「"pattern processing"」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

The respective inner layer sheets are successively drawn out in a state mutually joined by the bands to continuously apply the processing such as pattern processing or the like of the upper conductor layer to each of the inner layer sheets.例文帳に追加

そして，各内層板を，バンドにより互いにつながった状態のまま順次引き出して，上層導体層のパターン加工等の処理を連続的に施す。 - 特許庁

A trench is formed in the insulation layer 18 with pattern processing, and a via opening part is formed in the trench to reach one of the inner semiconductor device structure through the insulation layer.例文帳に追加

トレンチを絶縁層内にパターン加工で形成し、バイア開口部をトレンチ内に絶縁層を通して下側の半導体装置構造のうちの一つまで形成する。 - 特許庁

A cosine pattern processing part 22A performs processing based on a cosine pattern with respect to an RF wave to be obtained from the RF wave oscillator 20 via a π/2 shift circuit 21.例文帳に追加

余弦パターン処理部２２Ａは、ＲＦ波発振器２０からπ／２シフト回路２１を介して得られるＲＦ波に対して余弦パターンに基づいた処理を施す。 - 特許庁

This semiconductor device comprises a correction discrimination detection circuit 11 for generating a detection signal if the variance of the pattern processing exceeds a predetermined allowable range while monitoring the variance of the pattern processing depending on the variance of the manufacturing process, and a characteristic correction circuit 12 for correcting electric characteristics of the subject circuit based on the detection signal of the correction discrimination detection circuit.例文帳に追加

製造プロセスのばらつきに依存するパターン加工のばらつきをモニターし、パターン加工のばらつきが所定の許容範囲を越えた場合に検知信号を生成する補正判別検知回路１１と、補正判別検知回路の検知信号を受けて対象回路の電気的特性を補正する特性補正回路１２とを具備する。 - 特許庁

On the basis of the received control signal B, the pattern control board 40 performs special pattern processing and the representation processing of character patterns by using a special pattern/character/timer control means 62.例文帳に追加

図柄制御基板４０は、受信した制御信号Ｂに基づいて、特別図柄処理およびキャラクタ図柄の演出処理を特別図柄・キャラクタ・タイマー制御手段６２によって行う。 - 特許庁

The first reflecting layer 42 consists of a first metal material, and a second reflecting layer 44 consists of a second metal material having a higher resistance against a pattern processing than the first metal material.例文帳に追加

第１の反射層４２は第１の金属材料からなり、第２の反射層４４は第１の金属材料よりもパターン加工に対する耐性が高い第２の金属材料からなる。 - 特許庁

To obtain a photosensitive paste capable of making a pattern processing of high aspect ratio and high minuteness and good in binder removability after backed in high sensitivity by including inorganic microparticles and a photosensitive organic component incorporated with a specific cellulose derivative.例文帳に追加

高アスペクト比かつ高精細度のパターン加工を高感度に行える感光性ペーストであって、かつ焼成後の脱バインダー性の良好な感光性ペーストを提供する。 - 特許庁

To provide a paste composition, which is applicable to minute pattern processing based on photolithography, and using a dispersion medium having no acute toxicity, can obtain a transparent composite membrane with a high refractive index.例文帳に追加

フォトリソグラフィーによる微細パターン加工に対応でき、さらには急性毒性を有しない分散媒を用いて、高屈折率の透明複合膜が得られるペースト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a resin for radiation-sensitive material, etc., having excellent transparency and high sensitivity to far-ultraviolet rays, good in tight adhesion to a substrate, having etching resistance, and capable of minute pattern processing.例文帳に追加

遠紫外線に対して優れた透明性と高感度を有し、基板との密着性が良く、エッチング耐性を持ち、微細パターン加工可能な放射線感光材料用樹脂等を提供する。 - 特許庁

When a special pattern control part receives the whole pattern stopping command in the timing earlier than usual in performing the pattern variation control processing, variation control data for the final stopping pattern processing corresponding to a rotating speed of a motor when receiving the whole pattern stopping command is selected from the variable control data for the plural final stopping pattern processing set in the special pattern control part.例文帳に追加

図柄変動制御処理の実行中に、通常よりも早いタイミングで特別図柄制御部が全図柄停止コマンドを受信した場合は、該特別図柄制御部に設定された複数の最終停止図柄処理用の変動制御データの中から、全図柄停止コマンドの受信時におけるモータの回転速度に対応する最終停止図柄処理用の変動制御データを選択する。 - 特許庁

To provide a light guide pattern processing method and machine to efficiently manufacture a light guide plate of various patterns and sizes in a short time by directly impacting the surface with chips.例文帳に追加

チップを用いて加工面を直接打撃して様々な形と大きさのパターンに導光板を短時間に効率よく製造できるようにした導光板のパターン加工方法及びその装置を提供する。 - 特許庁

Accordingly, even if it is a laminate 0.3 mm or under in thickness hard to polish, there never occurs nonconformity in flatness or nonconformity in pattern processing in later process by the protrusion or adhesion of the epoxy resin.例文帳に追加

したがって，研磨しにくい０．３ｍｍ以下の厚さの積層板１５であっても，エポキシ樹脂の突出や付着により後の工程での平坦性不良やパターン加工の不良が生じることがない。 - 特許庁

A specific rule conversion pattern processing control part 54 detects whether a DSV control bit is included in the second data pattern or not and controls conversion processing to the second code pattern so as to surely perform DSV control.例文帳に追加

特定規則変換パターン処理制御部54は、第２のデータパターン内に、DSV制御ビットが含まれているかを検出し、確実にDSV制御ができるように、第２の符号パターンへの変換処理を制御する。 - 特許庁

To provide a resin for a radiation-sensitive material having excellent transparency and high sensitivity to far ultraviolet rays, further having good adhesion to a substrate, and etching resistance, and enabling fine pattern processing.例文帳に追加

遠紫外線に対して優れた透明性と高感度を有し、基板との密着性が良く、エッチング耐性を持ち、微細パターン加工可能な放射線感光材料用の樹脂を提供すること。 - 特許庁

To perform area dividing of a recognized object, to acquire a complementary image for an insufficient object body and to decide the front and rear relations of overlapped graphics by making symbol processing and pattern processing parallelly exist and complementing the processing to each other.例文帳に追加

記号処理とパターン処理が並列に存在し補完することで、認識した物体の領域分割、欠けた対象物体の補完画像の獲得、重なり図形の前後関係の判断を行う。 - 特許庁

A basic rule conversion pattern processing part 51 converts a part coincident with a first data pattern constituted of a parity preservation pattern of input data to a corresponding first code pattern according to a first table.例文帳に追加

基本規則変換パターン処理部51は、入力されたデータの偶奇性保存パターンからなる第１のデータパターンと一致する部分を、第１のテーブルに従って、対応する第１の符号パターンに変換する。 - 特許庁

A specific rule conversion pattern processing part 52 converts a part coincident with a second data pattern constituted of a parity preservation violation pattern of input information to a corresponding second code pattern according to a second table.例文帳に追加

特定規則変換パターン処理部52は、入力された情報の偶奇性保存違反パターンからなる第２のデータパターンと一致する部分を、第２のテーブルに従って、対応する第２の符号パターンに変換する。 - 特許庁

Considering that contrast in light intensity of the fine pattern adjacent to the wide pattern is decreased, a pattern processing which reduces a decrease of the contrast in light intensity for the fine pattern is performed to obtain a semiconductor device.例文帳に追加

幅広パターンに隣接した微細パターンの光強度コントラストが低下することを考慮して、微細パターンに対する光強度コントラストの低下を軽減するパターン処理を施した半導体装置が得られる。 - 特許庁

When the identification code corresponds to the partial pattern, processing for conversion to color display data is performed (step S25) and processing for synthesizing entire color pattern display data is performed (step S26) but when the identification code corresponds to the additional information, such processing is not performed.例文帳に追加

部分模様の識別コードであれば、カラー表示データへの変換処理（ステップＳ２５）、全体模様カラー表示データの合成処理（ステップＳ２６）を行い、付加情報の識別コードであれば、これらの処理は行わない。 - 特許庁

To provide glass paste which can realize a coating film having a reflectance with less variation even after execution of coating and thermal treatment and which can offer a pattern with less variation in its bottom width when using the glass paste as an underlying layer in pattern processing by a photolithographic method.例文帳に追加

塗布、加熱処理を行った後も塗布膜の反射率のばらつきが少なく、フォトリソグラフィ法によりパターン加工を行う際の下地層として用いた場合に、パターンの底部幅のばらつきの少ないガラスペーストを提供する。 - 特許庁

According to the manufacturing method of a laminate according to the present embodiment, when forming a 6-layer wiring board 1, double-sided plates 20, 30, and 40 are subjected to pattern processing simultaneously, and the plates and semi-cured epoxy resin plates 5a and 6a are stacked.例文帳に追加

本実施の形態に係る積層板の製造方法では、６層配線板１を製造する場合に、両面板２０，３０，４０のパターン加工を並行して行い、これらと半硬化したエポキシ樹脂板５ａ，６ａとを積層する。 - 特許庁

An RLL conversion pattern processing part 51 converts a part coincident with a first data pattern of input data to a corresponding first code pattern according to the first data pattern and a first table with a first code pattern made to correspond thereto.例文帳に追加

RLL変換パターン処理部51は、第１のデータパターンと第１の符号パターンが対応付けられている第１のテーブルに従って、入力されたデータの第１のデータパターンと一致する部分を、対応する第１の符号パターンに変換する。 - 特許庁

When extracting a paired target vertical edges by pattern processing of the representative edge image by a detection processing part 15, edge parts indicated as the substantially same distance by the range index data map is extracted as paired vertical edge parts in an outline of the target.例文帳に追加

検出処理部１５で代表エッジ画像のパターン処理による目標の対の垂直エッジを抽出するときに、距離指標データマップがほぼ同一距離と示すエッジ部を目標の輪郭の対の垂直エッジ部として抽出する。 - 特許庁

To provide a three-dimensional polygon surface pattern processing system which can reproduce a pattern conforming with deformation of a polygon without increasing the size of data even when the polygon deforms as a result of weighting of line points forming the pattern on the polygon surface.例文帳に追加

ポリゴン表面上の模様を形成するライン点を重み付けすることによりポリゴンが変形した場合でもデータサイズを大きくすることなく変形に合わせた模様を再現することができる３次元ポリゴン表面模様処理方式を提供する。 - 特許庁

A replacement pattern detecting part 53 detects an individual conversion code pattern generated by converting a second data pattern made to corresponded to a second code pattern in a second table to code patterns individually from a code pattern converted by the RLL conversion pattern processing part 51.例文帳に追加

置換パターン検出部53は、RLL変換パターン処理部51により変換された符号パターンから、第２のテーブルにおいて第２の符号パターンに対応付けられている第２のデータパターンを個別に符号パターンに変換して生成される個別変換符号パターンを検出する。 - 特許庁

A synchronizing signal information extraction means 3 of this expectation pattern processing device 18 acquires synchronizing signal information 5 for showing an operation frequency of a signal outputted from an external output terminal of an LSI based on a net list 1, element information 2 and external input signal information 4.例文帳に追加

期待値パターン処理装置１８の同期信号情報抽出手段３は、ネットリスト１、素子情報２、外部入力信号情報４に基づき、ＬＳＩの外部出力端子が出力する信号の動作周波数を示す同期信号情報５を得る。 - 特許庁

The image processor has: an operation unit for giving an instruction for executing the scan and the decoding of an original with a code pattern; and a unit for switching scanner setting and image processing setting to exclusive setting for code pattern processing when being instructed by the operation unit.例文帳に追加

符号パターンつき原稿のスキャンとデコードを実行する指示を与えるための操作手段と、前記操作手段で指示されたときにスキャナ設定と画像処理設定を符号パターン処理専用の設定に切り替える手段とを持つことを特徴とする。 - 特許庁

When a big win variation mode is selected in the special pattern processing in this case, the big win predicting picture OG (a picture showing a group of fish gathering and swimming to the center of a screen in this example) is displayed in the background of the special pattern SP (figure 5 (E)).例文帳に追加

このとき、特別図柄処理において大当たり変動態様が選択されている場合、特別図柄ＳＰの背景には大当たり予告画像ＯＧ（この例では、魚群が泳ぎながら画面中央に集まる様子を示す画像）が表示される（図５（Ｅ））。 - 特許庁

The game machine controls normal pattern processing of determining whether or not to open the plurality of variable winning devices depending on the winning or losing of variable display games performed in respective corresponding variable display devices and closing them by the establishment of a closing condition when they are opened.例文帳に追加

複数の変動入賞装置をそれぞれに対応する可変表示器で行われる変動表示ゲームの当たりまたははずれにより開放するか否かを決定し、開放した場合に閉塞条件の成立で閉塞する普通図柄処理の制御を行う。 - 特許庁

The background pattern processing section 305 creates a background pattern on the basis of background pattern printing setting information in the intermediate data, and also stores individual intermediate creations and creation information created in the middle of the creation of the background pattern, and then reuses the stored intermediate creations.例文帳に追加

地紋処理部３０５は、中間データ内の地紋印刷設定情報をもとに地紋パターンを生成するとともに、この地紋パターンの生成途中に作成した各中間生成物および生成情報を記憶し、記憶した中間生成物を再利用する。 - 特許庁

In the organic film pattern processing treatment, a heating process for heating the organic film pattern 901a from above, and a main process for reducing at least a part of the organic film pattern 901a or removing a part of the organic film pattern 901a, are conducted in this order.例文帳に追加

有機膜パターン加工処理では、有機膜パターン９０１ａを上方から加熱する加熱処理と、有機膜パターン９０１ａの少なくとも一部を縮小するか又は有機膜パターン９０１ａの一部を除去する本処理とをこの順に行う。 - 特許庁

To process a good pattern without remainders, while preventing precipitation of copper or silicon generated in a step of forming a film containing Al as a main component and containing at least Cu or Si, or in a thermal step of peeling off a defective resist pattern during pattern processing after the film formation.例文帳に追加

Ａｌを主成分とし、少なくともＣｕあるいはＳｉを含んだ膜の成膜時、あるいは成膜後におけるパターン加工時の不良レジストパターンの剥離時の熱工程時に発生する銅あるいはシリコンの析出を防ぎ、残渣のない良好なパターンを加工する。 - 特許庁

A specific rule conversion pattern processing control part 55 detects whether a channel bit corresponding to a DSV control bit is included in the parity preservation violation individual conversion code pattern or not, and controls conversion processing to the second code pattern from the parity preservation violation individual conversion code pattern so as to surely perform DSV control.例文帳に追加

特定規則変換パターン処理制御部55は、偶奇性保存違反個別変換符号パターン内に、DSV制御ビットに対応するチャネルビットが含まれているかを検出し、確実にDSV制御ができるように、偶奇性保存違反個別変換符号パターンから、第２の符号パターンへの変換処理を制御する。 - 特許庁

When print data on AM dot data is produced by an RIP 12, in an inkjet printer 20, the print data is divided into 4×4 pixel blocks Z by a mask pattern processing unit 41 and the dot recording order of each pixel in each block Z is decided based on a mask pattern.例文帳に追加

ＲＩＰ１２で、ＡＭ網点データの印刷データを生成すると、インクジェットプリンタ２０では、マスクパターン処理部４１により、印刷データを４×４画素のブロックＺ毎に分割し、マスクパターンに基づいて各ブロックＺにおける各画素のドット記録順序を決定する。 - 特許庁

A user diagnostic part of the remote user equipment includes a DNA microarray or a gene chip, an array or a chip scanner, a PC system, a user interface for system behavior, a gene pattern processing function, a pattern-matching request of chip ID for the central-process equipment, a report generation function, and the like.例文帳に追加

遠隔ユーザ設備のユーザー診断部には、ＤＮＡマイクロアレーまたは遺伝子チップと、アレーないしチップ走査器と、ＰＣシステムと、システム動作のためのユーザーインターフェースと、遺伝子パターン処理機能と、中央処理設備に対するチップＩＤのパターンマッチのリクエストと、報告生成機能などが含まれる。 - 特許庁

The cured coating film is formed by producing a composition comprising a heat-resistant resin precursor and a compound containing a carboxylic acid anhydride group and an alkoxysilyl group in one molecule, applying the composition to a substrate, drying the coating film, heating the coating film or a coating film obtained by subjecting the coating film to pattern processing to form the cured coating film.例文帳に追加

耐熱性樹脂前駆体並びに１分子中にカルボン酸無水物基とアルコキシシリル基有する化合物を含有する組成物を製造し、それを基板上に塗布、乾燥した後、その被膜又はその被膜をパターン加工した被膜を、加熱し硬化被膜を形成する。 - 特許庁

An image forming apparatus includes: an input data receiving section 301 for receiving printing data; a DL creation section 302 for creating intermediate data by analyzing the printing data; a plot processing section 304 for plotting a printing image on the basis of the intermediate data; and a background pattern processing section 305.例文帳に追加

本発明にかかる画像形成装置は、印刷データを受信する入力データ受信部３０１と、印刷データを解析して中間データを作成するＤＬ作成部３０２と、中間データをもとに印刷画像を描画する描画処理部３０４と、地紋処理部３０５と、を備える。 - 特許庁

To provide a photosensitive polyimide precursor composition having a low linear expansion coefficient, a high extensibility and a low relative dielectric constant and capable of good pattern processing and to provide a polyimide- metal foil composite comprising the photosensitive polyimide precursor composition cured on metal foil.例文帳に追加

低い線膨張数、高い伸度、および、低い比誘電率を持ちかつ、良好なパターン加工が可能な感光性ポリイミド前駆体組成物を提供し、金属箔上に前記感光性ポリイミド前駆体組成物をキュアした後のポリイミド−金属箔複合体を提供するものである。 - 特許庁

A RLL conversion pattern processing part 51 converts the first data pattern of input data to a corresponding a first code pattern according to a first table constituted of a parity preservation pattern, a specific rule conversion pattern detecting part 54 detects a parity preservation violation individual conversion code pattern from the converted first code pattern.例文帳に追加

RLL変換パターン処理部51は、偶奇性保存パターンからなる第１のテーブルに従って、入力されたデータの第１のデータパターンを、対応する第１の符号パターンに変換し、特定規則変換パターン検出部54は、変換された第１の符号パターンから、偶奇性保存違反個別変換符号パターンを検出する。 - 特許庁

After a wiring pattern arranged on an interlayer dielectric film and the wiring layout and hole layout of a hole pattern embedded in the interlayer dielectric film are obtained, the hole pattern is extracted, which is connected with the wiring pattern from the hole layout in a pattern processing region where the wiring pattern is arranged in the same wiring layer.例文帳に追加

層間絶縁膜に設けられる配線パターン、及び層間絶縁膜に埋め込まれるホールパターンの配線レイアウト及びホールレイアウトを取得して、同一配線層内で配線パターンを配置するパターン処理領域においてホールレイアウトの中から配線パターンに接続されるホールパターンを抽出する。 - 特許庁

After a thin film 2 is formed of an organic material on a substrate 1 and a portion of the thin film to be removed is irradiated with laser light to perform pattern processing by thermal abrasion, the entire surface on which the lasers abrasion is carried out is subjected to ashing processing 8 to form a pattern from which even a remaining film 7 is also efficiently removed.例文帳に追加

基板１上に有機材料からなる薄膜２を形成し、その薄膜のうち除去すべき部分にレーザー光４を照射して熱アブレーションによるパターン加工を行った後、レーザーアブレーションが施された表面全面にアッシング処理８を施すことにより、残膜７も効率的に除去されたパターンを形成する。 - 特許庁

The method for obtaining the stencil mask 100 comprises steps of forming an indium oxide thin film 11 on the supporting substrate 1 comprising a silicon wafer to manufacture the substrate 10 for the stencil mask, forming an opening 31 in the supporting substrate 1 by pattern-processing the supporting substrate 1 and the indium oxide thin film 11, and forming a charged beam transmitting hole 12 in the indium oxide thin film 11.例文帳に追加

シリコンウェハーからなる支持基板１上に酸化インジウム薄膜１１を形成してステンシルマスク用基板１０を作製し、支持基板１及び酸化インジウム薄膜１１をパターニング処理して支持基板１に開口部３１、酸化インジウム薄膜１１に荷電ビーム透過孔１２を形成してステンシルマスク１００を得る。 - 特許庁

This playing pattern processing system displays a list LP of pieces of pattern data on a display 12 and when desired pattern data (both-hand accompaniments 1, 2, and 3, left-hand accompaniments 1 and 2, arpeggio 1, etc.), are indicated with a cursor CR, the schematized pattern corresponding to the pattern data is displayed at a chart display part CP.例文帳に追加

この発明の演奏パターン処理システムでは、複数のパターンデータがディスプレイ１２上にリストＬＰで表示され、所望のパターンデータ（各行：両手伴奏１，２，３、左手伴奏１，２、アルペジオ１、…）をカーソルＣＲで指示すると、当該パターンデータに対応する図式化されたパターンがチャート表示部ＣＰに表示される。 - 特許庁

To provide an efficient processing method and its device that realize uniform processing without bluntness of the pattern border area and can perform plural pattern processing at the same time in implementing deposition processing or etching processing of prescribed patterns using the focusing ion beam device.例文帳に追加

本発明の目的課題は、集束イオンビーム装置を用いて所定パターンのデポジション加工またはエッチング加工を施す場合に、パターン境界領域の鈍りが出ない均一な加工を実現し、複数のパターン加工を同時に実行出来る効率的な加工方法並びにその装置を提供することである。 - 特許庁

The pattern processing paper includes a base layer and a pattern layer which is scattered on the surface of this base layer, where the base layer has natural pulp fibers, rayon fiber and binder and the pattern layer has rayon fiber aggregate and binder, and contains inorganic particles having a Mohs hardness of 3 to 6 in the base layer.例文帳に追加

本発明は、ベース層と、このベース層の表面に散在する模様層とを備え、上記ベース層が、天然パルプ繊維とレーヨン繊維とバインダーとを有し、上記模様層が、レーヨン繊維凝集体とバインダーとを有する模様加工紙であって、上記ベース層に、モース硬度が３以上６以下の無機粒子を含有することを特徴とする模様加工紙である。 - 特許庁