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pattern methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 23003件
POLYMERIC COMPOUND, RESIST MATERIAL, AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE LIFT-OFF RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加
ポジ型リフトオフレジスト組成物及びパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁
IRREGULARITY INSPECTION DEVICE AND IRREGULARITY INSPECTION METHOD FOR CYCLIC PATTERN例文帳に追加
周期性パターンのムラ検査装置及びムラ検査方法 - 特許庁
RESIST COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加
レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
ORIGINAL PLATE FOR PATTERN ALIGNMENT LAYER FOR THREE-DIMENSIONAL DISPLAY, PRODUCTION METHOD OF THE ORIGINAL PLATE, AND PRODUCTION METHOD OF PATTERN ALIGNMENT LAYER AND PRODUCTION METHOD OF PATTERN RETARDATION FILM USING THE ORIGINAL PLATE例文帳に追加
3次元表示用パターン配向層用原版、その製造方法ならびにそれを用いたパターン配向膜の製造方法およびパターン位相差フィルムの製造方法 - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR INSPECTING ELECTRODE PATTERN例文帳に追加
電極パターン検査方法及び電極パターン検査装置 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING MULTILAYER THIN-FILM PATTERN, AND DISPLAY DEVICE例文帳に追加
多層薄膜パターン及び表示装置の製造方法 - 特許庁
PATTERN FORMING METHOD AND RESIN COMPOSITION USED THEREFOR例文帳に追加
パターン形成方法及びそれに用いる樹脂組成物 - 特許庁
MOLD FOR PATTERN FORMING, METHOD FOR RELEASING TREATMENT OF MOLD FOR PATTERN FORMING, AND EVALUATION METHOD OF MOLD RELEASE AGENT CONCENTRATION例文帳に追加
パターン形成用モールド,パターン形成用モールドの離型処理方法および離型剤濃度の評価方法 - 特許庁
DROPLET DISCHARGE DEVICE, DROPLET DISCHARGE METHOD, PATTERN FORMING METHOD, PATTERN FORMING MEMBER, ELECTRO-OPTIC DEVICE, AND ELECTRONIC EQUIPMENT例文帳に追加
液滴吐出装置、液滴吐出方法、パターン形成方法、パターン形成部材、電気光学装置、電子機器 - 特許庁
CONDUCTIVE PATTERN AND METHOD FOR FORMING THE SAME例文帳に追加
導電性パターンの形成方法及び導電性パターン - 特許庁
PATTERN FORMATION METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME例文帳に追加
パターン形成方法およびそれを用いた半導体装置 - 特許庁
METHOD OF BRINGING LAND PATTERN OF PRINTED CIRCUIT BOARD INTO CONTACT例文帳に追加
プリント回路基板のランドパターンを接触させる方法 - 特許庁
METHOD AND SYSTEM FOR PATTERN INSPECTION USING ELECTRON BEAM例文帳に追加
電子線を用いたパターン検査方法及びその装置 - 特許庁
CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST MATERIAL AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加
化学増幅型レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁
RESIST COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
TRIAL ARTICLE WITH MINUTE ROUGHNESS PATTERN AND PREPARING METHOD THEREOF例文帳に追加
微細凹凸模様付試作品及びその作製方法 - 特許庁
PATTERN FORMATION METHOD AND DEVICE AND PLASMA DISPLAY PANEL例文帳に追加
パターン形成方法および装置ならびにプラズマディスプレイパネル - 特許庁
METHOD OF PRESENTING GRAIN PATTERN FOR WOODY SYNTHETIC MATERIAL例文帳に追加
木質合成材に対する木目模様の表出方法 - 特許庁
METHOD FOR INSPECTING PATTERN SHAPE OF TRANSFER MASK FOR ELECTRON BEAM例文帳に追加
電子線用転写マスクのパターン形状の検査方法 - 特許庁
APPARATUS OF FORMING MASK PATTERN, APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING HIGH-RESOLUTION MASK AS WELL AS METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加
マスクパターンの作成装置、高解像度マスクの作製装置及び作製方法、並びにレジストパターン形成方法 - 特許庁
To provide a method for forming pattern data for lithography which forms light exposure pattern data and a charge particle drawing pattern data by separating a pattern suitable for light exposure and a pattern inadequate for the same.例文帳に追加
光露光に適したパターンと、不適切なパターンを分離して光露光パターンデータと荷電粒子描画パターンデータを生成するリソグラフィ用パターンデータ生成方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a pattern forming material having high sensitivity and excellent developability and giving a high resolution pattern, and to provide a pattern forming apparatus equipped with the pattern forming material and a pattern forming method.例文帳に追加
高感度で、現像性に優れ、高解像度なパターンが得られるパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及びパターン形成方法の提供。 - 特許庁
Furthermore, following means are also adopted, wherein, in the pattern for strain measurement, a grid pattern for a moire method and a dot pattern for an image correlation method are piled together, and the pattern is constituted of a milli-scale pattern and a nano-scale pattern.例文帳に追加
また、前記歪み計測用パターンにおいて、モアレ法用のグリッドパターンと画像相関法用のドットパターンとが重ねられてなること、ミリスケール用パターンと、ナノスケール用パターンとにより構成されていることを特徴とする手段を採用した。 - 特許庁
To provide an evaluation method for mask pattern capable of evaluating accurately a proximity-effect by considering a change in the amount of flare deteriorating the dimension of the circuit pattern, a pattern correction method and a mask pattern generator.例文帳に追加
パターン評価方法、パターン補正方法及びパターン発生装置に関し、回路パターン寸法を劣化させるフレア量変化を考慮して近接効果を精密に評価する。 - 特許庁
This determination method employs a taboo searching method by which it is confirmed that a searched combination pattern does not coincide with a taboo when combination patterns present between the searched combination pattern and a combination pattern the prescribed number of times before the searched combination pattern are defined as the taboo.例文帳に追加
探索した組合せパターンが、それ以前の所定回数前までの組合せパターンをタブーとして該タブーに合致しないことを確認するタブー探索法を適用してなる。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of relief pattern capable of manufacturing a complicated pattern at high quality by performing high-resolution pattern plotting with respect to the manufacturing method of relief pattern using charged particle beams of an EB plotting apparatus and the like.例文帳に追加
EB描画装置などの荷電粒子ビームを用いたレリーフパターンの作製方法において、解像度の高いパターン描画を行い複雑なパターンを高品質に作製する。 - 特許庁
To provide a method of forming a mask pattern, which prevents pattern collapse of the mask pattern by omitting an etching process of an antireflection film when forming the mask pattern by a Side Wall Patterning (SWP) method.例文帳に追加
SWPによりマスクパターンを形成する場合に、反射防止膜のエッチング工程を省略し、マスクパターンのパターン倒れを防止することができるマスクパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a pattern forming material having high sensitivity and capable of forming a high-definition pattern, a pattern forming apparatus equipped with the pattern forming material, and a permanent pattern forming method using the pattern forming material.例文帳に追加
感度が高く、かつ高精細なパターンが形成可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いた永久パターン形成方法の提供。 - 特許庁
STRUCTURE INSPECTION METHOD, PATTERN FORMING METHOD, PROCESS CONDITION DETERMINING METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
構造検査方法、パターン形成方法、プロセス条件決定方法、及び半導体装置の製造方法 - 特許庁
PATTERN EVALUATION METHOD, ALIGNMENT METHOD, INSPECTION METHOD OF INSPECTION APPARATUS, AND CONTROL METHOD OF SEMICONDUCTOR-MANUFACTURING PROCESS例文帳に追加
パターン評価方法,位置合わせ方法、検査装置の検査方法,半導体製造工程の管理方法 - 特許庁
To provide a pattern forming material capable of forming a high-definition pattern and excellent in tenting property and in the shape of a formed pattern; a pattern forming apparatus with the pattern forming material; and a pattern forming method using the pattern forming material.例文帳に追加
高精細なパターンを形成可能であり、しかもテント性と、形成したパターンの形状とに優れるパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁
The method utilizes prescribed reproduced signals, a first pattern which corresponds to the signal waveform pattern of the reproduced signals and an arbitrary pattern (a second pattern or a third pattern) which is other than the first pattern and corresponds to the signal waveform pattern of the reproduced signals.例文帳に追加
所定の再生信号、この再生信号の信号波形パターンに対応した第1のパターン、およびこの第1のパターン以外であって再生信号の信号波形パターンに対応した任意のパターン(第2または第3のパターン)が用いられる。 - 特許庁
To provide a mask pattern correcting method which can prevent a shift in a pattern position due to mask deformation due to gravity, and to provide a mask pattern manufacturing method and a mask.例文帳に追加
重力によるマスクの変形によりパターンの位置がずれるのを防止できるマスクパターン補正方法、マスク製造方法およびマスクを提供する。 - 特許庁
To provide a pattern inspection apparatus for improving the inspection accuracy for inspecting a pattern, a pattern inspection method and a manufacturing method of a microstructure.例文帳に追加
本発明は、パターン検査の検査精度を向上させることができるパターン検査装置、パターン検査方法、および微細構造体の製造方法を提供する。 - 特許庁
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