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pattern methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 23003件
CENTER LINE FORMATION DEVICE OF BELT-LIKE PATTERN, CENTER LINE FORMATION METHOD OF BELT-LIKE PATTERN, AND PROGRAM FOR REALIZING CENTER LINE FORMATION METHOD OF BELT-LIKE PATTERN例文帳に追加
帯状パターンの中心線形成装置、帯状パターンの中心線形成方法および帯状パターンの中心線形成方法を実現するためのプログラム - 特許庁
PHOTOMASK PATTERN VERIFYING METHOD, PHOTOMASK PATTERN VERIFYING DEVICE, METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT, PHOTOMASK PATTERN VERIFICATION CONTROL PROGRAM AND READABLE STORAGE MEDIUM例文帳に追加
フォトマスクパターン検証方法、フォトマスクパターン検証装置、半導体集積回路の製造方法、フォトマスクパターン検証制御プログラムおよび可読記憶媒体 - 特許庁
To provide a novel pattern forming method by which a high-definition pattern can easily be formed, and to provide a photo-sedimentation type composition suitable for such a pattern forming method.例文帳に追加
高精細パターンを簡便に形成できる新規なパターン形成方法と、このようなパターン形成方法に好適なフォト沈降型組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a method and an apparatus for manufacturing a pattern sheet which transmit a pattern of a pattern roll at high accuracy by an injection molding method.例文帳に追加
押出成形法において高い精度でパターンロールのパターンを転写させることのできるパターンシート製造方法及び製造装置を提供する。 - 特許庁
To provide a method and apparatus for manufacturing an optical pattern sheet, which transfer a pattern of a pattern roll with high accuracy in an extrusion molding method.例文帳に追加
押出成形法において高い精度でパターンロールのパターンを転写させることのできる光学パターンシート製造方法及び製造装置を提供する。 - 特許庁
To provide a method and apparatus for producing a pattern sheet which can transfer a pattern of a pattern roll 14 in high accuracy in an extrusion molding method.例文帳に追加
押出成形法において高い精度でパターンロール14のパターンを転写させることのできるパターンシート製造方法及び製造装置を提供する。 - 特許庁
PROCESSING METHOD FOR LINE PATTERN USING CONVOLUTION KERNEL, PROCESSOR FOR LINE PATTERN, AND MEDIUM STORED WITH PROGRAM FOR EXECUTING THE PROCESSING METHOD FOR LINE PATTERN例文帳に追加
コンボリューションカーネルを利用したラインパターンの処理方法、ラインパターンの処理装置及びラインパターンの処理方法を実行するためのプログラムを記録した媒体 - 特許庁
TEST PATTERN GENERATOR, TEST CIRCUIT TESTER, TEST PATTERN GENERATION METHOD, TEST CIRCUIT TESTING METHOD, TEST PATTERN GENERATION PROGRAM, TEST CIRCUIT TESTING PROGRAM, AND RECORDING MEDIUM例文帳に追加
試験パターン生成装置、テスト回路試験装置、試験パターン生成方法、テスト回路試験方法、試験パターン生成プログラム、テスト回路試験プログラム、および記録媒体 - 特許庁
To provide a pattern forming method which can increase a productivity by increasing a pattern accuracy during formation of a pattern, and also an exposure apparatus using the method.例文帳に追加
パターン形成において、パターン精度を向上させることができ、生産性を向上させることができるパターン形成方法及び露光装置を提供する。 - 特許庁
To provide a pattern recognition method, a character recognition method, a pattern recognition program and a character recognition program for efficiently recognizing a pattern.例文帳に追加
効率的にパターンを認識する処理を行うことができるパターン認識方法、文字認識方法、パターン認識プログラムおよび文字認識プログラムを提供できる。 - 特許庁
To give a resist pattern an excellent etching resistance, concerning the method of forming a minute pattern including a new processing method for a resist pattern.例文帳に追加
本発明はレジストパターンの新規な処理方法を含む微細パターン形成方法に関し、レジストパターンに優れたエッチング耐性を与えることを目的とする。 - 特許庁
To provide an imaging method which enables the certain detection of the flaw in a pattern at a high speed, a pattern inspection method, an imaging apparatus and a pattern inspection device.例文帳に追加
パターンにおける欠陥を確実かつ高速に検出可能な、撮像方法、パターン検査方法、撮像装置、及びパターン検査装置を提供する。 - 特許庁
METALLIC FILM-FORMING METHOD, METALLIC FILM-FORMING SUBSTRATE, METALLIC FILM, METALLIC PATTERN-FORMING METHOD, METALLIC PATTERN-FORMING SUBSTRATE, METALLIC PATTERN, AND POLYMER LAYER-FORMING COMPOSITION例文帳に追加
金属膜形成方法、金属膜形成用基板、金属膜、金属パターン形成方法、金属パターン形成用基板、金属パターン、及びポリマー層形成用組成物 - 特許庁
To provide a pattern forming method capable of forming a pattern ensuring compatibility between fine pattern formability and film hardness by an optical nano-imprint method.例文帳に追加
光ナノインプリント法によって、微細パターン形成性および膜硬度を両立したパターンを形成することが可能なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
TRANSFER MATERIAL, PATTERN FILM FORMING METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF LIGHT-EMITTING ELEMENT例文帳に追加
転写材料、パターン膜の形成方法および発光素子の製造方法 - 特許庁
METHOD FOR FORMING ORGANIC FILM PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING SOLID-STATE IMAGE PICKUP DEVICE例文帳に追加
有機膜パターンの形成方法及び固体撮像素子の製造方法 - 特許庁
DEVICE AND METHOD FOR CORRECTING DEFECT, AND PATTERN SUBSTRATE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
欠陥修正装置、欠陥修正方法及びパターン基板の製造方法 - 特許庁
EXPOSURE MASK AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND METHOD OF FORMING TRANSFER PATTERN例文帳に追加
露光マスクおよびその製造方法、ならびに転写パターンの形成方法 - 特許庁
PATTERN FORMING METHOD AND DEVICE, ELECTRONIC EQUIPMENT AND MANUFACTURING METHOD OF SAID DEVICE例文帳に追加
パターン形成方法、デバイスおよび電子機器並びにデバイスの製造方法 - 特許庁
STAMPER, IRREGULAR PATTERN FORMATION METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF INFORMATION RECORDING MEDIUM例文帳に追加
スタンパ、凹凸パターン形成方法及び情報記録媒体の製造方法 - 特許庁
PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL DISPLAY THEREWITH例文帳に追加
パターン形成方法及びこれを用いた液晶表示素子の製造方法 - 特許庁
METHOD FOR FORMING PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING LCD DEVICE USING THE SAME例文帳に追加
パターン形成方法及びそれを用いた液晶表示素子の製造方法 - 特許庁
METHOD OF FORMING ORGANIC MATERIAL PATTERN AND METHOD OF MANUFACTURING THIN FILM TRANSISTOR例文帳に追加
有機材料パターンの形成方法及び薄膜トランジスタの製造方法 - 特許庁
CASING WITH NOISE CANCELLATION FUNCTION, NOISE CANCELLATION METHOD, AND NOISE CANCELLATION PATTERN PREPARING METHOD例文帳に追加
消音機能付筐体、消音方法及び消音パターン作成方法 - 特許庁
METHOD FOR FORMING EMBROIDERY PATTERN AND FABRIC PRODUCT OBTAINED BY USING THE METHOD例文帳に追加
刺繍模様の形成方法及びその方法を使用した布製製品 - 特許庁
MOVING BODY SYSTEM AND MOVING BODY DRIVING METHOD, PATTERN FORMING DEVICE AND PATTERN FORMING METHOD, EXPOSURE DEVICE AND EXPOSURE METHOD, AND DEVICE METHOD FOR MANUFACTURING例文帳に追加
移動体システム及び移動体駆動方法、パターン形成装置及びパターン形成方法、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 - 特許庁
INSPECTION METHOD AND DEVICE OF PATTERN, AND MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加
パターンの検査方法、パターンの検査装置および電子デバイスの製造方法 - 特許庁
METHOD FOR PRINTING TEST PATTERN, METHOD FOR ACQUIRING CORRECTION VALUE, AND APPARATUS FOR ACQUIRING CORRECTION VALUE例文帳に追加
テストパターンの印刷方法、補正値の取得方法、補正値の取得装置 - 特許庁
PATTERN TRANSFER METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, AND LIQUID EJECTION SYSTEM例文帳に追加
パターン転写方法、電子装置の製造方法、並びに液体噴射装置 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING THIN FILM PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING MICRODEVICE USING IT例文帳に追加
薄膜パターンの作製方法、及び、それを用いたマイクロデバイスの製造方法 - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR MANUFACTURING PATTERN ROLL AND METHOD FOR MAKING OPTICAL SHEET例文帳に追加
パターンロールの製作方法及び装置並びに光学シートの製膜方法 - 特許庁
STAMPER, CONCAVO-CONVEX PATTERN FORMATION METHOD AND INFORMATION RECORDING MEDIUM MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
スタンパー、凹凸パターン形成方法および情報記録媒体製造方法 - 特許庁
DEFECT CORRECTION DEVICE, DEFECT CORRECTION METHOD, AND PATTERN SUBSTRATE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
欠陥修正装置、欠陥修正方法、及びパターン基板の製造方法 - 特許庁
APPARATUS AND METHOD FOR CORRECTING MASK PATTERN, AND APPARATUS AND METHOD FOR EXPOSURE CORRECTION例文帳に追加
マスクパターンの補正装置及び方法、並びに露光補正装置及び方法 - 特許庁
METHOD OF EVALUATING PATTERN SHAPE, PROGRAM, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
パターン形状評価方法、プログラムおよび半導体装置の製造方法 - 特許庁
PATTERN FORMATION METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME例文帳に追加
パターン形成方法およびこれを用いた半導体装置の製造方法 - 特許庁
METHOD FOR FORMING FILM PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE, AND ORGANIC ELECTROLUMINESCENCE DEVICE例文帳に追加
膜パターンの形成方法、デバイスの製造方法、有機エレクトロルミネッセンス装置 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING METALLIC PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING CONTACT PROBE AND CONTACT PROBE例文帳に追加
金属パターンの製造方法、コンタクトプローブの製造方法及びコンタクトプローブ - 特許庁
FORMING METHOD FOR RESIST PATTERN AND MANUFACTURING METHOD FOR PERPENDICULAR MAGNETIC RECORDING HEAD例文帳に追加
レジストパターンの形成方法および垂直磁気記録ヘッドの製造方法 - 特許庁
METHOD AND PROGRAM FOR PROFILE SIMULATION, AND MASK PATTERN CREATION METHOD例文帳に追加
形状シミュレーション方法、形状シミュレーションプログラム及びマスクパターン作成方法 - 特許庁
A wiring pattern is formed by the optical imprint method or the photolithography method.例文帳に追加
光インプリント法,あるいはフォトリソグラフィー法により配線パターンを形成する。 - 特許庁
APPARATUS AND METHOD FOR DETECTING CIRCUIT PATTERN, AND APPARATUS AND METHOD FOR INSPECTION例文帳に追加
配線パターンの検出装置、検出方法、検査装置、及び検査方法 - 特許庁
RESIST PATTERN FORMING METHOD AND METHOD OF MANUFACTURING PATTERNED SUBSTRATE USING THE SAME例文帳に追加
レジストパターン形成方法およびそれを用いたパターン化基板の製造方法 - 特許庁
OPTICAL LENS BARREL, ELECTRON IRRADIATION METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF MASK DRAWING PATTERN例文帳に追加
光学鏡筒、電子照射方法、及びマスク描画パターンの製造方法 - 特許庁
PATTERN SUPERIMPOSING METHOD, FILM PROCESSING DEVICE AND MANUFACTURING METHOD OF FILM LAMINATED BODY例文帳に追加
パターン合わせ方法、フィルム加工装置及びフィルム積層体の製造方法 - 特許庁
TEST PATTERN FORMING METHOD, ETCHING CHARACTERISTIC MEASURING METHOD, AND CIRCUIT USING SAME例文帳に追加
テストパターン形成方法、それを用いたエッチング特性測定方法及び回路 - 特許庁
PHASE SHIFT MASK, METHOD FOR PRODUCING THE SAME AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
位相シフトマスク、その製造方法、およびこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
METHOD OF FORMING PHOTORESIST PATTERN, AND METHOD OF ELECTRICALLY FORMING ISOLATED SHAPE例文帳に追加
フォトレジストパターンの形成方法および孤立形状の電気的形成方法 - 特許庁
METHOD OF FORMING PATTERN, METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND MASK SET FOR EXPOSURE例文帳に追加
パターン形成方法、半導体装置の製造方法及び露光用マスクセット - 特許庁
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