| 例文 |
pattern methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 23002件
BIREFRINGENCE PATTERN MEMBER AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
複屈折パターン部材およびその製造方法 - 特許庁
ELECTRODE PATTERN FORMING METHOD BY OFFSET PRINTING例文帳に追加
オフセット印刷による電極パターンの形成方法 - 特許庁
MATERIAL FOR MULTILAYER PROCESSING AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
多層プロセス用材料およびパターン形成方法 - 特許庁
METAL NANOPARTICLE PASTE, AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
金属ナノ粒子ペーストおよびパターン形成方法 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD OF PATTERN OBJECT USING DIFFRACTION GRATING例文帳に追加
回折格子を用いた絵柄体の製造方法 - 特許庁
METHOD FOR CELL IDENTIFICATION BY DNA METHYLATION PATTERN例文帳に追加
DNAメチル化パターンによる細胞の同定法 - 特許庁
PAPER AIRPLANE, ITS FABRICATION METHOD AND ITS PAPER PATTERN例文帳に追加
紙飛行機、その製作方法及びその型紙 - 特許庁
a method of weaving that brings out a raised pattern in the weft 例文帳に追加
横糸を浮かして模様を織り出す織り方 - EDR日英対訳辞書
DISPLAY PATTERN INSPECTION METHOD FOR LIQUID CRYSTAL DISPLAY PANEL例文帳に追加
液晶表示パネルの表示パターン検査方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE FILM AND METHOD FOR FORMING PERMANENT PATTERN例文帳に追加
感光性フィルム及び永久パターン形成方法 - 特許庁
PATTERN FORMING METHOD, RESIST COMPOSITION TO BE USED IN THE PATTERN FORMING METHOD, NEGATIVE DEVELOPING SOLUTION TO BE USED IN THE PATTERN FORMING METHOD AND RINSING SOLUTION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT TO BE USED IN THE PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
パターン形成方法、該パターン形成方法に用いられるレジスト組成物、該パターン形成方法に用いられるネガ型現像液及び該パターン形成方法に用いられるネガ型現像用リンス液 - 特許庁
METHOD AND DEVICE FOR INSPECTING PERIODIC OPENING PATTERN例文帳に追加
周期性開口パタ—ンの検査方法及び装置 - 特許庁
PHOTO MASK AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE SAME例文帳に追加
フォトマスク及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
LIGHT GUIDE PLATE PATTERN PROCESSING METHOD AND MACHINE例文帳に追加
導光板のパターン加工方法及びその装置 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING FINE PATTERN AND TRANSFER MATERIAL例文帳に追加
微細パターンの製造方法および転写材料 - 特許庁
QUALITY CONTROL METHOD FOR PASTE PATTERN AND PASTE COATER例文帳に追加
ペーストパターンの品質管理方法とペースト塗布機 - 特許庁
IMAGING ELEMENT AND FIXED PATTERN NOISE REDUCTION METHOD例文帳に追加
撮像素子及び固定パターン雑音低減方法 - 特許庁
METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN IN MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
半導体デバイス製造におけるパターン転写法 - 特許庁
STEEL PLATE HAVING JOINT PATTERN, AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
目地模様付き鋼板およびその製造方法 - 特許庁
PATTERN FORMING METHOD, CIRCUIT BOARD, AND ELECTRONIC EQUIPMENT例文帳に追加
パターン形成方法、回路基板および電子機器 - 特許庁
INORGANIC RESIST PATTERN, METHOD OF FORMING INORGANIC RESIST PATTERN, OPTICAL MASTER DISK, METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL MASTER DISK, METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL DISK PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL DISK SUBSTRATE例文帳に追加
無機レジスト・パターン、無機レジスト・パターンの形成方法、光ディスク原盤、光ディスク原盤の製造方法、光ディスク・スタンパの製造方法及び光ディスク基板の製造方法 - 特許庁
PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING MAGNETIC RECORDING MEDIUM AND METHOD FOR MANUFACTURING LSI例文帳に追加
パターン形成方法、磁気記録媒体の製造方法、LSIの製造方法 - 特許庁
EXPOSURE METHOD, METHOD FOR FORMING IRREGULAR PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL ELEMENT例文帳に追加
露光方法、凹凸状パターンの形成方法、及び光学素子の製造方法 - 特許庁
RESIST PATTERN FORMING METHOD, ETCHING METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING MASTER INFORMATION CARRIER例文帳に追加
レジストパターン形成方法、エッチング方法およびマスター情報担体の製造方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK, METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING DISPLAY DEVICE例文帳に追加
フォトマスクの製造方法、パターン転写方法及び表示装置の製造方法 - 特許庁
MASK GENERATION METHOD, MASK FORMATION METHOD, PATTERN FORMATION METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
マスク生成方法、マスク形成方法、パターン形成方法および半導体装置 - 特許庁
PATTERN FORMING METHOD, SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD AND TEMPLATE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
パターン形成方法、半導体装置の製造方法およびテンプレートの製造方法 - 特許庁
EVALUATION METHOD, MASK PATTERN CORRECTION METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND PROGRAM例文帳に追加
評価方法、マスクパターン補正方法、半導体装置の製造方法、及びプログラム - 特許庁
PATTERN FORMATION METHOD, MASK REPAIR METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE USING THEM例文帳に追加
パターン形成方法、マスクリペア方法およびこれらを用いたデバイス製造方法 - 特許庁
GRAPHIC DATA DIVIDING METHOD, EXPOSURE METHOD, PATTERN FORMING METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
図形データ分割方法、露光方法、パターン形成方法及び半導体装置 - 特許庁
METHOD FOR FORMING RESIST MARK, METHOD FOR FORMING WIRING PATTERN, AND GRAVURE PRINTING METHOD例文帳に追加
レジストマスクの形成方法、配線パターンの形成方法、及びグラビア印刷方法 - 特許庁
FORMING METHOD OF RESIST PATTERN AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE METHOD例文帳に追加
レジストパターン形成方法およびこれを用いた半導体装置の製造方法。 - 特許庁
METHOD OF FORMING RESIST PATTERN AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE METHOD例文帳に追加
レジストパターン形成方法およびそれを用いた半導体装置の製造方法 - 特許庁
To provide a pattern forming method by which freedom of a formed pattern is high and a novel pattern face can be obtained.例文帳に追加
形成される模様の自由度が高く、斬新な模様面が得られる模様形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a pattern forming device, pattern forming method, etc., capable of preventing displacement with a previous process pattern.例文帳に追加
前工程パターンとの位置ずれ防止を可能とするパターン形成装置、パターン形成方法等を提供する。 - 特許庁
SPECIFIC PATTERN DETECTION SYSTEM, MODEL LEARNING DEVICE, SPECIFIC PATTERN DETECTOR, SPECIFIC PATTERN DETECTION METHOD AND COMPUTER PROGRAM例文帳に追加
特異パターン検出システム、モデル学習装置、特異パターン検出装置、特異パターン検出方法、及び、コンピュータプログラム - 特許庁
To provide a pattern forming method, a mold for imprint, and a pattern formed body which are suitable for formation of a fine pattern.例文帳に追加
微細なパターンの形成に好適なパターン形成方法、インプリント用モールド、およびパターン形成体を提供する。 - 特許庁
The carbon structure production method comprises molding a carbon-containing material into a pattern, covering the obtained pattern with a template, and carbonizing the pattern by firing.例文帳に追加
含炭素材料をパターンに成形した後、得られたパターンを原形型で被覆し、焼成して炭素化させる。 - 特許庁
METHOD FOR FORMING CONDUCTIVE PATTERN, COMPOSITION FOR FORMING CONDUCTIVE PATTERN, AND ELECTRONIC COMPONENT HAVING CONDUCTIVE PATTERN例文帳に追加
導電性パターンの形成方法、導電性パターン形成用組成物および導電性パターンを有する電子部品 - 特許庁
To provide a pattern forming method by which a chemically active group pattern is formed on a substrate surface only by pattern exposure.例文帳に追加
パターン露光のみで基板表面に化学活性基パターンを形成するパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
COMMON QUERY GRAPH PATTERN GENERATION DEVICE, COMMON QUERY GRAPH PATTERN GENERATION METHOD, AND PROGRAM FOR COMMON QUERY GRAPH PATTERN GENERATION例文帳に追加
共通クエリグラフパターン生成装置、共通クエリグラフパターン生成方法、および共通クエリグラフパターン生成用プログラム - 特許庁
ELECTROMAGNETIC NOISE OCCURRING PATTERN ESTIMATION DEVICE, ELECTROMAGNETIC NOISE OCCURRING PATTERN ESTIMATION METHOD AND ELECTROMAGNETIC NOISE OCCURRING PATTERN ESTIMATION PROGRAM例文帳に追加
電磁ノイズ発生パターン推定装置、電磁ノイズ発生パターン推定方法及び電磁ノイズ発生パターン推定プログラム - 特許庁
METHOD FOR FORMING FORGERY PREVENTIVE PATTERN, FORGERY PREVENTIVE PATTERN, AND FORGERY PREVENTIVE PRINTED MATTER HAVING FORGERY PREVENTIVE PATTERN例文帳に追加
偽造防止パターンの作成方法、偽造防止パターン及びその偽造防止パターンを備えた偽造防止印刷物 - 特許庁
To provide a method of forming pattern by which the deformation of a silicon pattern treated with a hydrofluoric acid is suppressed at the time of drying the pattern.例文帳に追加
フッ酸による処理を行ったシリコンのパターンにおける乾燥時の変形が抑制できるようにする。 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING MATERIAL, PHOTOSENSITIVE LAMINATE, PATTERN FORMING APPARATUS AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
感光性組成物、パターン形成材料、感光性積層体、並びにパターン形成装置及びパターン形成方法 - 特許庁
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