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pattern methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 23003件
OVERLAPPING ERROR MEASURING METHOD AND OVERLAPPING PATTERN例文帳に追加
重ね合わせ誤差測定方法および重ね合わせパターン - 特許庁
HIGH-SPEED DRAWING METHOD AND DEVICE OF LARGE-SCALE PATTERN DATA例文帳に追加
大規模図形データ高速描画方法および装置 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK AND PATTERN, AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
フォトマスク及びパターン作製方法及び半導体装置 - 特許庁
CIRCUIT PATTERN FORMING METHOD AND CIRCUIT PATTERN FORMING MODULE, AND MOUNTING MODULE MANUFACTURING METHOD AND MOUNTING MODULE例文帳に追加
回路パターン形成方法および回路パターン形成モジュール並びに実装モジュール製造方法および実装モジュール - 特許庁
SUPERPOSITION MEASURING PATTERN AND METHOD FOR CORRECTING SUPERPOSITION例文帳に追加
重ね合わせ測定パターンおよび重ね合わせ補正方法 - 特許庁
PATTERN OBSERVATION APPARATUS, RECIPE PREPARATION APPARATUS, AND RECIPE PREPARATION METHOD例文帳に追加
パターン観察装置,レシピ作成装置,レシピ作成方法 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE HAVING FINE PATTERN例文帳に追加
微細なパターンを有する半導体装置の製造方法 - 特許庁
EXPOSURE MASK, MASK PATTERN CORRECTION METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
露光用マスク、マスクパターン補正方法、及び、半導体装置 - 特許庁
INFRARED IMAGING APPARATUS AND FIXED PATTERN NOISE CORRECTION METHOD例文帳に追加
赤外線撮像装置および固定パターンノイズ補正方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE BY USING PHOTORESIST PATTERN例文帳に追加
フォトレジストパターンを利用した半導体素子の製造方法 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD HAVING MINUTE PATTERN例文帳に追加
細密パターンを有するプリント配線板の製造方法。 - 特許庁
GLASS SUBSTRATE WITH CIRCUIT PATTERN AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
回路パターンを有するガラス基板およびその製造方法 - 特許庁
METHOD OF DISPLAYING ELECTRONIC WATERMARK PATTERN, AND INFORMATION HOLDER例文帳に追加
電子透かしパターンの表示方法および情報保持具 - 特許庁
PATTERN ARRANGEMENT METHOD AND SILICON WAFER AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
パターン配置方法並びにシリコンウェハ及び半導体デバイス - 特許庁
METHOD FOR MEASURING PATTERN USING SCANNING ELECTRON MICROSCOPE例文帳に追加
走査型電子顕微鏡を用いたパターン計測方法 - 特許庁
MASK FOR ELECTRON BEAM EXPOSURE AND METHOD OF DESIGNING PATTERN THEREOF例文帳に追加
電子線露光用マスク及びそのパターン設計方法 - 特許庁
RESIST PATTERN SWELLING MATERIAL, MICROSCOPIC PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
レジストパターン膨潤化材料およびそれを用いた微小パターンの形成方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁
DESIGN METHOD OF MASK PATTERN, PHOTOMASK, AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
マスクパターンの設計方法、フォトマスク及び半導体装置 - 特許庁
METHOD FOR CORRECTING MASK PATTERN, PHOTOMASK AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
マスクパタ−ン補正方法、フォトマスク及び半導体装置 - 特許庁
FORMING METHOD OF INORGANIC THIN FILM PATTERN ON POLYIMIDE RESIN SUBSTRATE例文帳に追加
ポリイミド樹脂基材の無機薄膜パターン形成方法 - 特許庁
METHOD FOR CORRECTING DESIGN PATTERN DATA FOR SEMICONDUCTOR CIRCUIT, PHOTOMASK USING THE CORRECTED DESIGN PATTERN DATA, METHOD OF INSPECTING THE PHOTOMASK, AND METHOD OF MANUFACTURING PATTERN DATA FOR PHOTOMASK INSPECTION例文帳に追加
半導体回路の設計パタンデータ補正方法と、補正された設計パタンデータを用いたフォトマスク、該フォトマスクの検査方法およびフォトマスク検査用パタンデータ作製方法 - 特許庁
PATTERN OBJECT USING DIFFRACTION GRATING AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
回折格子を用いた絵柄体及びその製造方法 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE HAVING METAL GATE PATTERN例文帳に追加
金属ゲートパターンを有する半導体素子の製造方法 - 特許庁
AMINE COMPOUND, RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN例文帳に追加
アミン化合物、レジスト組成物及びパターン形成方法 - 特許庁
FORMING METHOD OF INSTEP PRODUCING PAPER PATTERN, AND UTILIZATION SYSTEM OF SHOES FOR BRIDE OBTAINED FROM INSTEP PRODUCING PAPER PATTERN OF THE METHOD例文帳に追加
製甲用紙型の形成方法、およびその方法の製甲用紙型から得られた新婦用靴の利用システム - 特許庁
SCANNING ELECTRON MICROSCOPE AND MICRO-PATTERN MEASURING METHOD例文帳に追加
走査型電子顕微鏡及び微細パターン測定方法 - 特許庁
PATTERN IDENTIFICATION APPARATUS AND ITS CONTROL METHOD, ABNORMALITIES PATTERN DETECTION APPARATUS AND ITS CONTROL METHOD, PROGRAM, AND STORAGE MEDIUM例文帳に追加
パターン識別装置及びその制御方法、異常パターン検出装置及びその制御方法、プログラム、記憶媒体 - 特許庁
NITROGEN COMPOUND, RESIST COMPOSITION, AND PATTERN-FORMING METHOD例文帳に追加
窒素化合物、レジスト組成物及びパターン形成方法 - 特許庁
SILICONE FILM FOR PRINTING PLATE AND METAL PATTERN PRINTING METHOD例文帳に追加
印刷版用シリコーン膜及び金属パターン印刷方法 - 特許庁
SPECIFIC PATTERN DETECTING METHOD OF SCANNING PROBE MICROSCOPE例文帳に追加
走査型プローブ顕微鏡の特定パターン検出方法 - 特許庁
AREA DIVISION METHOD FOR SPECTRUM WAVEFORM PATTERN, AND PROGRAM例文帳に追加
スペクトル波形パターンの領域分割方法およびプログラム - 特許庁
SEMICONDUCTOR ELEMENT AND PATTERN FORMING METHOD OF SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加
半導体素子及び半導体素子のパターン形成方法 - 特許庁
LAYOUT METHOD OF SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT TEST ELEMENT PATTERN例文帳に追加
半導体集積回路のテスト素子パターンのレイアウト方法 - 特許庁
ELECTRON BEAM CONTROL METHOD AND ELECTRON BEAM PATTERN WRITER例文帳に追加
電子ビーム制御方法および電子ビーム描画装置 - 特許庁
STYRENE DERIVATIVE, POLYMER, ITS PRODUCTION METHOD, PATTERN FORMING MATERIAL, PERMANENT PATTERN, AND ITS PRODUCTION METHOD例文帳に追加
スチレン誘導体、ポリマー及びその製造方法、パターン形成材料、並びに、永久パターン及びその形成方法 - 特許庁
PEAK POSITION CORRECTION METHOD AND PROGRAM FOR SPECTRUM WAVEFORM PATTERN例文帳に追加
スペクトル波形パターンのピーク位置補正方法およびプログラム - 特許庁
a lacquer work made by using a method of painting over a paper pattern 例文帳に追加
型紙を用いて描く工程を経てできた蒔絵 - EDR日英対訳辞書
a method of engraving a pattern for dyeing named 'kiribori', that is, engraving with a gimlet 例文帳に追加
錐彫りという,染色に使う型紙の彫り方 - EDR日英対訳辞書
PATTERN FORMING APPARATUS AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
パターン形成装置およびパターン形成装置の製造方法 - 特許庁
GRINDING MACHINE AND GRINDING METHOD OF WAFER PATTERN FOR REPRODUCING WAFER例文帳に追加
ウェーハ再生用ウェーハパターン研削機及び研削方法 - 特許庁
IRREGULARITY INSPECTION DEVICE AND IRREGULARITY INSPECTION METHOD FOR CYCLIC PATTERN例文帳に追加
周期性パターンのムラ検査装置及びムラ検査方法 - 特許庁
POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
ポジ型ホトレジスト組成物およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND NEGATIVE PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
感光性樹脂組成物およびネガ型パターン形成方法 - 特許庁
PATTERN FORMATION METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME例文帳に追加
パターン形成方法およびこれを用いた半導体装置 - 特許庁
COMPOUND, NEGATIVE RESIST COMPOSITION, AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
化合物、ネガ型レジスト組成物およびパターン形成方法 - 特許庁
POLYMERIC COMPOUND, RESIST MATERIAL, AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法 - 特許庁
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