「pattern method」に関連した英語例文の一覧と使い方(134ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for manufacturing a conductive pattern-formed substrate, capable of simply forming a conductive pattern while the conductive pattern-formed substrate obtained using the method hardly causes positional displacement in printing and assembly.例文帳に追加

導電パターンを簡便に形成できる上に得られる導電パターン形成基板は印刷や組み立てにおいて位置ずれしにくい導電パターン形成基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To form a fine pattern having a high aspect ratio exceeding the limit of exposure with good reproducibility, with respect to a fine pattern forming method, a method for manufacturing a magnetic recording device and a fine pattern forming apparatus.例文帳に追加

微細パターン形成方法、磁気記録装置の製造方法、及び、微細パターン形成装置に関し、露光限界を超えたアスペクト比の大きな微細パターンを再現性良く形成する。 - 特許庁

CONDUCTIVE SUBSTRATE FOR PLATING, MANUFACTURING METHOD THEREOF, METHOD OF MANUFACTURING CONDUCTIVE PATTERN OR SUBSTRATE WITH CONDUCTIVE PATTERN USING THE SAME, SUBSTRATE WITH CONDUCTIVE LAYER PATTERN, AND LIGHT TRANSPARENT ELECTROMAGNETIC WAVE SHIELDING MEMBER例文帳に追加

めっき用導電性基材、その製造法、それを用いた導体層パターン若しくは付き基材の製造方法、導体層パターン付き基材及び透光性電磁波遮蔽部材 - 特許庁

To provide a pattern recognition method, a character recognition method, a pattern recognition program and a character recognition program for quickening processing by performing processing to efficiently recognize a pattern.例文帳に追加

効率的にパターンを認識する処理を行うことにより、処理の高速化を図れるパターン認識方法、文字認識方法、パターン認識プログラムおよび文字認識プログラムを提供できる。 - 特許庁

To provide a method for drawing a pattern by which repeated patterns can be drawn without causing pattern abnormality, and also to provide a method for manufacturing a photomask and a photomask, wherein high accuracy of pattern drawing is attained.例文帳に追加

パターン異常を生じさせずに繰り返しパターンが描画できるパターン描画方法及びフォトマスク製造方法、並びにフォトマスクを得、パターン描画の精度向上を図る。 - 特許庁

To provide a surface treatment method by which pattern tumbles of a resin pattern and an etching pattern can be prevented effectively, and to provide a surface treatment liquid for use in the surface treatment method.例文帳に追加

樹脂パターンや被エッチングパターンのパターン倒れを効果的に防止することが可能な表面処理方法、及びその表面処理方法で用いられる表面処理液を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming an uneven pattern where not only the contour of a pressed flower or a thin pattern member with an uneven pattern but also details beautifully stand out on a metal sheet, and a method for forming a seal.例文帳に追加

押し花や凹凸模様のある薄い模様部材の輪郭はもちろん、細部まで、美しく金属シートに浮き出させる凹凸模様作成方法およびシールの作成方法。 - 特許庁

The spherical spacers 15 are disposed on the pixel pattern and are disposed using an ink jet method or a print method on one kind of the dummy pattern part among the two or more kinds of the dummy pattern parts.例文帳に追加

球状スペーサ１５は、画素パターン上に配置され、かつ、複数種類のダミーパターン部の１種類のダミーパターン部上にインクジェット工法又は印刷法を用いて配置されている。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a mask pattern having a fine pattern equal to or below the optical limit of an exposer or the like and to provide a method for making thin film patterning fine with the mask pattern.例文帳に追加

露光器などの光学的限界以下の狭小なパターンを有するマスクパターンを作製する方法を提供し、もって薄膜パターニングを狭小化する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for fine pattern formation for suppressing the film thickness of a crosslinked film and causing no development defect in a method of effectively microfabricating a fine resist pattern by using a fine pattern forming material.例文帳に追加

微細パターン形成材料を用いて実効的にレジストパターンを微細化する方法において、架橋膜膜厚を抑え、尚且つ現像欠陥がない微細パターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide an inspection device capable of simply discriminating the flaw on a transmission pattern or the flaw on a shading pattern, and to provide an inspection method and a manufacturing method of a pattern substrate.例文帳に追加

透過パターン上の欠陥か、遮光パターン上の欠陥かを簡便に判別することができる検査装置及び検査方法ならびにパターン基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a test pattern with which a circuit pattern can be inspected for defects with high sensitivity in a semiconductor manufacturing process, a method for detecting defect, and a method for managing manufacturing process both of which use the test pattern.例文帳に追加

半導体製造プロセスにおける回路パターンの不良を高感度に検査可能なテストパターンと、これを用いた不良検出方法および製造プロセス管理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a removing plate used for a reversing printing method having a pixel pattern area and a peripheral pattern area with different sizes and a pattern forming method.例文帳に追加

反転印刷法に用いる除去版であって、異なる大きさの画素パターン部と周辺パターン部を有する除去版およびパターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for forming a photosensitive resin film pattern using a multilayer photosensitive resin film and to provide a method for forming a pattern of a semiconductor device using the above photosensitive resin film pattern.例文帳に追加

多層感光性樹脂膜を用いた感光性樹脂膜パターン形成方法及びこの感光性樹脂膜パターンを使用する半導体装置のパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method and pattern forming apparatus capable of forming satisfactory fine patterns by preventing pattern blurring when fine patterns are formed using an ink-jet method.例文帳に追加

インクジェット方式を用いた微細パターンの形成におけるパターンのにじみが防止され、好ましい微細パターン形成が実現されるパターン形成方法及びパターン形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a multi-gradation photomask which has a resist pattern having a desired remaining film value of thickness in a translucent area without reference to a pattern shape and a method of manufacturing the same, and a pattern transfer method.例文帳に追加

半透光領域においてパターン形状によらず、所望の厚さの残膜値のレジストパターンを得ることができる多階調フォトマスク及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a radiation-curing composition giving a hardened body excellent in pattern accuracy even under relatively small exposure energy, a method for storing the same, a method for forming a cured film, and a pattern forming method, and to provide a pattern using method using a pattern as a resist mask, electronic components, and an optical waveguide.例文帳に追加

露光量が比較的少なくても、パターン精度に優れた硬化物が得られる放射線硬化性組成物、その保存方法、硬化膜形成方法及びパターン形成方法を提供すると共に、それを用いたパターン使用方法、電子部品及び光導波路を提供する。 - 特許庁

To provide: a generation method of pattern data for electron beam drawing, which can draw an excellent minute pattern without using a trial-and-error method by test drawing, in drawing a minute pattern using an electron beam drawing device; a proximity effect correction method used for it; and a pattern formation method using the data.例文帳に追加

電子線描画装置を用いて極小なパターンを描画する際、テスト描画による試行錯誤無しに、良好な極小パターンが描画できる電子線描画用パターンデータの作成方法及びそれに用いる近接効果補正方法、そのデータを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-curing composition giving a hardened body excellent in pattern accuracy even under relatively small exposure energy, a method for storing the same, a method for forming a cured film, and a pattern forming method, and to provide a pattern using method using the pattern as a resist mask, electronic components, and an optical waveguide.例文帳に追加

露光量が比較的少なくても、パターン精度に優れた硬化物が得られる放射線硬化性組成物、その保存方法、硬化膜形成方法及びパターン形成方法を提供すると共に、それを用いたパターン使用方法、電子部品及び光導波路を提供する。 - 特許庁

RESIST FORM PATTERN, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING MASTER INFORMATION CARRIER, METHOD FOR MANUFACTURING MAGNETIC RECORDING MEDIUM, METHOD FOR MANUFACTURING MAGNETIC RECORDING AND REPRODUCING APPARATUS, AND MAGNETIC RECORDING AND REPRODUCING APPARATUS例文帳に追加

レジスト形状パターン、レジストパターン形成方法、マスター情報担体の製造方法、磁気記録媒体の製造方法、磁気記録再生装置の製造方法、および磁気記録再生装置 - 特許庁

RESIST SHAPE PATTERN, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING MASTER INFORMATION CARRIER, METHOD FOR MANUFACTURING MAGNETIC RECORDING MEDIUM, METHOD FOR MANUFACTURING MAGNETIC RECORDING AND REPRODUCING APPARATUS, AND MAGNETIC RECORDING AND REPRODUCING APPARATUS例文帳に追加

レジスト形状パターン、レジストパターン形成方法、マスター情報担体の製造方法、磁気記録媒体の製造方法、磁気記録再生装置の製造方法および磁気記録再生装置 - 特許庁

MOLECULAR FILM PATTERN FORMING METHOD, MOLECULAR FILM PATTERN, METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE, SEMICONDUCTOR DEVICE, METHOD FOR PRODUCING OPTOELECTRONIC DEVICE, OPTOELECTRONIC DEVICE, METHOD FOR PRODUCING ELECTRONIC DEVICE AND ELECTRONIC APPLIANCE例文帳に追加

分子膜パターンの形成方法、分子膜パターン、半導体装置の製造方法、半導体装置、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、電子装置の製造方法、及び電子機器 - 特許庁

CONTACT HOLE FORMING METHOD, CONDUCTING POST FORMING METHOD, WIRING PATTERN FORMING METHOD, MULTILAYERED WIRING SUBSTRATE PRODUCING METHOD, AND ELECTRONIC APPARATUS PRODUCING METHOD例文帳に追加

コンタクトホール形成方法、導電ポスト形成方法、配線パターン形成方法、多層配線基板の製造方法、及び電子機器製造方法 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING ALKALINE SOLUTION, THE ALKALINE SOLUTION, PATTERN-FORMING METHOD, RESIST FILM PEELING METHOD, CHEMICAL AGENT APPLYING DEVICE, WAFER-TREATING METHOD AND CHEMICAL AGENT SUPPLYING METHOD例文帳に追加

アルカリ液の製造方法，アルカリ液，パターン形成方法，レジスト膜の剥離方法，薬液塗布装置，基板処理方法，及び薬液供給方法 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM OF DRIVING MOVABLE BODY, METHOD AND DEVICE OF FORMING PATTERN, EXPOSURE METHOD AND APPARATUS, DEVICE MANUFACTURING METHOD, AND MEASURING METHOD例文帳に追加

移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及び装置、露光方法及び装置、デバイス製造方法、並びに計測方法 - 特許庁

METHOD FOR ESTIMATING FILM THICKNESS, LAYOUT DESIGN METHOD, MASK PATTERN DESIGNING METHOD FOR EXPOSING MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT例文帳に追加

膜厚予測方法、レイアウト設計方法、露光用マスクのマスクパターン設計方法、及び、半導体集積回路の作製方法 - 特許庁

To provide a pattern forming method by which a pattern having high sensitivity and resolution, small line width roughness (LWR), and a superior exposure latitude (EL) and pattern form is formed, to provide a pattern formed by the pattern forming method, and to provide a chemically amplified resist composition used in the pattern forming method, and a resist film formed of the chemically amplified resist composition.例文帳に追加

感度及び解像力が高く、線幅バラツキ（ＬＷＲ）が小さく、露光ラチチュード（ＥＬ）及びパターン形状に優れたパターンを形成できるパターン形成方法、該パターン形成方法から形成されたパターン、該パターン形成方法に用いられる化学増幅型レジスト組成物、及び、該化学増幅型レジスト組成物により形成されるレジスト膜を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern projection aligner that can accurately prepare patterns with high throughput, even if a fine pattern, a pattern having thick line width, a pattern having painted large area, and the like are combined, and to provide a pattern preparation method.例文帳に追加

微細なパターンと線幅の太いパターンあるいは大面積の塗りつぶしパターン等が混在している場合においても、高精度、高スループットによってパターン作製が可能なパターン露光装置及びパターン作製方法を提供する。 - 特許庁

In the case of conducting measurements by phase shift method through the use of one period of a sinusoidal wave pattern or more, a first pattern, which is a sinusoidal wave pattern, and a second pattern for indicating the location of the phase boundary of the sinusoidal wave pattern are used together.例文帳に追加

１周期以上の正弦波パターンを使用して位相シフト法による計測を行う場合において、正弦波パターンである第１パターンと、その正弦波パターンの位相境界の位置を示すための第２パターンとを併用する。 - 特許庁

To provide a wiring pattern forming apparatus for a circuit substrate which inspects the three-dimensional surface profile of a wiring pattern and discharges colloid liquid locally in the pattern missing part and repairs it locally in the pattern missing part, and to provide a method of repairing the wiring pattern.例文帳に追加

配線パターンの立体的な表面形状を検査し、そのパターン欠損部に局所的にコロイド液を吐出して補修する回路基板用配線パターン形成装置および配線パターンの補修方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a color pattern by which formability of a corner of a color pattern is improved, limitation of pattern formation for forming a pattern with a preferable corner shape is improved, and a finer pattern can be formed.例文帳に追加

着色パターンの角（コーナー）の形成性が向上し、角（コーナー）の形状が良好なパターンを形成できるパターン形成限界が向上し、より微細なパターンの形成が可能となる着色パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a forming method for a minute pattern with a narrowed pattern interval of a resist pattern, which can form a minute pattern formation material surely on a surface of the resist pattern.例文帳に追加

本発明は、レジストパターンのパターン間隔を狭小化させた微細パターンの形成方法に関し、微細パターン形成材料を確実にレジストパターン表面に形成できる微細パターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF MAGNETORESISTIVE EFFECT ELEMENT, MANUFACTURING METHOD OF THIN FILM MAGNETIC HEAD AND FORMING METHOD OF THIN FILM PATTERN例文帳に追加

磁気抵抗効果素子の製造方法および薄膜磁気ヘッドの製造方法ならびに薄膜パターン形成方法 - 特許庁

METHOD FOR CORRECTING DEFECT IN GRAY TONE MASK, METHOD FOR MANUFACTURING GRAY TONE MASK AND GRAY TONE MASK, AND METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN例文帳に追加

グレートーンマスクの欠陥修正方法、グレートーンマスクの製造方法及びグレートーンマスク、並びにパターン転写方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING THIN-FILM PATTERN, METHOD FOR PRODUCING MAGNETO-RESISTIVE EFFECT ELEMENT AND METHOD FOR MANUFACTURING THIN-FILM MAGNETIC HEAD例文帳に追加

薄膜パターンの形成方法、磁気抵抗効果素子の製造方法および薄膜磁気ヘッドの製造方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING THIN FILM TRANSISTOR SUBSTRATE, METHOD FOR MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL DISPLAY, AND EXPOSURE MASK例文帳に追加

パターン形成方法、薄膜トランジスタ基板の製造方法、液晶表示装置の製造方法、及び露光マスク - 特許庁

METHOD FOR FORMING LIFT-OFF MASK PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING MAGNETIC ELEMENT AND THIN FILM MAGNETIC HEAD BY THE METHOD例文帳に追加

リフトオフマスクパタン形成方法及びこれを使用した磁性体素子並びに薄膜磁気ヘッドの製造方法 - 特許庁

DOT PATTERN DISPLAY MEDIUM AS WELL AS METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, AUTHENTICITY DISCRIMINATION METHOD AND COPYING PREVENTION METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ドットパターン表示媒体並びにこの作製方法、これを用いた真偽判定方法及び複写防止方法 - 特許庁

COLOR TONE CONFIRMING METHOD AND APPARATUS BEFORE PRINTING BY PRINTER, PLATEMAKING METHOD, AND PATTERN COLOR TONE CONTROL METHOD OF PRINTER例文帳に追加

印刷機の印刷前の色調確認方法及び装置，製版方法，印刷機の絵柄色調制御方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING THIN FILM PATTERN, METHOD FOR PRODUCING THIN FILM ELEMENT, METHOD FOR PRODUCING THIN FILM MAGNETIC HEAD AND THIN FILM ELEMENT例文帳に追加

薄膜パターンの形成方法、薄膜素子の製造方法、薄膜磁気ヘッドの製造方法及び薄膜素子 - 特許庁

COEFFICIENT DETERMINING METHOD, FEATURE EXTRACTING METHOD, ITS SYSTEM, ITS PROGRAM, PATTERN COLLATING METHOD, ITS SYSTEM, AND ITS PROGRAM例文帳に追加

係数決定方法、特徴抽出方法、システム及びプログラム、並びにパタン照合方法、システム及びプログラム - 特許庁

PHOTOSENSITIVE ELEMENT, METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN USING THE SAME, METHOD FOR PRODUCING PRINTED CIRCUIT BOARD AND METHOD FOR PRODUCING LEAD FRAME例文帳に追加

感光性エレメント、これを用いたレジストパターンの製造法、プリント配線板の製造法及びリードフレームの製造法 - 特許庁

INJECTION METHOD IN INJECTION-MOLDING MACHINE, METHOD AND APPARATUS OF PRODUCING INJECTION VELOCITY PATTERN USING THE METHOD例文帳に追加

射出成形機における射出方法および同方法を用いた射出速度パターンの生成方法および装置 - 特許庁

GRAY TONE MASK BLANK AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, METHOD FOR MANUFACTURING GRAY TONE MASK AND GRAY TONE MASK, AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加

グレートーンマスクブランクとその製造方法、グレートーンマスクの製造方法及びグレートーンマスク、並びにパターン転写方法 - 特許庁

ELECTRIC CHARACTERISTIC EVALUATION PATTERN, ELECTRIC CHARACTERISTIC EVALUATION METHOD, METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND RELIABILITY ASSURANCE METHOD例文帳に追加

電気特性評価パターン、電気特性評価方法、半導体装置の製造方法および信頼性保証方法 - 特許庁