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pattern methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 23002件
PHOTOSENSITIVE PASTE COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加
感光性ペースト組成物およびパターン形成方法 - 特許庁
STEP POSITION CORRECTING METHOD OF PATTERN VARIABLE DISPLAY DEVICE例文帳に追加
図柄可変表示装置のステップ位置補正方法 - 特許庁
METHOD FOR FORMING PATTERN IN MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
半導体装置製造におけるパターン形成方法 - 特許庁
PATTERN FORMING APPARATUS, HEAD UNIT AND HEAD POSITIONING METHOD例文帳に追加
パターン形成装置、ヘッドユニット、ヘッドの位置決め方法 - 特許庁
POLYMER, RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
重合体、レジスト組成物、およびパターン形成方法 - 特許庁
To provide a pattern transfer method, a pattern transfer device and a method for manufacturing an electronic device, which have high throughput.例文帳に追加
スループットが高いパターン転写方法、パターン転写装置及び電子デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁
LIGHT-SENSITIVE TRANSFER SHEET, LIGHT-SENSITIVE LAMINATE, IMAGE PATTERN FORMING METHOD, AND WIRING PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
感光性転写シート、感光性積層体、画像パターンを形成する方法、配線パターンを形成する方法 - 特許庁
INSULATION PATTERN, FORMATION METHOD FOR THE INSULATION PATTERN, LIGHT-EMITTING DEVICE, MANUFACTURING METHOD FOR THE LIGHT-EMITTING DEVICE, AND ILLUMINATION DEVICE例文帳に追加
絶縁パターン及びその形成方法、発光装置及びその作製方法、並びに照明装置 - 特許庁
APPLICATOR AND DEVELOPER, RESIST PATTERN FORMATION APPARATUS, APPLICATION AND DEVELOPMENT METHOD, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, AND STORAGE MEDIUM例文帳に追加
塗布、現像装置、レジストパターン形成装置、塗布、現像方法、レジストパターンの形成方法及び記憶媒体。 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE RESIN LAMINATE, RESIST PATTERN FORMATION METHOD AND CONDUCTOR PATTERN MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
感光性樹脂組成物、感光性樹脂積層体、レジストパターン形成方法及び導体パターン製造方法 - 特許庁
PATTERN FORMING DEVICE, PATTERN FORMING METHOD, MANUFACTURING DEVICE AND MANUFACTURING METHOD OF ORGANIC ELECTROLUMINESCENT ELEMENT DISPLAY例文帳に追加
パターン形成装置、パターン形成方法、有機電界発光素子ディスプレイの製造装置及び製造方法 - 特許庁
To provide a method for fabricating a pattern, more particularly, a method for fabricating a pattern using laser.例文帳に追加
本発明は、パターンの製造方法に関し、特に、レーザーを用いてパターンを製造する方法に関する。 - 特許庁
To provide a pattern forming method and an original plate control method capable of favorably forming a pattern.例文帳に追加
良好にパターンを形成することが可能なパターン形成方法及び原板管理方法を提供する。 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD OF PATTERN PHASE DIFFERENCE FILM, AND MANUFACTURING METHOD OF METAL MOLD FOR MANUFACTURING PATTERN PHASE DIFFERENCE FILM例文帳に追加
パターン位相差フィルムの作製方法、パターン位相差フィルム作製用の金型及びその作製方法 - 特許庁
PATTERN FORMING APPARATUS, PATTERN FORMING METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF COLOR FILTER AND ORGANIC FUNCTIONAL ELEMENT例文帳に追加
パターン形成装置及びパターン形成方法、並びにカラーフィルタ及び有機機能性素子の製造方法 - 特許庁
METHOD OF FORMING PATTERN, PATTERN FORMING APPARATUS, METHOD OF MANUFACTURING DEVICE, ELECTROOPTIC DEVICE, AND ELECTRONIC APPARATUS例文帳に追加
パターンの形成方法及びパターン形成装置、デバイスの製造方法、電気光学装置及び電子機器 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN SUBSTRATE, METHOD FOR MANUFACTURING UNEVEN SUBSTRATE AND MOLD USED FOR MANUFACTURING PATTERN SUBSTRATE例文帳に追加
パターン基板の製造方法、凹凸基板の製造方法、及びパターン基板の製造に用いられる型 - 特許庁
CHARACTERISTIC PATTERN EXTRACTION DEVICE, CHARACTERISTIC PATTERN EXTRACTION METHOD, CLASSIFICATION SUPPORT DEVICE, AND CLASSIFICATION SUPPORT METHOD例文帳に追加
特徴パターン抽出装置、特徴パターン抽出方法、分類支援装置および分類支援方法 - 特許庁
PATTERN FORMING LAMINATED FILM, METHOD FOR PRODUCING SAME AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加
パターン形成用積層被膜、その積層被膜の製造方法及びその被膜を使用したパターン形成方法 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a resist pattern for obtaining a favorable pattern by the double patterning method.例文帳に追加
ダブルパターニング法により良好なパターンを得ることができるレジストパターンの製造方法を提供する。 - 特許庁
GENERATION METHOD FOR DOT PATTERN, PRINTING METHOD, PRINTING CONTROLLER, PRINTER, PROGRAM AND DATA STRUCTURE OF DOT PATTERN例文帳に追加
ドットパターンの生成方法、印刷方法、印刷制御装置、印刷装置、プログラム及びドットパターンのデータ構造 - 特許庁
PATTERN CORRECTION METHOD FOR SEMICONDUCTOR MANUFACTURING MASK, AND RECORDING MEDIUM RECORDED WITH THE PATTERN CORRECTION METHOD例文帳に追加
半導体製造用マスクのパターン補正方法およびそのパターン補正方法を記録した記録媒体 - 特許庁
MOBILE TERMINAL WITH ACCELERATION SENSOR, METHOD FOR REGISTERING PATTERN OF ACCELERATION, AND METHOD AND PROGRAM FOR COMPARING PATTERN OF ACCELERATION例文帳に追加
加速度センサを備えた携帯端末、加速度パターン登録方法、加速度パターン比較方法及びプログラム - 特許庁
METHOD OF FORMING WIRING PATTERN, METHOD OF FORMING FILM PATTERN, SEMICONDUCTOR DEVICE, ELECTROOPTIC DEVICE, AND ELECTRONIC EQUIPMENT例文帳に追加
配線パターン形成方法、膜パターン形成方法、半導体装置、電気光学装置、及び電子機器 - 特許庁
PATTERN ANALYSIS METHOD, PATTERN ANALYSIS APPARATUS, YIELD CALCULATION METHOD AND YIELD CALCULATION APPARATUS例文帳に追加
パターン解析方法及びパターン解析装置並びに歩留まり算出方法及び歩留まり算出装置 - 特許庁
The method also comprises a step of then removing the second photoresist pattern and the second metal layer on the pattern by a lifting-off method.例文帳に追加
次に、リフトオフ法により第2のフォトレジストパターン及びその上の第2の金属層を除去する。 - 特許庁
RESIST PATTERN FORMING METHOD AND SOLAR CELL MANUFACTURING METHOD USING THE SAME, AND RESIST PATTERN FORMING APPARATUS例文帳に追加
レジストパターンの形成方法とそれを用いた太陽電池の製造方法、ならびに、レジストパターン形成装置 - 特許庁
PATTERN FORMATION METHOD, PATTERN FORMATION DEVICE, PHOTOELECTRIC CONVERSION DEVICE MANUFACTURING METHOD, AND PHOTOELECTRIC CONVERSION DEVICE例文帳に追加
パターン形成方法、パターン形成装置、光電変換デバイスの製造方法および光電変換デバイス - 特許庁
PRINTING METHOD, METHOD FOR READING DENSITY OF PRINTING PATTERN, PRINTER, AND APPARATUS FOR READING DENSITY OF PRINTING PATTERN例文帳に追加
印刷方法、印刷パターンの濃度読み取り方法、印刷装置、及び、印刷パターンの濃度読み取り装置 - 特許庁
FORMATION METHOD FOR HARD MASK PATTERN OF FINE PITCH, AND FORMATION METHOD FOR FINE PATTERN OF SEMICONDUCTOR ELEMENT USING IT例文帳に追加
微細ピッチのハードマスクパターンの形成方法及びそれを用いた半導体素子の微細パターン形成方法 - 特許庁
ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY METHOD, FINE PATTERN DRAWING SYSTEM, METHOD FOR MANUFACTURING PROTRUDING AND RECESSING PATTERN SUPPORT, AND MAGNETIC DISK MEDIUM例文帳に追加
電子ビーム描画方法、微細パターン描画システム、凹凸パターン担持体磁気ディスク媒体の製造方法 - 特許庁
METHOD FOR CORRECTING DESIGN PATTERN, METHOD FOR SETTING PARAMETER, DESIGN PATTERN CORRECTING APPARATUS, PARAMETER SETTING APPARATUS, AND PROGRAM例文帳に追加
設計パターン補正方法、パラメータ設定方法、設計パターン補正装置、パラメータ設定装置、及びプログラム - 特許庁
PHOTOSENSITIVE FILM, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, PERMANENT PATTERN FORMING APPARATUS AND PERMANENT PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
感光性フィルム及びその製造方法、並びに永久パターン形成装置及び永久パターン形成方法 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD OF PATTERN PHASE DIFFERENCE FILM, AND MANUFACTURING METHOD OF METAL MOLD FOR MANUFACTURING PATTERN PHASE DIFFERENCE FILM例文帳に追加
パターン位相差フィルムの作成方法、パターン位相差フィルム作成用の金型及びその作成方法 - 特許庁
METHOD FOR FORMING MULTILAYER RESIST PATTERN AND ETCHING METHOD USING MULTILAYER RESIST PATTERN FORMED BY THE SAME例文帳に追加
多層レジスト・パターンの形成方法及び該方法で形成した多層レジスト・パターンを用いるエッチング方法 - 特許庁
RESIST PATTERN IMPROVING MATERIAL, FORMATION METHOD OF RESIST PATTERN, MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE, AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
レジストパターン改善化材料、レジストパターンの形成方法、半導体装置の製造方法、及び半導体装置 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK, PHOTOMASK OBTAINED BY THE SAME AND METHOD FOR IMPROVING DIFFERENCE OF MASK PATTERN DIMENSION ON PATTERN ROUGHNESS/FINESS例文帳に追加
フォトマスクの製造方法、それによって得られたフォトマスクおよびマスクパターン寸法の疎密差改善方法 - 特許庁
RESIST PATTERN SWELLING MATERIAL, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, SEMICONDUCTOR APPARATUS AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
レジストパターン厚肉化材料、レジストパターンの形成方法、並びに、半導体装置及びその製造方法 - 特許庁
LIQUID CRYSTAL PHOTOMASK, PATTERN EXPOSURE METHOD USING SAME, PATTERN EXPOSURE APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING DNA CHIP例文帳に追加
液晶式フォトマスク、それを用いたパターン露光方法、パターン露光装置及びDNAチップの製造方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE TRANSFER SHEET, PHOTOSENSITIVE LAMINATE, IMAGE PATTERN FORMING METHOD AND WIRING PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
感光性転写シート、感光性積層体、画像パターンを形成する方法、配線パターンを形成する方法 - 特許庁
LIGHT-SENSITIVE TRANSFER SHEET, LIGHT-SENSITIVE LAMINATE, IMAGE PATTERN FORMING METHOD AND WIRING PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
感光性転写シート、感光性積層体、画像パターンを形成する方法、配線パターンを形成する方法 - 特許庁
MULTI-LAYER BODY, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE HAVING PATTERN BY FINE PROCESSING, AND ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加
多層体、レジストパターン形成方法、微細加工パターンを有する装置の製造方法および電子装置 - 特許庁
PATTERN FORMING DEVICE, PATTERN FORMING METHOD, MANUFACTURING DEVICE AND MANUFACTURING METHOD OF ORGANIC ELECTRIC FIELD LIGHT EMITTING ELEMENT DISPLAY例文帳に追加
パターン形成装置、パターン形成方法、有機電界発光素子ディスプレイの製造装置及び製造方法 - 特許庁
REFERENCE DATA GENERATION METHOD, PATTERN DEFECT INSPECTION DEVICE, PATTERN DEFECT INSPECTION METHOD, AND REFERENCE DATA GENERATION PROGRAM例文帳に追加
参照データ生成方法、パターン欠陥検査装置、パターン欠陥検査方法、及び参照データ生成プログラム - 特許庁
METHOD OF PATTERN TRANSCRIPTION, METHOD OF PATTERNING ON FABRIC, AND SHEET FOR PATTERN TRANSCRIPTION TO BE USED THEREFOR例文帳に追加
パターンの写し取り方法、布地へのパターン付け方法、およびそれに用いられるパターン写し取り用シート - 特許庁
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