「pattern method」に関連した英語例文の一覧と使い方(65ページ目) - Weblio英語例文検索

In the method for producing a resist pattern, a resist pattern is formed and the surface of the pattern is coated with the thickening material.例文帳に追加

レジストパターンを形成後、該パターン表面に前記厚肉化材料を塗布するレジストパターンの製造方法。 - 特許庁

METHOD FOR ADAPTING PATTERN DIMENSIONS WHEN PROJECTING PATTERN OF PATTERN ELEMENT ON SEMICONDUCTOR WAFER BY PHOTOLITHOGRAPHY例文帳に追加

半導体ウェーハ上にパターン要素のパターンをフォトリソグラフィによって投影する際のパターン寸法を適合する方法 - 特許庁

To provide a method for forming a resist pattern to easily suppressing pattern collapse when a fine pattern is formed.例文帳に追加

微細なパターンを形成する際のパターン倒れを容易に抑制できるレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

FORMING METHOD FOR CONDUCTIVE PATTERN, COMPOSITION FOR FORMING CONDUCTIVE PATTERN, AND ELECTRONIC PART PROVIDED WITH CONDUCTIVE PATTERN例文帳に追加

導電性パターンの形成方法、導電性パターン形成用組成物および導電性パターンを有する電子部品 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING MATERIAL, PHOTOSENSITIVE LAMINATE, PATTERN FORMING APPARATUS AND METHOD OF PATTERN FORMATION例文帳に追加

感光性組成物、パターン形成材料、感光性積層体、並びにパターン形成装置及びパターン形成方法 - 特許庁

In a method for forming the resist pattern, the resist pattern is formed and then the surface of the resist pattern is coated with the resist pattern thickening material to form a thickened resist pattern.例文帳に追加

レジストパターンを形成後、該レジストパターン表面に前記レジストパターン厚肉化材料を塗布することにより厚肉化レジストパターンを形成するレジストパターンの形成方法。 - 特許庁

To provide a pattern measurement device and a pattern measurement method that easily discriminate between a line pattern and a space pattern without being affected by luminance of a pattern.例文帳に追加

パターンの輝度の影響を受けることなく、ラインパターンとスペースパターンを容易に識別することのできるパターン測定装置及びパターン測定方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a pattern collating device of a line pattern capable of strictly identifying any deformation in the input pattern, a pattern collating method thereof, and a pattern collating program.例文帳に追加

入力図形に変形があっても厳密に識別することのできる、線図形のパターン照合装置とそのパターン照合方法、及びパターン照合プログラムを提供する。 - 特許庁

PATTERN FILM-FORMING MASK FOR SOLUTION COATING, ITS MANUFACTURING METHOD, PATTERN FILM-MANUFACTURING METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF ORGANIC THIN FILM TRANSISTOR例文帳に追加

溶液塗布用パターン製膜用マスクとその製造方法、パターン膜の製造方法、有機薄膜トランジスタの製造方法 - 特許庁

FORMING METHOD OF WIRING PATTERN, MANUFACTURING METHOD OF CIRCUIT BOARD, AND MANUFACTURING METHOD OF TRANSLUCENT BODY FORMING LIGHT-SHIELDING PATTERN THEREIN例文帳に追加

配線パターンの形成方法、回路基板の製造方法および遮光パターンの形成された透光体の製造方法 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR FORMING FILM PATTERN, METHOD AND APPARATUS FOR FORMING WIRING PATTERN AND MANUFACTURING METHOD OF DEVICE例文帳に追加

膜パターンの形成方法及び形成装置、配線パターンの形成方法及び形成装置、並びにデバイスの製造方法 - 特許庁

METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, METHOD OF FORMING WIRING PATTERN, METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, ELECTROOPTIC DEVICE, AND ELECTRONIC EQUIPMENT例文帳に追加

レジストパターンの形成方法、配線パターンの形成方法、半導体装置の製造方法、電気光学装置及び電子機器 - 特許庁

NANOPARTICLE THIN FILM, METHOD OF MANUFACTURING OF NANOPARTICLE THIN FILM, NANOPARTICLE THIN FILM PATTERN FORMING METHOD AND CIRCUIT PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ナノ粒子薄膜、ナノ粒子薄膜の製造方法、ナノ粒子薄膜パターン形成方法および回路パターン形成方法 - 特許庁

POSITION CORRECTING METHOD FOR ALIGNMENT SENSOR, REFERENCE PATTERN CORRECTING METHOD, EXPOSURE POSITION CORRECTING METHOD, PATTERN FOR CORRECTION, AND ALIGNMENT DEVICE例文帳に追加

アライメントセンサの位置校正方法、基準パターン校正方法、露光位置補正方法、校正用パターン及びアライメント装置 - 特許庁

METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN AND METHOD FOR FORMING FINE PATTERN USING SAME AND METHOD FOR MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT例文帳に追加

レジストパターンの形成方法ならびにこれを用いた微細パターンの形成方法および液晶表示素子の製造方法 - 特許庁

CONDUCTIVE PATTERN FORMING METHOD, ELECTRON EMISSION ELEMENT USING THE CONDUCTIVE PATTERN FORMING METHOD, ELECTRON SOURCE, AND MANUFACTURING METHOD OF IMAGE DISPLAY DEVICE例文帳に追加

導電性パターンの形成方法、これを用いた電子放出素子、電子源及び画像表示装置の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING MASK PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, MANUFACTURING SYSTEM OF MASK PATTERN, CELL LIBRARY, AND METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK例文帳に追加

マスクパターンの作製方法、半導体装置の製造方法、マスクパターンの作製システム、セルライブラリ、フォトマスクの製造方法 - 特許庁

DISCHARGE PATTERN GENERATING DEVICE, METHOD FOR GENERATING DISCHARGE PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING COLOR FILTER, AND METHOD FOR MANUFACTURING ORGANIC FUNCTIONAL ELEMENT例文帳に追加

吐出パターン生成装置、吐出パターン生成方法、カラーフィルタの製造方法及び有機機能性素子の製造方法 - 特許庁

MOVABLE BODY DRIVE METHOD, MOVABLE BODY DRIVE SYSTEM, PATTERN FORMATION METHOD, PATTERN FORMATION DEVICE, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及びパターン形成装置、並びにデバイス製造方法 - 特許庁

METHOD OF MEASURING PATTERN ALIGNMENT ACCURACY, METHOD OF FORMING PATTERN, MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE, AND ELECTRO-OPTICAL DEVICE例文帳に追加

パターンの位置合わせ精度計測方法、パターン形成方法、半導体装置の製造方法並びに電気光学装置 - 特許庁

SURFACE TREATING METHOD OF METALLIC MOLD FOR PATTERN TRANSFER, METHOD FOR MANUFACTURING OF METALLIC MOLD FOR DUPLICATE PATTERN TRANSFER AND METALLIC MOLD FOR DUPLICATE PATTERN TRANSFER例文帳に追加

パターン転写用金型の表面処理方法、複製パターン転写用金型の製造方法及び複製パターン転写用金型 - 特許庁

METHOD FOR DECIDING LIGHT RECEIVING WIDTH FOR ALIGNMENT PATTERN DETECTING SENSOR, ALIGNMENT PATTERN DETECTING SENSOR, METHOD FOR FORMING ALIGNMENT PATTERN AND IMAGE FORMING APPARATUS例文帳に追加

位置合わせパターン検知センサの受光幅決定方法・位置合わせパターン検知センサ・位置合わせパターンの形成方法・画像形成装置 - 特許庁

FEMALE DIE MATERIAL FOR BARRIER RIB PATTERN FORMING, AND FORMING METHOD OF FEMALE DIE FOR BARRIER RIB PATTERN FORMING, BARRIER RIB PATTERN FORMING METHOD, PLASMA DISPLAY PANEL例文帳に追加

隔壁パターン形成用雌型材料、隔壁パターン形成用雌型の形成方法、隔壁パターン形成方法、プラズマディスプレイパネル - 特許庁

PHASE SHIFT MASK, ITS MANUFACTURING METHOD, AND METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN例文帳に追加

位相シフトマスクおよびその製造方法およびパターン転写方法 - 特許庁

METHOD OF FORMING CONDUCTIVE PATTERN AND METHOD OF MANUFACTURING PLATED TERMINAL例文帳に追加

導電性パターンの形成方法及びめっき端子の製造方法 - 特許庁

APPARATUS AND METHOD FOR INSPECTION AND METHOD OF MANUFACTURING PATTERN SUBSTRATE例文帳に追加

検査装置及び検査方法並びにパターン基板の製造方法 - 特許庁

EXPOSURE MASK, PATTERN FORMATION METHOD, AND EXPOSURE MASK FABRICATION METHOD例文帳に追加

露光用マスク、パターン形成方法及び露光用マスクの製造方法 - 特許庁

ALIGNER, DEVICE MANUFACTURING METHOD, PATTERN GENERATION DEVICE, AND MAINTENANCE METHOD例文帳に追加

露光装置、デバイス製造方法、パターン生成装置及びメンテナンス方法 - 特許庁

MASK PATTERN PRODUCING METHOD AND DEVICE THEREFOR, AND OPTICAL DISK MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

マスクパターン作成方法及び装置、並びに光ディスク製造方法 - 特許庁

MASK, METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN, METHOD FOR MEASURING ALIGNMENT ACCURACY, AND APPARATUS例文帳に追加

マスク、パターンの転写方法、アライメント精度測定方法、および装置 - 特許庁

EXPOSURE METHOD BY NEAR-FIELD LIGHT AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

近接場光による露光方法及びレジストパターンの形成方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING THIN-FILM PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

薄膜パターン形成方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING PATTERN, OPTICAL PARTS AND METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL PARTS例文帳に追加

パタン形成方法、光学部品、及び、光学部品の製作方法 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD, MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加

パターンの形成方法、電子デバイスの製造方法、および電子デバイス - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD, MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加

パターンの形成方法、電子デバイスの製造方法および電子デバイス - 特許庁

ALIGNMENT PATTERN FORMING METHOD AND MASK ALIGNMENT PRECISION MEASURING METHOD例文帳に追加

アライメントパタ—ンの形成方法及びマスクとの合わせ精度測定方法 - 特許庁

ELECTRODE PATTERN FORMING METHOD AND ELECTROOPTICAL DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

電極パターンの形成方法及び電気光学装置の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR PROCESSING OUTER SURFACE OF CYLINDER AND METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN SHEET例文帳に追加

円筒外表面の加工方法およびパターンシートの製造方法 - 特許庁

SUBSTRATE PROCESSING METHOD, AND PRODUCTION METHOD OF MEMBER HAVING PATTERN REGION例文帳に追加

基板の加工方法、パターン領域を有する部材の製造方法 - 特許庁

The resist pattern is formed by a lithography method or a printing method.例文帳に追加

レジストパターンは、リソグラフィー法又は印刷法によって形成される。 - 特許庁

RESIST PATTERN FORMING METHOD, ELECTRONIC COMPONENT MANUFACTURING METHOD AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

レジストパターン形成法、電子部品の製造方法、および電子部品 - 特許庁

INKJET INK AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND METAL PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

インクジェットインク、その製造方法および金属パターン形成方法 - 特許庁

METHOD OF FORMING MULTILAYERED RESIST PATTERN AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

多層レジストパターン形成方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

IMAGE-PROCESSING METHOD AND NOISE PATTERN GENERATION METHOD FOR ERROR DIFFUSION例文帳に追加

画像処理方法および誤差拡散のためのノイズパターン生成方法 - 特許庁

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, SUBSTRATE PROCESSING METHOD, AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

基板処理装置及び基板処理方法並びにパターン形成方法 - 特許庁