素子 - 特許庁
CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR MANUFACTURING RESIST PATTERN例文帳に追加
化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 - 特許庁
COMPOUND, ACID-FORMING AGENT, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加
化合物、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁
CIRCUIT PATTERN LAYOUT METHOD AND REGISTER CIRCUIT USING THE SAME例文帳に追加
回路パターンの配置方法及び本配置方法を適用したレジスタ回路 - 特許庁
VIRTUAL BIOLOGICAL SYSTEM AND PATTERN LEARNING METHOD IN VIRTUAL BIOLOGICAL SYSTEM例文帳に追加
仮想生物システム及び仮想生物システムにおけるパタン学習方法 - 特許庁
FIELD PATTERN DEFECT DETECTION METHOD IN SEMICONDUCTOR PRODUCTION PROCESS例文帳に追加
半導体製造工程におけるFieldパターン欠陥検出方法 - 特許庁
DETERGENT FOR LITHOGRAPHY AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
リソグラフィー用洗浄剤及びこれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁
PATTERN FORMING METHOD, ELECTRONIC ELEMENT, ELECTRONIC ELEMENT ARRAY, AND IMAGE DISPLAY APPARATUS例文帳に追加
パターン形成方法、電子素子、電子素子アレイ及び画像表示装置 - 特許庁
PRINTER, COMPUTER PROGRAM, PRINTING SYSTEM, METHOD OF PRINTING, AND CORRECTION PATTERN例文帳に追加
印刷装置、コンピュータプログラム、印刷システム、印刷方法、及び、補正用パターン - 特許庁
COMPOUND, DISSOLUTION INHIBITOR, POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR RESIST PATTERN FORMATION例文帳に追加
化合物、溶解抑制剤、ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
感光性樹脂組成物及びこれを利用したパターンの形成方法 - 特許庁
NONWOVEN STRUCTURE WITH EMBOSSED PATTERN, AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加
凹凸模様が付与されてなる不織構造体およびその製造方法 - 特許庁
HIGHLY ELECTROCONDUCTIVE INK COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING METALLIC ELECTROCONDUCTIVE PATTERN例文帳に追加
高導電性インク組成物および金属導電パターンの作製方法 - 特許庁
POSITIVE-TYPE RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN-FORMING METHOD, AND HIGH-MOLECULAR COMPOUND例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法および高分子化合物 - 特許庁
METHOD, APPARATUS AND PAPER FOR IMPARTING IRREGULAR PATTERN, AND PRINTED MATTER例文帳に追加
凹凸形状模様の付与方法、付与装置、付与用紙及び印刷物 - 特許庁
RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION EXPOSURE, AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加
液浸露光用レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE POLYMER COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING RELIEF PATTERN AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加
感光性重合体組成物、レリーフパターンの製造法および電子部品 - 特許庁
RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, NOVEL COMPOUND AND ACID GENERATOR例文帳に追加
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、酸発生剤 - 特許庁
METHOD FOR FORMING PATTERN OF ORGANIC MATERIAL AND DISPLAY APPARATUS USING THE SAME例文帳に追加
有機材料のパターン形成方法及びそれを用いた表示装置 - 特許庁
POLYMER COMPOUND, CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST MATERIAL AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加
高分子化合物、化学増幅レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁
CIRCUIT AND METHOD FOR GENERATING SCRAMBLED/ DESCRAMBLED PATTERN例文帳に追加
スクランブル/デスクランブルパターン発生回路及びスクランブル/デスクランブルパターン発生方法 - 特許庁
HIGH MOLECULAR COMPOUND, CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST MATERIAL AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
高分子化合物、化学増幅レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁
To provide a new resist composition and a new resist pattern forming method.例文帳に追加
新規なレジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
PRINT METHOD, COMPUTER PROGRAM, PRINTER, PRINT SYSTEM, AND CORRECTION PATTERN例文帳に追加
印刷方法、コンピュータプログラム、印刷装置、印刷システム、および補正用パターン - 特許庁
POLYMERIZABLE COMPOSITION FOR SOLDER RESIST AND METHOD FOR FORMING SOLDER RESIST PATTERN例文帳に追加
ソルダーレジスト用重合性組成物及びソルダーレジストパターンの形成方法 - 特許庁
SUBSTRATE STRUCTURE AND METHOD FOR FORMING PATTERN LAYER ON THE SUBSTRATE STRUCTURE例文帳に追加
基板構造及び該基板構造上にパターン層を形成する方法 - 特許庁
TORQUE PATTERN CORRECTION METHOD FOR GENERATOR FOR DISTRIBUTED POWER SUPPLY AND DEVICE FOR THE GENERATOR例文帳に追加
分散電源用発電機のトルクパターン補正方法及びその装置 - 特許庁
METHOD FOR REDUCING NUMBER OF DEFECT OF PATTERN COLLAPSE IN MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
半導体デバイス製造の際のパターンつぶれ欠陥数の低減方法 - 特許庁
POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING RELIEF PATTERN AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加
ポジ型感光性樹脂組成物、レリーフパターンの製造法及び電子部品 - 特許庁
HEAT RESISTANT PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PATTERN AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
耐熱感光性樹脂組成物、パターン製造法及び半導体デバイス - 特許庁
MANUFACTURING METHOD OF SELF-ALIGNED PATTERN AND SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME例文帳に追加
自己整合パターンの製造方法およびそれを用いた半導体装置 - 特許庁
SETTING METHOD OF DIFFUSION PATTERN, SURFACE LIGHTING SYSTEM AND LIQUID CRYSTAL DEVICE例文帳に追加
拡散パターンの設定方法、面状照明装置及び液晶装置 - 特許庁
SEMICONDUCTOR PACKAGE INCLUDING TRANSPLANTABLE CONDUCTIVE PATTERN, AND MANUFACTURING METHOD THEREOF例文帳に追加
移植性導電パターンを含む半導体パッケージ及びその製造方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION, POLYMERIC COMPOUND, AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物、高分子化合物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND HIGH MOLECULAR COMPOUND例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法および高分子化合物 - 特許庁
METHOD FOR PREPARING PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RELIEF PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
感光性樹脂組成物の製造方法、及びそれを用いたレリーフパターン - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE RESIST COMPOSITION例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁
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