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pattern processingの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 4002件
To obtain both a polymer compound useful as a base resin for a positive type resist material and the positive type resist material containing the polymer compound, having excellent uniformity in fine processing, high sensitivity/high resolution, excellent pattern shape, excellent heat resistance film remaining properties, adhesivity to a substrate and storage stability.例文帳に追加
下記構造式(1)で示される繰り返し単位を有し、ポリスチレン換算重量平均分子量が1,000〜30,000であるノボラック樹脂の水酸基の水素原子の一部が1,2−ナフトキノンジアジドスルホニルエステル基で置換され、かつ残りの水酸基の一部の水素原子が−CR^1R^2OR^3で示される酸不安定基により置換及び/又は−CR^4R^5−O−R^6−O−CR^7R^8−で示される架橋基により分子内又は分子間で架橋されていることを特徴とする高分子化合物。 - 特許庁
In the imaging apparatus for forming an image on a recording medium by scanning it with a light beam at a sub-scanning pitch smaller than the diameter of the light beam, a pattern detecting/processing circuit (16) detects the values of an image data sequence at a dot position being recorded and at the same main scanning positions above and below the dot position being recorded.例文帳に追加
光ビーム径よりも小さな副走査ピッチで光ビームにより記録媒体上を走査して記録媒体上に画像を形成する画像形成装置において、パターン検出処理回路(16)が、記録しようとするドット位置と、記録しようとするドット位置の上下の同一主走査位置の画像データ列の値を検出し、その画像データ列の値が、上から順にオフ,オフ,オンまたはオン,オフ,オフである場合には、光量切り換え信号により、記録しようとするドット位置に、独立した横1ドットラインを形成する画像形成しきい値より小さい光強度の光ビームを照射させる構成にした。 - 特許庁
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