| 例文 |
pattern methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 23003件
RESIN FILM FORMING METHOD, METHOD OF MANUFACTURING RELIEF PATTERN, AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加
樹脂膜形成方法、レリーフパターンの製造方法及び電子部品 - 特許庁
RESIN PATTERN AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME, METHOD FOR PRODUCING MEMS STRUCTURE, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR ELEMENT, AND METHOD FOR PRODUCING PLATED PATTERN例文帳に追加
樹脂パターン及びその製造方法、MEMS構造体の製造方法、半導体素子の製造方法、並びに、メッキパターン製造方法 - 特許庁
RESIST SUBSTRATE, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR STORING RESIST SUBSTRATE例文帳に追加
レジスト基板、レジストパターン形成方法及びレジスト基板の保存方法 - 特許庁
METHOD FOR PREPARING REFERENCE IMAGE, METHOD FOR RECOGNIZING PATTERN AND RECORDING MEDIUM例文帳に追加
基準画像作成方法、パターン認識方法および記録媒体 - 特許庁
METHOD FOR FORMING PIT PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING STAMPER AND RECORDING MEDIUM例文帳に追加
ピットパターンの形成方法、スタンパおよび記録媒体の製造方法 - 特許庁
METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN AND METHOD FOR FABRICATING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
レジストパターンの形成方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁
SCAN TEST CIRCUIT, TEST CIRCUIT GENERATION METHOD AND TEST PATTERN GENERATION METHOD例文帳に追加
スキャンテスト回路、テスト回路生成方法およびテストパタン生成方法 - 特許庁
METHOD FOR FORMING PATTERN BY LIFT-OFF METHOD APPLYING PHOTOCATALYST EFFECT例文帳に追加
光触媒効果を利用したリフトオフ法によるパターン形成方法 - 特許庁
CIRCUIT PATTERN DATA CORRECTING METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
回路パターンデータ補正方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁
METHOD FOR DESIGNING MASK PATTERN AND MASK FORMED BY THE METHOD例文帳に追加
マスクパターン設計方法及びその方法により形成されるマスク - 特許庁
MANUFACTURING METHOD OF MATERIAL PATTERN, TEMPLATE, AND MANUFACTURING METHOD OF MICROMACHINE例文帳に追加
材料パターンの製造方法、テンプレート及びマイクロマシンの製造方法 - 特許庁
PHOTOMASK APPARATUS, METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK AND METHOD FOR FORMING MASK PATTERN例文帳に追加
フォトマスク装置、フォトマスク製造方法およびマスクパターン形成方法 - 特許庁
PHOTOMASK, METHOD FOR FORMING PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
フォトマスク、パターン形成方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁
METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
フォトレジストパターンの形成方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁
PATTERN DEFECT INSPECTION APPARATUS AND METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK例文帳に追加
ムラ欠陥検査装置及び方法、並びにフォトマスクの製造方法 - 特許庁
METHOD AND MACHINE FOR PRINTING ELECTRODE PATTERN BY OFFSET PRINTING METHOD例文帳に追加
オフセット印刷法による電極パターンの印刷方法及び印刷機 - 特許庁
METHOD FOR PRODUCING POLYMER FOR LITHOGRAPHY, AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加
リソグラフィー用重合体の製造方法、及びパターン形成方法 - 特許庁
PROTRUDED PATTERN FORMING METHOD AND INFORMATION RECORDING MEDIUM MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
凹凸パターン形成方法および情報記録媒体製造方法 - 特許庁
ADJUSTING METHOD FOR EXPOSURE DEVICE, PATTERN FORMING METHOD, AND EXPOSURE DEVICE例文帳に追加
露光装置の調整方法、パターン形成方法、および露光装置 - 特許庁
METHOD FOR FORMING RUGGED PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL ELEMENT例文帳に追加
凹凸状パターンの形成方法、及び光学素子の製造方法 - 特許庁
REPAIR METHOD OF PATTERN DEFECT AND MANUFACTURING METHOD OF PLASMA DISPLAY PANEL例文帳に追加
パターン欠陥のリペア方法およびプラズマディスプレイパネルの製造方法 - 特許庁
METHOD FOR FORMING PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING FLAT DISPLAY PANEL例文帳に追加
パターンの形成方法および平面ディスプレイ用パネルの製造方法。 - 特許庁
METHOD FOR PRODUCING RESIN, RESIN, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加
樹脂の製造方法、樹脂、レジスト組成物、レジストパターン形成方法 - 特許庁
IMAGE FORMING DEVICE AND RECOGNITION PATTERN COMPOSITING METHOD例文帳に追加
画像形成装置及び認識パターン合成方法 - 特許庁
ELECTROCONDUCTIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加
導電性樹脂組成物及びパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁
IMAGE FORMATION DEVICE AND TEST PATTERN OUTPUT METHOD例文帳に追加
画像形成装置およびテストパターン出力方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND FORMING METHOD OF CIRCUIT PATTERN例文帳に追加
感光性組成物及び回路パタ—ン形成方法 - 特許庁
FIXED PATTERN NOISE CORRECTING DEVICE AND ITS CORRECTING METHOD例文帳に追加
固定パターンノイズ補正装置及びその補正方法 - 特許庁
FINE PATTERN FORMING METHOD AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY PANEL例文帳に追加
微細パターン形成方法及び液晶表示パネル - 特許庁
PATTERN TRANSFERRING METHOD IN MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
半導体デバイス製造におけるパターン転写方法 - 特許庁
RESIN, RESIST COMPOSITION, AND MANUFACTURING METHOD OF RESIST PATTERN例文帳に追加
樹脂、レジスト組成物及びレジストパターン製造方法 - 特許庁
RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
感放射線性組成物及びパターン形成方法 - 特許庁
METHOD FOR VERIFYING LAYOUT PATTERN AND BACK ANNOTATION SYSTEM例文帳に追加
レイアウトパターン検証方法およびバックアノテーションシステム - 特許庁
RADIATION SENSITIVE MATERIAL AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
放射線感光材料及びパタ—ンの形成方法 - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR FORMING CONDUCTIVE PATTERN例文帳に追加
導電性パターンの形成方法および形成装置 - 特許庁
RESIN, RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN例文帳に追加
樹脂、レジスト組成物及びレジストパターン製造方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
感光性樹脂組成物およびパターン形成方法 - 特許庁
PATTERN FORMING METHOD AND PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION例文帳に追加
パターン形成方法および感光性樹脂組成物 - 特許庁
NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
ネガ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁
HIGH-SPEED PULSE PATTERN GENERATOR AND ITS GENERATING METHOD例文帳に追加
高速パルスパタン発生器およびその発生方法 - 特許庁
REGISTRATION METHOD OF PALMAR PATTERN IMPRESSION AND ITS DEVICE例文帳に追加
掌紋印象の登録方法およびその装置 - 特許庁
| 例文 |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|