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pattern methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 23002件
FORMATION METHOD OF PHOTOSENSITIVE RESIST PATTERN AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
感光性レジストパターンの形成方法、及び半導体装置の製造方法 - 特許庁
PATTERN FORMATION METHOD AND MANUFACTURING METHOD OF FLAT DISPLAY PANEL USING THE SAME例文帳に追加
パターン形成方法およびそれを用いたフラットディスプレイパネルの製造方法 - 特許庁
SUBSTRATE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
基板及びその製造方法、並びにそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
SEMICONDUCTOR DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR AS WELL AS METHOD FOR FORMING MASK PATTERN例文帳に追加
半導体装置およびその製造方法並びにマスクパターンの生成方法 - 特許庁
FORMATION METHOD OF CONDUCTIVE PATTERN, AND MANUFACTURING METHOD OF THIN-FILM TRANSISTOR SUBSTRATE例文帳に追加
導電性パターンの形成方法及び薄膜トランジスタ基板の製造方法 - 特許庁
PATTERN FORMATION METHOD, DETECTING ELEMENT USING THE SAME, AND MANUFACTURING METHOD THEREOF例文帳に追加
パターン形成方法およびそれを用いた検知素子およびその製造方法 - 特許庁
APPARATUS AND METHOD FOR CORRECTING DEFECT, AND METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN SUBSTRATE例文帳に追加
欠陥修正装置、欠陥修正方法、及びパターン基板の製造方法 - 特許庁
PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING ACTIVE MATRIX SUBSTRATE USING THE SAME例文帳に追加
パターン形成方法及びそれを用いたアクティブマトリクス基板の製造方法 - 特許庁
REFERENCE PATTERN EXTRACTION METHOD, POSITIONING METHOD AND DEVICE, AND EXPOSURE APPARATUS例文帳に追加
基準パターン抽出方法、位置決め方法及び装置、並びに露光装置 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING THIN FILM SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN THEREOF例文帳に追加
薄膜半導体装置の製造方法及びそのレジストパターン形成方法 - 特許庁
PATTERN FORMING METHOD AND PHOTO-SEDIMENTATION TYPE COMPOSITION USED FOR THE METHOD例文帳に追加
パターンの形成方法、及び該方法に用いられるフォト沈降型組成物 - 特許庁
LIQUID REPELLENT REGION FORMING METHOD, PATTERN FORMING METHOD AND ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加
撥液領域の形成方法およびパターン形成方法並びに電子デバイス - 特許庁
PATTERN FORMATION METHOD USING LETTERPRESS PRINTING METHOD AND ORGANIC EL DISPLAY DEVICE例文帳に追加
凸版印刷法によるパターン形成方法および有機EL表示装置 - 特許庁
PELLICLE ATTACHING DEVICE, PELLICLE ATTACHING METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN SUBSTRATE例文帳に追加
ペリクル装着装置、ペリクル装着方法及びパターン基板の製造方法 - 特許庁
STENCIL MASK BLANK, STENCIL MASK AND MANUFACTURING METHOD THEREOF, AND PATTERN EXPOSURE METHOD例文帳に追加
ステンシルマスクブランク、ステンシルマスク、及びその製造方法、並びにパターン露光方法 - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR MANUFACTURING STRUCTURE HAVING PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING MOLD例文帳に追加
パターンを有する構造体の製造方法及び装置、モールドの製造方法 - 特許庁
MICRO HEATER, MANUFACTURING METHOD THEREOF, AND PATTERN FORMATION METHOD UTILIZING MICRO HEATER例文帳に追加
マイクロヒーター、その製造方法、及びマイクロヒーターを利用したパターン形成方法 - 特許庁
WIRING BOARD, WIRING PATTERN FORMING METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF WIRING BOARD例文帳に追加
配線基板、配線パターン形成方法および配線基板の製造方法 - 特許庁
METHOD FOR DESIGNING CIRCUIT PATTERN, METHOD FOR EXPOSING AND CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM例文帳に追加
回路パターンの設計方法、露光方法及び荷電粒子ビーム露光システム - 特許庁
EXPOSURE DEVICE, EXPOSURE METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE HAVING FINE PATTERN例文帳に追加
露光装置、露光方法、および微細パターンを有するデバイスの製造方法 - 特許庁
METHOD FOR CREATING LSI MASK DATA AND METHOD FOR FORMING LSI PATTERN例文帳に追加
LSI用マスクデータの作成方法及びLSI用パターンの形成方法 - 特許庁
METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND SEMICONDUCTOR DEVICE AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
レジストパターンの形成方法並びに半導体装置及びその製造方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR FORMING PATTERN ON EXPOSURE MASK例文帳に追加
半導体装置の製造方法及び露光用マスクへのパターン形成方法 - 特許庁
METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURED BY THE METHOD例文帳に追加
レジストパターンの形成方法とその方法により製造した半導体デバイス - 特許庁
PATTERN MOLDING METHOD FOR CONCRETE SURFACE AND DECORATIVE MAT USED IN THE METHOD例文帳に追加
コンクリート表面に対する模様成形法およびそれに用いる化粧マット - 特許庁
METHOD FOR CORRECTING MASK PATTERN FOR EXPOSURE AND METHOD FOR MANUFACTURING MASK FOR EXPOSURE例文帳に追加
露光用マスクパターンの補正方法、並びに露光用マスクの製造方法 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING GRAY TONE MASK AND THE TONE MASK, AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加
グレートーンマスクの製造方法及びグレートーンマスク、並びにパターン転写方法 - 特許庁
CHARGED BEAM DEVICE, METHOD FOR MEASURING PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
荷電ビーム装置、パターン測定方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁
MULTI-GRADATION MASK, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN AND METHOD OF MANUFACTURING OPTICAL ELEMENT例文帳に追加
多階調マスク、レジストパターンの形成方法、及び光学素子の製造方法 - 特許庁
METHOD FOR PRINTING TEST PATTERN, METHOD FOR ACQUIRING CORRECTION VALUE AND DEVICE FOR ACQUIRING CORRECTION VALUE例文帳に追加
テストパターンの印刷方法、補正値の取得方法、補正値の取得装置 - 特許庁
METHOD FOR ALIGNING SPATIAL ARRAY OF PATTERN PIECE COMPRISING MARKER METHOD例文帳に追加
マーカ方式を含むパターンピースの空間的配列を整列させるための方法 - 特許庁
PATTERN EVALUATION METHOD, EVALUATION MARK, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
パターン評価方法、評価マーク、それを用いた半導体装置の製造方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING THIN-FILM SEMICONDUCTOR AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加
薄膜半導体装置の製造方法及びそのレジストパターン形成方法 - 特許庁
MOBILE OBJECT DRIVING METHOD AND MOBILE OBJECT DRIVING SYSTEM, PATTERN FORMATION METHOD AND PATTERN FORMATION DEVICE, EXPOSURE METHOD AND EXPOSURE DEVICE, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及びパターン形成装置、露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法 - 特許庁
STAMPER, METHOD FOR FORMING UNEVEN PATTERN, AND METHOD FOR PRODUCING INFORMATION RECORDING MEDIUM例文帳に追加
スタンパー、凹凸パターン形成方法および情報記録媒体製造方法 - 特許庁
PATTERN FORMING METHOD AND MANUFACTURE OF IMAGE FORMING DEVICE USING THE METHOD例文帳に追加
パターン形成方法およびこれを用いた画像形成装置の製造方法 - 特許庁
METHOD FOR FORMING PATTERN OF MAGNETIC LAYER, AND METHOD FOR MANUFACTURING MAGNETIC HEAD OF THIN FILM例文帳に追加
磁性層パターンの形成方法および薄膜磁気ヘッドの製造方法 - 特許庁
PATTERN FORMING METHOD AND SYSTEM THEREOF, DEVICE MANUFACTURING METHOD AND DEVICE例文帳に追加
パターン形成方法および装置並びにデバイスの製造方法およびデバイス - 特許庁
MASK PATTERN MANUFACTURING METHOD USING OPTICAL PROXIMITY EFFECT CORRECTION METHOD BASED ON YIELD例文帳に追加
歩留りベースの光近接効果補正法を用いたマスク・パターン生成方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING THIN-FILM MAGNETIC HEAD, AND METHOD FOR FORMING MAGNETIC LAYER PATTERN例文帳に追加
薄膜磁気ヘッドの製造方法、ならびに磁性層パターンの形成方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE ELEMENT, METHOD OF PRODUCING RESIST PATTERN AND METHOD OF PRODUCING PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加
感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, PATTERN FORMING METHOD AND MASK USED FOR THE SAME例文帳に追加
電子装置の製造方法、パターン形成方法、及びそれに用いるマスク - 特許庁
MANUFACTURING METHOD FOR FINE PATTERN, MANUFACTURING METHOD FOR OPTICAL DEVICE, AND ALIGNER例文帳に追加
微細パターンの製造方法、光学素子の製造方法および露光装置。 - 特許庁
TRANSFER MATERIAL, FORMING METHOD OF PATTERN FILM, AND MANUFACTURING METHOD OF LIGHT-EMITTING ELEMENT例文帳に追加
転写材料、パターン膜の形成方法および発光素子の製造方法 - 特許庁
METHOD FOR FORMING PATTERN, PATTERN FORMING SYSTEM, METHOD FOR MANUFACTURING MASK, MASK MANUFACTURING SYSTEM, MASK, EXPOSURE METHOD, EXPOSURE APPARATUS, AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加
パターン作成方法及びパターン作成システム、マスク製造方法及びマスク製造システム、マスク、露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法 - 特許庁
MASK PATTERN MANUFACTURING METHOD USING OPTICAL PROXIMITY CORRECTION METHOD BASED ON YIELD例文帳に追加
歩留りベースの光近接効果補正法を用いたマスク・パターン生成方法 - 特許庁
METHOD OF FORMING PATTERN, ELECTRONIC DEVICE, MANUFACTURING METHOD THEREOF, AND ELECTRONIC APPARATUS例文帳に追加
パターン形成方法、電子デバイス及びその製造方法並びに電子機器 - 特許庁
MOLD FOR IMPRINT, METHOD FOR MANUFACTURING MOLD FOR IMPRINT AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
インプリント用モールド、インプリント用モールド製造方法およびパターン形成方法 - 特許庁
FORMING DEVICE AND METHOD OF RESIST PATTERN AND MANUFACTURING METHOD OF ARTICLE例文帳に追加
レジストパターンの形成装置および形成方法並びに物品の製造方法 - 特許庁
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