| 例文 |
"pattern processing"を含む例文一覧と使い方
該当件数 : 105件
PATTERN-PROCESSING WORK CONSIGNMENT SYSTEM例文帳に追加
図柄加工作業委託システム - 特許庁
A pattern processing part 2 performs image (scene) recognition by pattern processing.例文帳に追加
パターン処理部2は、パターン処理による画像(場面)認識を行う。 - 特許庁
THREE-DIMENSIONAL POLYGON SURFACE PATTERN PROCESSING SYSTEM例文帳に追加
3次元ポリゴン表面模様処理方式 - 特許庁
LIGHT GUIDE PLATE PATTERN PROCESSING METHOD AND MACHINE例文帳に追加
導光板のパターン加工方法及びその装置 - 特許庁
PATTERN PROCESSING METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING DISPLAY PANEL例文帳に追加
パターン加工方法及び表示パネルの製造方法 - 特許庁
PATTERN INSPECTION METHOD, PATTERN INSPECTION APPARATUS AND PATTERN PROCESSING APPARATUS例文帳に追加
パターン検査方法,パターン検査装置及びパターン処理装置 - 特許庁
PATTERN-PROCESSING MACHINE, METHOD FOR PATTERNING AND PATTERNED CLOTH例文帳に追加
模様付加工機及び模様付方法並びに模様付布 - 特許庁
FINAL PATTERN PROCESSING METHOD IN PATTERN VARIABLE DISPLAY DEVICE例文帳に追加
図柄可変表示装置における最終停止図柄処理方法 - 特許庁
PRINTED WIRING BOARD PATTERN DESIGN DEVICE AND MULTILAYER PATTERN PROCESSING METHOD例文帳に追加
プリント配線板パターン設計装置及び多層パターン処理方法 - 特許庁
To easily measure pattern processing precision of a colored layer.例文帳に追加
着色層のパターン加工精度を容易に測定可能とする。 - 特許庁
A conversion pattern deciding part 53 selects the first code pattern or the second code pattern on the basis of information from the RLL conversion pattern processing part 51, the replacement pattern processing part 52, and the replacement pattern processing control part 54.例文帳に追加
変換パターン決定部53は、RLL変換パターン処理部51、置換パターン処理部52、そして置換パターン処理制御部54からの情報にもとづいて、第1の符号パターンまたは第2の符号パターンを選択する。 - 特許庁
BOX TREE PATTERN PROCESSING MACHINE, PROGRAM FOR CONTROLLING THE SAME AND TIMEPIECE COMPONENT例文帳に追加
ツゲ模様加工機およびその制御用プログラムならびに時計部品 - 特許庁
Furthermore, it is preferable that a sizing agent is contained in the pattern processing paper.例文帳に追加
更には、当該模様加工紙にはサイズ剤が含有されていると良い。 - 特許庁
MEMBRANE MASK, PATTERN PROCESSING METHOD USING THE SAME, AND METHOD OF MANUFACTURING MEMBRANE MASK例文帳に追加
メンブレンマスク、これを用いたパターン処理方法、およびメンブレンマスクの製造方法 - 特許庁
Thus, pattern processing can be performed with uniformity on a base film, after the development.例文帳に追加
よって、現像処理後に行う下地膜のパターン加工を均一性良く行うことができる。 - 特許庁
PATTERN PROCESSOR, PARTIAL/FULL APERTURE MASK, PATTERN PROCESSING METHOD, AND FABRICATING METHOD OF STENCIL MASK例文帳に追加
パターン処理装置、部分一括アパーチャマスク、パターン処理方法およびステンシルマスクの作製方法 - 特許庁
To prevent the lowering of the product yield by facilitating pattern processing with high resolution.例文帳に追加
高い解像度でパターンを加工することが容易であって、製品歩留まりの低下を防止する。 - 特許庁
A replacement pattern processing control part 54 controls permission of conversion for the prescribed second code pattern.例文帳に追加
置換パターン処理制御部54は、所定の第2の符号パターンに対する変換許可を制御する。 - 特許庁
TAPE WITH ADHESIVE FOR SEMICONDUCTOR DEVICE AND ITS MANUFACTURING METHOD AND PATTERN PROCESSING TAPE USING THE SAME例文帳に追加
半導体装置用接着剤付きテープおよびその製造方法、それを用いたパターン加工テープ - 特許庁
To manufacture a plasma display panel which enables a high aspect ratio and a pattern processing of high precision.例文帳に追加
高アスペクト比かつ高精度のパターン加工を可能にするプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供する。 - 特許庁
An inverse conversion pattern deciding part 44 decides the input inverse conversion pattern based on output from the pattern detection expectation processing part 43, the minimum run continuation limit inverse conversion pattern processing part 42, and the inverse conversion pattern processing part 41.例文帳に追加
逆変換パターン決定部44は、パターン検出予想処理部43、最小ラン連続制限逆変換パターン処理部42、逆変換パターン処理部41からの出力に基づいて、入力逆変換パターンを決定する。 - 特許庁
To provide a pattern-processing work consignment system, allowing a work consignee to select a desirable pattern, and a work consignor to efficiently consign pattern processing work, while shortening consignment term.例文帳に追加
作業受託者にとっては好みの図柄を選ぶことができ、作業委託者にとっては図柄データ加工作業を効率よく委託できて委託期間も短くて済む図柄加工作業委託システムを提供すること。 - 特許庁
Two signals to be output from the sine pattern processing part 22B and the cosine pattern processing part 22A are combined by a synthesis processing part 24 and a continuous wave (a phase shift continuous wave) having a prescribed phase pattern is formed.例文帳に追加
正弦パターン処理部22Bと余弦パターン処理部22Aから出力される2つの信号が合成処理部24において合成され、所定の位相パターンを備えた連続波(位相シフト連続波)が形成される。 - 特許庁
To provide a pattern processing method capable of improving pattern precision of a dry film by being applied to pattern processing in manufacture of a display panel and a printed board of, for example, a plasma display panel etc., using the dry film.例文帳に追加
ドライフィルムを用いた例えばプラズマディスプレイパネル等の表示パネル、プリント基板の製造におけるパターン加工に適用して、ドライフィルムのパターン精度を向上させることができるパターン加工方法を提案する。 - 特許庁
To provide a pattern processor, a pattern processing method and program for reducing processing quantity, and for increasing a recognition rate.例文帳に追加
処理量が少なく、認識率を高めることができるパターン処理装置、方法およびプログラムを提供すること。 - 特許庁
To provide a pattern-processing machine capable of patterning a typical pattern simply, rapidly and in a large amount.例文帳に追加
定型的な模様を簡単にかつ高速でしかも大量に付することができる模様付加工機を提供する。 - 特許庁
To provide a box tree pattern processing machine shortening a processing time, a program for controlling the same and a timepiece component.例文帳に追加
加工時間が短縮されるようになるツゲ模様加工機およびその制御用プログラムならびに時計部品の提供。 - 特許庁
A probability fluctuation pattern processing part 100 determines the number of probability fluctuation patterns indicating shifting to the probability fluctuation in accordance with the degree of the success.例文帳に追加
確変図柄処理部100は、その成功度合いに応じて確変に移行することを示す確変図柄の数を決定する。 - 特許庁
To provide a pattern processing paper which keeps a Japanese paper-like feeling and is excellent in slipping prevention, smoothness and printability.例文帳に追加
和紙調の風合いを保持しつつ、防滑性、平滑度及び印刷適性に優れた模様加工紙の提供を目的とするものである。 - 特許庁
This final stopping pattern processing commonly uses a part of a program for the pattern variation control processing in the special pattern control part.例文帳に追加
この最終停止図柄処理は、特別図柄制御部における図柄変動制御処理用のプログラムの一部を共通に使用する。 - 特許庁
A pattern processing section 204 refers to the pattern DB206 from the generated activation pattern and extracts a control signal.例文帳に追加
パターン処理部204は、上述の生成した活性化パターンに基づいてパターンDB206を参照し、制御信号を抽出する。 - 特許庁
The substrate processing method comprises an organic film pattern processing treatment for processing the organic film pattern 901a formed on a substrate 901.例文帳に追加
基板901上に形成された有機膜パターン901aを加工する有機膜パターン加工処理を備える基板処理方法である。 - 特許庁
A sine pattern processing part 22B performs processing based on a sine pattern with respect to an RF wave to be obtained from an RF wave oscillator 20.例文帳に追加
正弦パターン処理部22Bは、RF波発振器20から得られるRF波に対して、正弦パターンに基づいた処理を施す。 - 特許庁
To provide a pattern processing method for executing high speed and highly precise pattern processing by independently executing division processing for each processing unit region, and verifying the arrangement pattern of each processing unit region before deciding it and a program for executing the processing method.例文帳に追加
処理単位領域毎に分割処理を独立して行い、かつ処理単位領域毎の配置パターンの決定前に検証を行うことにより、高速かつ高精度なパターン処理を実現することができるパターン処理方法および当該処理方法を実施するプログラムを提供する。 - 特許庁
To provide a pattern processing method and a pattern processing apparatus capable of directly processing a membrane with a high degree of accuracy by irradiating a light pervious to a mask between a light source and a substrate to the membrane on the surface of the substrate and at the same time, capable of precisely masking and processing a large-sized substrate with a required minimum sized-mask.例文帳に追加
光源と基板との間のマスクを透過した光を基板表面の薄膜に照射し、薄膜を直接高精度に加工できると共に、必要最小限の大きさのマスクで大型サイズの基板も適切にマスクしつつ加工できるパターン加工方法及び加工装置を提供する。 - 特許庁
A replacement pattern processing control part 54 controls permission of conversion for the prescribed code pattern of the second code pattern converted by the second table.例文帳に追加
置換パターン処理制御部54は、第2のテーブルにより変換された第2の符号パターンの、所定の符号パターンに対する変換許可を制御する。 - 特許庁
To provide a flexible metal laminate which enables a region for use to be selected depending on necessary physical properties, in circuit pattern processing.例文帳に追加
回路パターン加工において、必要とする物性に応じて使用する部位を選択することができるフレキシブル金属積層体を提供すること。 - 特許庁
To provide a pattern processing method with which sufficient etching resistance of a resist film is ensured without scanning with an ultraviolet laser beam.例文帳に追加
紫外レーザビームの走査を行うことなく、かつレジスト膜の十分なエッチング耐性を確保することができるパターン加工方法を提供する。 - 特許庁
Then, the normal pattern processing performed by one common program is repeatedly performed for the number of the variable winning devices to be processed (Sa3-Sa4).例文帳に追加
そして、1つの共通プログラムにより実行される普通図柄処理を、処理される変動入賞装置の数だけ繰り返し行う(ステップSa3〜ステップSa4)。 - 特許庁
By carrying out pattern processing with respect to the polysilicon film 400, both the light shielding part 300 and the gate electrodes 22G, 23G, 24G, 25G are simultaneously formed.例文帳に追加
そして、そのポリシリコン膜400についてパターン加工することによって、遮光部300と各ゲート電極22G,23G,24G,25Gとの両者を同時に形成する。 - 特許庁
A replacement pattern processing part 52 converts a part coincident with a second data pattern of input data to a corresponding second code pattern according to a second table.例文帳に追加
置換パターン処理部52は、第2のテーブルに従って、入力されたデータの第2のデータパターンと一致する部分を、対応する第2の符号パターンに変換する。 - 特許庁
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