| 例文 |
pattern methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 23002件
To provide a pattern formation method and a pattern formation system capable of manufacturing wiring or electronic circuits or the like with good efficiency and at high volume, and to provide an electronic device manufactured according to the pattern formation method and pattern formation system.例文帳に追加
配線又は電子回路などについて、効率よく大量に製造できるパターン形成方法、パターン形成システムおよび電子機器を提供する。 - 特許庁
METHOD FOR VERIFYING PATTERN DATA OF SEMICONDUCTOR DEVICE, PROGRAM FOR VERIFYING PATTERN DATA OF SEMICONDUCTOR DEVICE, METHOD FOR CORRECTING PATTERN DATA OF SEMICONDUCTOR DEVICE, AND PROGRAM FOR CORRECTING PATTERN DATA OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
半導体装置のパターンデータ検証方法、半導体装置のパターンデータ検証プログラム、半導体装置のパターンデータ補正方法、および半導体装置のパターンデータ補正プログラム - 特許庁
To provide a resist pattern forming method capable of suppressing mixing with respect to a resist pattern forming method in which a dense pattern is formed in a lower layer and a pattern is formed in an upper layer.例文帳に追加
下層に密パターンを形成し、上層にパターンを形成するレジストパターンの形成方法において、ミキシングを抑制できるレジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁
MASK FOR TRANSFERRING CIRCUIT PATTERN, METHOD FOR FORMING MASK PATTERN, PROGRAM FOR FORMING MASK PATTERN, MASK PATTERN FORMING APPARATUS, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND APPARATUS FOR MANUFACTURING THE SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
回路パターン転写用マスク、マスクパターン作成方法、マスクパターン作成プログラム、マスクパターン作成装置、半導体装置製造方法および半導体装置製造装置 - 特許庁
To provide a method of forming resist pattern in which mixing can be suppressed with respect to a resist pattern forming method by which a dense pattern is formed in a lower layer and a pattern is formed in an upper layer.例文帳に追加
下層に密パターンを形成し、上層にパターンを形成するレジストパターンの形成方法において、ミキシングを抑制できるレジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁
PATTERN FORMING MEMBER, MANUFACTURING METHOD OF PATTERN FORMING MEMBER, ELECTRO-OPTICAL DEVICE, ELECTRONIC APPARATUS例文帳に追加
パターン形成部材、パターン形成部材の製造方法、電気光学装置、電子機器 - 特許庁
PATTERN FORMING DEVICE AND PATTERN FORMING METHOD AND ORGANIC ELECTROLUMINESCENT DISPLAY例文帳に追加
パターン成膜装置およびパターン成膜方法、並びに、有機電界発光表示装置 - 特許庁
PATTERN PROGRAM CREATION SUPPORT DEVICE, PATTERN PROGRAM CREATION SUPPORT METHOD AND COMPUTER PROGRAM例文帳に追加
パターンプログラム作成支援装置、パターンプログラム作成支援方法およびコンピュータプログラム - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING STRUCTURE HAVING UNEVEN PATTERN, AND STRUCTURE HAVING UNEVEN PATTERN例文帳に追加
凹凸パターンを有する構造体の製造方法、凹凸パターンを有する構造体 - 特許庁
SURFACE TREATING AGENT FOR PATTERN FORMATION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SURFACE-TREATING AGENT例文帳に追加
パターン形成用表面処理剤、及び該処理剤を用いたパターン形成方法 - 特許庁
PHOTOCURABLE COMPOSITION FOR RESIN PATTERN FORMATION, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
樹脂パターン形成用光硬化性組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
LAMINATE PATTERN AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, RIB FORMING MATERIAL AND GLASS RIB PATTERN例文帳に追加
積層体パターン及びその製造方法、リブ形成材料並びにガラスリブパターン - 特許庁
METHOD FOR VERIFYING RESULT OF MASK PATTERN CORRECTION, AND APPARATUS FOR VERIFYING RESULT OF MASK PATTERN CORRECTION例文帳に追加
マスクパターン補正結果検証方法およびマスクパターン補正結果検証装置 - 特許庁
PATTERN RECOGNITION METHOD AND APPARATUS, PATTERN RECOGNITION PROGRAM, AND RECORDING MEDIUM THEREOF例文帳に追加
パタン認識方法および装置ならびにパタン認識プログラムおよびその記録媒体 - 特許庁
PATTERN FORMING COMPOSITION COMPRISING METAL FINE PARTICLE DISPERSION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
金属微粒子分散液からなるパターン形成用組成物およびパターン形成法 - 特許庁
DEVICE FOR CORRECTING MASK PATTERN, PROGRAM FOR CORRECTING MASK PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING EXPOSURE MASK例文帳に追加
マスクパターン補正装置、マスクパターン補正プログラムおよび露光用マスクの製造方法 - 特許庁
PATTERN SUBSTRATE, ITS MANUFACTURING METHOD, FINE MOLD AND MAGNETIC RECORDING PATTERN MEDIUM例文帳に追加
パターン基板,パターン基板の製造方法、微細金型および磁気記録用パターン媒体 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR FORMING FUNCTIONAL PATTERN, AND FUNCTIONAL PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
機能性パターン形成用感光性樹脂組成物および機能性パターン形成方法 - 特許庁
To provide a pattern dividing method, capable of forming a pattern through a high throughput/high accuracy.例文帳に追加
高スループット・高精度でパターンが形成できるパターン分割方法を提供する。 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING SUBSTRATE WITH Cu PATTERN AND SUBSTRATE WITH Cu PATTERN OBTAINED THEREBY例文帳に追加
Cuパターン付基板の製造方法及びそれにより得られるCuパターン付基板 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING STRUCTURE HAVING RUGGED PATTERN AND STRUCTURE HAVING RUGGED PATTERN例文帳に追加
凹凸パターンを有する構造体の製造方法、凹凸パターンを有する構造体 - 特許庁
PATTERN DETECTION CIRCUIT, DATA RECEIVER, OPERATING METHOD FOR THE PATTERN DETECTION CIRCUIT AND PROGRAM例文帳に追加
パターン検出回路、データ受信装置、パターン検出回路の動作方法及びプログラム - 特許庁
COMMON PATTERN DETECTING DEVICE AND PROGRAM, STORAGE MEDIUM, AND COMMON PATTERN DETECTING METHOD例文帳に追加
共通パターン発見装置とプログラム、記憶媒体、及び共通パターン発見方法 - 特許庁
MASK PATTERN TRANSFER METHOD, MASK PATTERN TRANSFER DEVICE, MANUFACTURE THEREOF, AND TRANSFER MASK例文帳に追加
マスクパタ—ン転写方法、マスクパタ—ン転写装置、デバイス製造方法及び転写マスク - 特許庁
BASIC FREQUENCY PATTERN GENERATION SYSTEM, BASIC FREQUENCY PATTERN GENERATION METHOD, AND PROGRAM例文帳に追加
基本周波数パターン生成装置、基本周波数パターン生成方法及びプログラム - 特許庁
COATING AGENT FOR MAKING PATTERN FINE, AND METHOD OF FORMING FINE PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
パターン微細化用被覆形成剤およびそれを用いた微細パターンの形成方法 - 特許庁
SURFACE-TREATING AGENT FOR PATTERN FORMATION AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE SURFACE-TREATING AGENT例文帳に追加
パターン形成用表面処理剤、及び該処理剤を用いたパターン形成方法 - 特許庁
INJECTION MOLDING METHOD FOR DEVELOPING GRAIN PATTERN OR MARBLE PATTERN AND MOLDED PRODUCT例文帳に追加
木目模様またはマーブル模様を発現する射出成形方法および成形品 - 特許庁
FIXED PATTERN NOISE ELIMINATION CIRCUIT, FIXED PATTERN NOISE ELIMINATION METHOD, PROGRAM, AND IMAGING APPARATUS例文帳に追加
固定パターンノイズ除去回路、固定パターンノイズ除去方法、プログラムおよび撮像装置 - 特許庁
MATERIAL FOR FORMING PATTERN, AND FILM ELEMENT AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
パターン形成用材料、これを用いたフィルム状エレメント及びパターン形成方法 - 特許庁
FUNCTIONAL MEMBRANE PATTERN FORMATION APPARATUS, METHOD FOR FORMING FUNCTIONAL MEMBRANE PATTERN AND ELECTRONIC INSTRUMENT例文帳に追加
機能性膜パターン形成装置、機能性膜パターンの形成方法及び電子機器 - 特許庁
COVERING FORMATION AGENT FOR PATTERN MINUTENESS, AND METHOD OF FORMING MINUTE PATTERN USING THE AGENT例文帳に追加
パターン微細化用被覆形成剤及びそれを用いた微細パターンの形成方法 - 特許庁
PATTERN SIMULATION METHOD, ITS PROGRAM, MEDIUM STORING PROGRAM, AND DEVICE FOR PATTERN SIMULATION例文帳に追加
パターンシミュレーション方法、そのプログラム、そのプログラムを記憶した媒体、およびその装置 - 特許庁
CONDUCTIVE PATTERN FORMING METHOD, CONDUCTIVE PATTERN FORMING APPARATUS, AND SUBSTRATE FOR SOLAR BATTERY例文帳に追加
導電パターン形成方法、導電パターン形成装置及び太陽電池用基板 - 特許庁
FORMING METHOD OF MICRO LINE PATTERN, AND PHOTOGRAVURE PRINTING MACHINE FOR FORMING MICRO LINE PATTERN例文帳に追加
微細線パターンの形成方法および微細線パターン形成用のグラビア印刷機 - 特許庁
PATTERN RECOGNITION METHOD AND DEVICE, PATTERN RECOGNITION PROGRAM, AND RECORDING MEDIUM THEREFOR例文帳に追加
パタン認識方法および装置ならびにパタン認識プログラムおよびその記録媒体 - 特許庁
METHOD AND DEVICE FOR EXTRACTING PATTERN AND RECORDING MEDIUM WITH RECORDED PATTERN EXTRACTION PROGRAM例文帳に追加
パターン抽出方法および装置とパターン抽出プログラムを記録した記録媒体 - 特許庁
COMPOSITION FOR FORMATION OF CONJUGATE POLYMER PATTERN AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
コンジュゲートポリマーパターン形成用組成物およびこれを用いるパターン形成方法 - 特許庁
SUBSTRATE WHERE FUNCTIONAL LAYER PATTERN IS FORMED AND METHOD FOR FORMING FUNCTIONAL LAYER PATTERN例文帳に追加
機能性層パターンが形成された基板及び機能性層パターンの形成方法 - 特許庁
RESIST COMPOSITION FOR FORMING FINE PATTERN AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE COMPOSITION例文帳に追加
微細パターン形成用レジスト組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁
SURFACE TREATING AGENT FOR PATTERN FORMATION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE TREATING AGENT例文帳に追加
パターン形成用表面処理剤、及び該処理剤を用いたパターン形成方法 - 特許庁
FINE PATTERN EVALUATING METHOD AND STORAGE MEDIUM RECORDED WITH FINE PATTERN EVALUATING PROGRAM例文帳に追加
微細パターン評価方法及び微細パターン評価プログラムを記録した記録媒体 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, PERMANENT PATTERN FORMING METHOD AND PATTERN例文帳に追加
感光性組成物及び感光性フィルム、並びに永久パターン形成方法及びパターン - 特許庁
To provide a resist pattern with a new constitution and a method for manufacturing the resist pattern.例文帳に追加
新規な構成のレジストパターン及びこのレジストパターンの作製方法を提供する。 - 特許庁
To provide a pattern forming method capable of efficiently designing a pattern.例文帳に追加
効率的なパターン設計を行うことが可能なパターン作成方法を提供する。 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE PASTE COMPOSITION FOR INSULATING PATTERN FORMATION AND INSULATING PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
絶縁パターン形成用感光性ペースト組成物及び絶縁パターンの形成方法 - 特許庁
METHOD FOR FORMING METAL FILM PATTERN, AND THIN-FILM TRANSISTOR HAVING METAL-FILM PATTERN例文帳に追加
金属膜パターンの形成方法および金属膜パターンを備えた薄膜トランジスタパネル - 特許庁
To provide an imprinted pattern forming method favorably forming a pattern.例文帳に追加
良好にパターンを形成することが可能なインプリントパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING MATERIAL, PHOTOSENSITIVE LAMINATE, AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
感光性組成物、パターン形成材料、感光性積層体、及びパターン形成方法 - 特許庁
| 例文 |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|