「"pattern processing"」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

This resistor network creation device is provided with, a division part for acquiring data of a wiring pattern including its connecting location information with a via to divide the wiring pattern into rectangular patterns; a division pattern processing part for setting nodes and resistors so that they correspond to the divided rectangular patterns; and an output part for outputting the positions of the set nodes and resistors as information for specifying a resistor network.例文帳に追加

ビアとの接続位置情報を含む配線パターンのデータを取得し、前記配線パターンを矩形パターンに分割する分割部と、分割後の前記矩形パターンに対応するように、ノード及び抵抗を設定する分割パターン処理部と、設定したノード及び抵抗の位置を、抵抗網を特定する情報として出力する出力部と、を具備する。 - 特許庁

A pattern of the wiring 2 is formed by performing pattern processing on a conductive foil or a conductive plate like a copper foil 11 in etching process, a pattern of the bump 5 is also formed, and half etching is performed on the pattern 14 of the wiring 2 to thin the wiring 2 further than the bump 5, thereby relatively thickening the bump 5 further than the wiring 2.例文帳に追加

銅箔１１のような導体箔または導体板をエッチング法によってパターン加工して配線２のパターンを形成すると共にバンプ５のパターンも形成し、かつ配線２のパターン１４にハーフエッチングを施すことで、その配線２の厚さをバンプ５の厚さよりも薄くし、相対的にバンプ５の厚さが配線２の厚さよりも厚くなるようにする。 - 特許庁

An organic polymer resin layer is provided on the surface of a semiconductor device, after pattern processing and hardening treatment are performed, the resin pattern is etched as a mask, the conduction layer of the opening part is exposed, next, oxygen plasma treatment is performed at a temperature of 100°C or higher, and the semiconductor device is manufactured by cleaning the conduction layer of the opening part.例文帳に追加

半導体素子表面に有機ポリマー樹脂層を設け、パターン加工及び硬化処理を施したのち、この樹脂パターンをマスクとしてエッチング処理し、開口部の導通層を露出させ、次いで１００℃以上の温度で酸素プラズマ処理を行い、上記開口部の導通層をクリーニングすることにより、半導体装置を製造する。 - 特許庁

The method of manufacturing a semiconductor device comprises processes of forming a polysilicon film 3 on an insulating film 2, irradiating the polysilicon film 3 with an inactive ion beam, introducing impurities into the polysilicon film 3, subjecting the polysilicon film 3 to a thermal treatment, and forming a polysilicon pattern 3a positioned on the insulating film 2 through a means of subjecting the polysilicon film 3 to pattern processing.例文帳に追加

本発明に係る半導体装置の製造方法は、絶縁膜２上にポリシリコン膜３を形成する工程と、ポリシリコン膜３に不活性イオンを照射する工程と、ポリシリコン膜３に不純物を導入する工程と、ポリシリコン膜３を熱処理する工程と、ポリシリコン膜３をパターニングすることにより、絶縁膜２上に位置するポリシリコンパターン３ａを形成する工程と、を具備する。 - 特許庁

In the method of manufacturing the filter substrate for liquid display, the first layer composed of the non-photosensitive resin is formed on a substrate on which a colored layer of a plurality of colors is formed in a pattern, further a second layer containing the photosensitive resin is laminated on the first layer and a pattern processing is performed, and at least the following steps are performed in the described order.例文帳に追加

複数色の着色層がパターン形成された基板上に非感光性樹脂からなる第１の層を形成し、さらにその上に感光性樹脂を含有する第２の層を積層してパターン加工を行う液晶表示装置用カラーフィルタ基板の製造方法であって、少なくとも下記の工程をこの順に行うことを特徴とする液晶表示装置用カラーフィルタ基板の製造方法。 - 特許庁