「pattern method」に関連した英語例文の一覧と使い方(135ページ目) - Weblio英語例文検索

METHOD OF PRODUCING POLYMERIZABLE COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM AND METHOD OF PRODUCING THE SAME, AND PERMANENT PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

重合性組成物の製造方法、感光性フィルム及びその製造方法、並びに、永久パターンの形成方法 - 特許庁

METHOD FOR GENERATING OPTIMAL LUMINOUS PATTERN OF PLASMA DISPLAY PANEL, METHOD FOR MEASURING CONTOUR NOISE, AND METHOD FOR SELECTING GRAY SCALE例文帳に追加

プラズマディスプレーパネルの最適の発光パターン生成方法と輪郭ノイズ測定方法及びグレースケール選択方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING RESIST UNDERLAY FILM, COMPOSITION FOR RESIST UNDERLAY FILM TO BE USED FOR THE METHOD, AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

レジスト下層膜形成方法及びそれに用いるレジスト下層膜用組成物並びにパターン形成方法 - 特許庁

RESIST PATTERN FORMING METHOD, ETCHING METHOD, METHOD FOR PRODUCING MICROSTRUCTURE, MICROSTRUCTURE AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY例文帳に追加

レジストパターンの形成方法、エッチング方法、マイクロ構造物の製造方法、マイクロ構造物及び液晶表示装置 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD, MANUFACTURING METHOD OF COLOR FILTER, COLOR FILTER, MANUFACTURING METHOD OF ELECTROOPTICAL APPARATUS AND ELECTROOPTICAL APPARATUS例文帳に追加

パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、電気光学装置の製造方法及び電気光学装置 - 特許庁

PRINTING INK COMPOSITION, METHOD FOR LETTERPRESS REVERSED OFFSET, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, METHOD FOR PRODUCING ELECTRONIC COMPONENT AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

印刷インキ組成物、凸版反転オフセット法、レジストパターンの形成法、電子部品の製造法及び電子部品 - 特許庁

FILM DEPOSITING METHOD, METHOD OF FORMING CIRCUIT PATTERN, METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, ELECTROOPTICAL DEVICE, AND ELECTRONIC APPARATUS例文帳に追加

成膜方法、配線パターンの形成方法、半導体装置の製造方法、電気光学装置、及び電子機器 - 特許庁

PRINTING METHOD, PATTERN FILM FORMED BY USING THE PRINTING METHOD, AND INK COMPOSITION USED FOR THE PRINTING METHOD例文帳に追加

印刷方法、この印刷方法を用いて形成されたパターン膜、および、この印刷方法に用いるインク組成物 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD, MANUFACTURING METHOD OF COLOR FILTER, COLOR FILTER, MANUFACTURING METHOD OF ELECTRO-OPTICAL DEVICE AND ELECTRO-OPTICAL DEVICE例文帳に追加

パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、電気光学装置の製造方法及び電気光学装置 - 特許庁

CARBON NANOTUBE PATTERN FORMING METHOD AND CARBON NANOTUBE LAYER FORMATION METHOD BY UTILIZING CHEMICAL SELF-ORGANIZING METHOD例文帳に追加

化学的自己組織化の方法を利用したカーボンナノチューブパターン形成方法およびカーボンナノチューブ層形成方法 - 特許庁

METHOD OF ESTIMATING DEPTH OF DECARBONIZED LAYER, METHOD OF CONTROLLING DEPTH OF DECARBONIZED LAYER, DEVICE FOR ESTIMATING DEPTH OF DECARBONIZED LAYER, AND METHOD OF DETERMINING HEAT PATTERN例文帳に追加

脱炭層深さの推定方法、制御方法及び推定装置並びにヒートパターンの決定方法 - 特許庁

DOUBLE PATTERNING OPTIMIZATION METHOD AND SYSTEM, PATTERN FORMATION METHOD AND SYSTEM, EXPOSURE DEVICE AND MANUFACTURING METHOD OF DEVICE例文帳に追加

ダブルパターニング最適化方法及びシステム、パターン形成方法及びシステム、露光装置、並びにデバイス製造方法 - 特許庁

MULTIPLE GRADATION PHOTOMASK, METHOD OF MANUFACTURING MULTIPLE GRADATION PHOTOMASK, PATTERN TRANSFER METHOD, AND METHOD OF MANUFACTURING THIN-FILM TRANSISTOR例文帳に追加

多階調フォトマスク、多階調フォトマスクの製造方法、パターン転写方法、及び薄膜トランジスタの製造方法 - 特許庁

THERMAL TREATMENT METHOD, METHOD OF FORMING WIRING PATTERN, ELECTRO-OPTICAL DEVICE, ITS MANUFACTURING METHOD, AND ELECTRONIC APPARATUS例文帳に追加

熱処理方法、配線パターンの形成方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置及び電子機器 - 特許庁

MASK, MANUFACTURING METHOD OF MASK, FORMING METHOD OF THIN FILM PATTERN, MANUFACTURING METHOD OF ELECTRO-OPTICAL DEVICE, AND ELECTRONIC APPARATUS例文帳に追加

マスク、マスクの製造方法、薄膜パターンの形成方法、電気光学装置の製造方法および電子機器 - 特許庁

METHOD FOR PROMOTING SELF-FORMATION OF BLOCK COPOLYMER AND METHOD FOR FORMING SELF-FORMATION PATTERN OF BLOCK COPOLYMER USING THE METHOD FOR PROMOTING SELF-FORMATION例文帳に追加

ブロックコポリマーの自己組織化促進方法及びそれを用いたブロックコポリマーの自己組織化パターン形成方法 - 特許庁

METHOD FOR CORRECTING DEFECT IN GRAY TONE MASK, METHOD FOR MANUFACTURING GRAY TONE MASK, GRAY TONE MASK, AND METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN例文帳に追加

グレートーンマスクの欠陥修正方法、グレートーンマスクの製造方法及びグレートーンマスク、並びにパターン転写方法 - 特許庁

After a shift between the resist pattern on the pattern for interlayer shift measurement and the pattern for interlayer shift measurement is measured, the resist pattern on the pattern for interlayer shift measurement is removed by ashing while the resist pattern in the display region is left, the remaining resist pattern in the display region is used as a mask to pattern the second layer in the method of manufacturing the display device.例文帳に追加

その後、層間ズレ測定用パターン上のレジストパターンと層間ズレ測定用パターンとのズレを測定した後、アッシングにより表示領域に位置するレジストパターンを残しつつ層間ズレ測定用パターン上のレジストパターンを除去し、残った表示領域のレジストパターンをマスクとして第２層をパターニングする表示装置の製造方法。 - 特許庁

To provide a pattern verifying method, used in a double patterning method in which after a first pattern is formed in a film to be processed, a second pattern is formed in the film to be process, verifying a pattern in consideration of a superposition error.例文帳に追加

被加工膜に第１のパターンを形成してから被加工膜に第２のパターンを形成するダブルパターニング法に用いられ、重ね合わせ誤差を考慮してパターンを検証することができるパターン検証方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern generator and capable of generating test pattern data by an interleave method without having to analyze or creating internal operations for pattern generation for each interleave operation, and to provide a pattern generating method.例文帳に追加

パターン生成のための内部演算をインターリーブ動作の各々に対して分析して作成しなくても、インターリーブ方式でテストパターンデータの生成が可能な半導体テストのためのパターン生成装置及びパターン生成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern data high-speed drawing method of large-scale pattern data for rapidly and rationally drawing large-scale pattern data expressed by XY coordinate on a display device, and a pattern data high-speed drawing device suitable for the execution of the method.例文帳に追加

ＸＹ座標で表現される大規模図形データを、ディスプレイ装置上に迅速かつ合理的に描画する大規模図形データ高速描画方法および該方法の実行に適する図形データ高速描画装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a precise and fine film pattern, the film pattern obtained by the film pattern forming method, a wiring structure that includes the film pattern, and a semiconductor device that includes the wiring structure.例文帳に追加

精密で微細な膜パターンを得ることができる膜パターンの形成方法、該膜パターンの形成方法により得られた膜パターン、該膜パターンを含む配線構造体、ならびに該配線構造体を含む半導体装置を提供する。 - 特許庁

METHOD OF DETECTING HOLE PATTERN AND HOLE PATTERN DETECTOR, AND METHOD OF MEASURING HOLE AREA AT HOLE CENTER, AND DEVICE FOR MEASURING AREA OF HOLE AT THE HOLE CENTER例文帳に追加

ホールパターン検出方法及びホールパターン検出装置、ホール中央部の穴面積測定方法及びホール中央部の穴面積測定装置 - 特許庁

To provide a method for forming a thin film pattern in which defects, such as disconnections and short-circuitings can be prevented in the thin-film pattern formed using an ink jet method.例文帳に追加

インクジェット法により形成される膜パターンに、断線や短絡等の欠陥の発生を抑止できる配線形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a resist pattern such that the accuracy of a photomask or alignment accuracy do not influence the position accuracy of the resist pattern to be formed, and to provide a method for manufacturing a color filter by using the above method for forming the resist pattern.例文帳に追加

フォトマスクの精度やアライメント精度が、形成されるレジストパターンの位置精度に影響しないレジストパターンの形成方法、およびそのレジストパターンの形成方法を用いたカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resist pattern forming method for preventing residue generated between resist side walls without fluctuating the dimension of a resist pattern interval, and to provide a method for manufacturing the semiconductor device using the resist pattern forming method.例文帳に追加

レジストパターン間隔の寸法を変動させることなく、レジスト側壁間に発生した残さを解消するレジストパターン成形方法およびその方法を用いた半導体デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a high precision micro resist pattern coping with the high performance of an electronic component, and to provide a method for forming a wiring pattern.例文帳に追加

電子部品の高性能化に対応した高精度な微細レジストパターンの形成方法および配線パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

OPTICAL FIBER EXCITATION PATTERN DETECTING METHOD, OPTICAL FIBER REFERENCING DEVICE HAVING EXCITATION PATTERN DETECTING FUNCTION, AND OPTICAL FIBER REFERENCING METHOD例文帳に追加

光ファイバの加振パターンの検出方法及び加振パターン検出機能を有する光ファイバの対照装置並びに光ファイバの対照方法 - 特許庁

ELECTROCONDUCTIVE BASE MATERIAL FOR PLATING, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, AND METHOD FOR MANUFACTURING CONDUCTOR LAYER PATTERN USING THE BASE MATERIAL OR BASE MATERIAL WITH THE CONDUCTOR LAYER PATTERN例文帳に追加

めっき用導電性基材、その製造方法及びそれを用いた導体層パターン若しくは導体層パターン付き基材の製造方法。 - 特許庁

To provide a method for forming a pattern which is capable of forming an objective pattern with good shape accuracy only by the adaption of a coating/printing method.例文帳に追加

塗布印刷法の適応のみによって形状精度良好に目的パターンを形成することが可能なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR ESTIMATING PATTERN SHAPE IN CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE TRANSFER, AND METHOD FOR DETERMINING RETICLE PATTERN USED IN CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE TRANSFER例文帳に追加

荷電粒子線露光転写におけるパターン形状の推定方法、及び荷電粒子線露光転写に使用するレチクルパターンの決定方法 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a relief pattern improved in residual film ratio and an electronic part having the relief pattern formed by the manufacturing method.例文帳に追加

残膜率が向上するレリーフパターンの製造方法、及び当該製造方法で形成されたレリーフパターンを有する電子部品を提供する。 - 特許庁

DISCHARGE PATTERN GENERATING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING COLOR FILTER AND ORGANIC FUNCTIONAL ELEMENT USING IT, AND DISCHARGE PATTERN GENERATING APPARATUS USED FOR IT例文帳に追加

吐出パターンの生成方法、及びこれを用いたカラーフィルタと有機機能性素子の製造方法、及びこれに用いる吐出パターンの生成装置 - 特許庁

To provide a method of forming a resist pattern, by which the dimension of a resist pattern can be reduced with high dimensional controllability, regardless of the roughness and denseness of the pattern, and to provide a method of manufacturing a semiconductor device using the method.例文帳に追加

パターンの疎密にかかわらず、高い寸法制御性でパターン寸法の縮小化を図ることができるレジストパターンの形成方法およびその方法を用いた半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a mask pattern for semiconductor device fabrication and a forming method thereof, and a manufacturing method for a semiconductor device with a fine pattern.例文帳に追加

半導体素子製造用のマスクパターン及びその形成方法、並びに微細パターンを有する半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method or the like of forming a pattern by which the pattern is formed without using a resist as an etching mask and without using a lift-off method.例文帳に追加

レジストをエッチングマスクとして用いず、またリフトオフ法を用いることなくパターン形成が可能となるパターンの形成方法等を提供する。 - 特許庁

(1) The resist pattern is formed by using a resist pattern forming method based on a direct resist plotting method using a plotter or dispenser.例文帳に追加

（１）レジスト直描方式によるレジストパターン形成方法を用い、該レジスト直描方式がプロッターまたはディスペンサーを用い、レジストパターンを形成する。 - 特許庁

To provide the method of manufacturing an electronic apparatus for forming a pattern narrower than the pattern size of a relief plate in a microcontact printing method.例文帳に追加

マイクロコンタクトプリント法において、版のパターンサイズよりも細いパターンを形成することのできる、電子装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a pattern forming method that can excellently form an ultrafine pattern even when photocuring composition is applied by using an ink jetting method.例文帳に追加

インクジェット法を用いて光硬化組成物の適用を行っても超微細パターンが良好に形成できるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

PATTERN RECOGNITION DEVICE, PATTERN RECOGNITION METHOD, AND COMPUTER-READABLE RECORDING MEDIUM WITH PROGRAM FOR EXECUTION OF THE SAME METHOD ON COMPUTER RECORDED THEREON例文帳に追加

パターン認識装置、パターン認識方法およびその方法をコンピュータに実行させるプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a pattern formation for forming a highly accurate pattern in a simple method.例文帳に追加

本発明は、簡易な方法で、高精細なパターンを形成可能なパターン形成体の製造方法を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁

METHOD FOR FORMING PATTERN FOR ADJUSTING RECORDING POSITION, METHOD FOR ADJUSTING IMAGE RECORDING POSITION, APPARATUS FOR FORMING PATTERN FOR ADJUSTING RECORDING POSITION, AND IMAGE RECORDING APPARATUS例文帳に追加

記録位置調整用パターンの形成方法、画像記録位置調整方法、記録位置調整用パターン形成装置及び画像記録装置 - 特許庁

To provide a pattern forming method whereby it is possible to form a uniform and fine-sized hole pattern on a processed film through the use of a heat shrink method.例文帳に追加

熱シュリンク法を用いて、被加工膜に均一且つ微細な寸法のホールパターンを形成することのできるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

PROCESSED PIGMENT, PIGMENT DISPERSION COMPOSITION, METHOD FOR FORMING COLORED PATTERN, COLORED PATTERN, METHOD FOR PRODUCING COLOR FILTER, COLOR FILTER, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE例文帳に追加

加工顔料，顔料分散組成物，着色パターン形成方法、着色パターン、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、及び液晶表示素子 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a pattern by which a semiconductor element or a display element can be inexpensively manufactured, and to provide a pattern formed by the above method.例文帳に追加

低コストで半導体素子または表示素子を製造することができる、パターンの製造法とそれにより形成されるパターンの提供。 - 特許庁