「program mask」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

He appeared in the TV program "Pot of Beauty" 's "Noh Mask " edition. 例文帳に追加

美の壷「能面」出演。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

MASK EVALUATION METHOD, MASK EVALUATION SYSTEM, METHOD FOR MANUFACTURING MASK, AND PROGRAM例文帳に追加

マスク評価方法、マスク評価システム、マスク製造方法およびプログラム - 特許庁

MASK PATTERN CORRECTION PROGRAM AND MASK PATTERN CORRECTION SYSTEM例文帳に追加

マスクパターン補正プログラムおよびマスクパターン補正システム - 特許庁

MASK PATTERN DATA GENERATION METHOD, MASK MANUFACTURING METHOD, MASK AND MASK PATTERN DATA GENERATION PROGRAM例文帳に追加

マスクパターンデータ生成方法、マスクの製造方法、マスク及びマスクパターンデータ生成プログラム - 特許庁

METHOD FOR CORRECTING MASK DATA, PROGRAM, PROXIMITY EFFECT CORRECTION MASK例文帳に追加

マスクデータ補正方法、プログラム及び近接効果補正マスク - 特許庁

INTERRUPTION MASK CONTROL METHOD AND INTERRUPTION MASK CONTROL PROGRAM例文帳に追加

割込マスク制御方法および割込マスク制御プログラム - 特許庁

MASK DEFECT INSPECTION APPARATUS AND MASK DEFECT INSPECTION PROGRAM例文帳に追加

マスク欠陥検査装置およびマスク欠陥検査プログラム - 特許庁

MASK PATTERN PROCESSING APPARATUS, MASK PATTERN PROCESSING METHOD, AND PROGRAM例文帳に追加

マスクパターン処理装置、マスクパターン処理方法、およびプログラム - 特許庁

MASK, MASK CONTAMINATION MONITOR METHOD, PROGRAM AND EXPOSURE METHOD例文帳に追加

マスク、マスクコンタミネーションモニタ方法、プログラムおよび露光方法 - 特許庁

MASK ORDERING SUPPORT SYSTEM AND MASK ORDERING SUPPORT PROGRAM例文帳に追加

マスク発注支援システム及びマスク発注支援プログラム - 特許庁

MASK DATA PREPARING METHOD AND PROGRAM例文帳に追加

マスクデータ作成方法およびプログラム - 特許庁

METHOD FOR FORMING MASK PATTERN, METHOD AND PROGRAM FOR MANUFACTURING MASK例文帳に追加

マスクパターンの作成方法、マスクの製造方法およびプログラム - 特許庁

MASK PATTERN VERIFICATION METHOD AND PROGRAM例文帳に追加

マスクパターン検証方法およびプログラム - 特許庁

VERIFYING METHOD FOR MASK PATTERN, PROGRAM FOR VERIFYING MASK PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING MASK例文帳に追加

マスクパターン検証方法、マスクパターン検証用プログラム、及びマスク製造方法 - 特許庁

PROGRAM FOR CREATING DATA OF MASK例文帳に追加

マスクのデータを作成するためのプログラム - 特許庁

DEVICE FOR CORRECTING MASK PATTERN, PROGRAM FOR CORRECTING MASK PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING EXPOSURE MASK例文帳に追加

マスクパターン補正装置、マスクパターン補正プログラムおよび露光用マスクの製造方法 - 特許庁

VERIFICATION METHOD OF MASK PATTERN DATA, MANUFACTURING METHOD OF MASK, AND VERIFICATION PROGRAM OF MASK PATTERN DATA例文帳に追加

マスクパタンデータの検証方法、マスクの製造方法、マスクパタンデータの検証プログラム - 特許庁

MASK PATTERN CORRECTION METHOD, MASK PATTERN CORRECTION DEVICE AND PROGRAM THEREFOR例文帳に追加

マスクパターン補正方法，マスクパターン補正装置およびそのプログラム - 特許庁

PROGRAM FOR DESIGNING SEALING MASK AND METHOD FOR DESIGNING THE SEALING MASK例文帳に追加

封口用マスク設計プログラム及び封口用マスク設計方法 - 特許庁

MASK PREPARATION METHOD, IMAGE PROCESSOR, SOFTWARE PROGRAM AND MASK DATA例文帳に追加

マスク作成方法、画像処理装置、ソフトウェアプログラム、並びにマスクデータ - 特許庁

MASK PATTERN DATA PREPARATION METHOD, MASK PATTERN DATA PREPARATION PROGRAM, MASK, AND MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

マスクパターンデータ作成方法、マスクパターンデータ作成プログラム、マスク、半導体装置の製造方法 - 特許庁

MASK DATA CREATION METHOD, MASK DESIGNING APPARATUS, MASK, PROGRAM, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

マスクデータ作成方法、マスク設計装置、マスク、プログラム及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING MASK, STORAGE MEDIUM STORED WITH MASK PATTERN LAYOUT PROGRAM, AND APPARATUS FOR PRODUCING MASK例文帳に追加

マスク製造方法、マスクパターンレイアウトプログラムを記憶した記憶媒体、及びマスク製造装置 - 特許庁

DESIGN METHOD OF APERTURE MASK, GENERATING METHOD OF APERTURE MASK, AND PROGRAM例文帳に追加

アパーチャマスクの設計方法、アパーチャマスクの作成方法およびプログラム - 特許庁

METHOD FOR COMPRESSING MASK PATTERN DATA AND PROGRAM THEREFOR例文帳に追加

マスクパターンデータ圧縮方法及びプログラム - 特許庁

MASK DATA PREPARATION APPARATUS, MASK DATA PREPARATION METHOD, EXPOSURE MASK, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND MASK DATA PREPARATION PROGRAM例文帳に追加

マスクデータ作成装置、マスクデータ作成方法、露光マスク、半導体装置の製造方法及びマスクデータ作成プログラム - 特許庁

MASK REGION DETERMINER, METHOD AND PROGRAM例文帳に追加

マスク領域決定装置、方法、およびプログラム - 特許庁

SOFTWARE MASK CALCULATION PROGRAM AND PROJECTION SYSTEM例文帳に追加

ソフトウェアマスク算定プログラムおよび投影システム - 特許庁

DOCUMENT GROUP MASK DEVICE, DOCUMENT GROUP MASK METHOD, PROGRAM, AND RECORDING MEDIUM例文帳に追加

文書群マスク装置、文書群マスク方法、プログラムおよび記録媒体 - 特許庁

MASK PATTERN CORRECTION METHOD AND PROGRAM, AND PHOTOMASK USING MASK PATTERN CORRECTION METHOD例文帳に追加

マスクパターンの補正方法、プログラム及び該補正方法を用いたフォトマスク - 特許庁

MASK PATTERN DIVIDING METHOD, MASK PATTERN DIVIDING PROGRAM, AND METHOD OF MANUFACTURING EXPOSURE MASK AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

マスクパターン分割方法、マスクパターン分割プログラム、露光用マスクおよび半導体装置の製造方法 - 特許庁

CORRECTING METHOD OF MASK PATTERN AND RECORDING MEDIUM RECORDING MASK PATTERN CORRECTION PROGRAM例文帳に追加

マスクパタ—ン補正方法及びマスクパタ—ン補正プログラムを記録した記録媒体 - 特許庁

PRODUCING METHOD OF MASK MANUFACTURING DATA, AND PRODUCING APPARATUS FOR PROGRAM AND MASK MANUFACTURING DATA例文帳に追加

マスク製造データ作成方法、プログラム及びマスク製造データ作成装置 - 特許庁

EXPOSURE MASK, METHOD AND PROGRAM FOR DESIGNING EXPOSURE MASK例文帳に追加

露光用マスク、露光用マスクの設計方法および露光用マスクの設計プログラム - 特許庁

FORMING METHOD OF ETCHING MASK, CONTROL PROGRAM, AND PROGRAM STORAGE MEDIUM例文帳に追加

エッチングマスクの形成方法、制御プログラム及びプログラム記憶媒体 - 特許庁

IMAGE PROCESSING UNIT, MASK GENERATION METHOD, AND PROGRAM例文帳に追加

画像処理装置、マスク作成方法及びプログラム - 特許庁

METHOD FOR CORRECTING MASK PATTERN, MASK PATTERN CORRECTION DEVICE, CIRCUIT DESIGN DEVICE, AND PROGRAM FOR CORRECTING MASK PATTERN例文帳に追加

マスクパターンの補正方法、マスクパターンの補正装置、回路設計装置及びマスクパターンを補正するプログラム - 特許庁

METHOD FOR DIVIDING MASK PATTERN, PROGRAM FOR DIVIDING MASK PATTERN, EXPOSURE MASK, AND PROCESS FOR FABRICATING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

マスクパターン分割方法、マスクパターン分割プログラム、露光用マスクおよび半導体装置の製造方法 - 特許庁

MASK PATTERN APPEARANCE INSPECTION METHOD, PROGRAM THEREFOR, AND MASK PATTERN APPEARANCE INSPECTION APPARATUS例文帳に追加

マスクパターン外観検査方法及びそのプログラム及びマスクパターン外観検査装置 - 特許庁

MASK DESIGN DEVICE, MASK DESIGN METHOD, PROGRAM, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

マスク設計装置、マスク設計方法、プログラムおよび半導体装置製造方法 - 特許庁

COMPLEMENTARY DIVIDING METHOD, MASK FORMATION METHOD, AND PROGRAM例文帳に追加

相補分割方法、マスク作製方法およびプログラム - 特許庁

METHOD FOR AUTOMATICALLY CORRECTING MASK-PATTERN DATA AND ITS PROGRAM例文帳に追加

マスクパターンデータ自動補正方法及びそのプログラム - 特許庁

LINE PRINTER, HALFTONE PROCESSING METHOD, PROGRAM AND DITHER MASK例文帳に追加

ラインプリンタ、ハーフトーン処理方法、プログラム及びディザマスク - 特許庁

PROCESS FOR PRODUCING MASK, METHOD FOR MANAGING MASK BLANK, PROGRAM FOR MANAGING MASK BLANK, SYSTEM FOR MANAGING MASK BLANK AND PROCESS FOR FABRICATING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

マスクの製造方法、マスクブランクスの管理方法、マスクブランクスの管理プログラム、マスクブランクスの管理装置および半導体装置の製造方法 - 特許庁

MASK PATTERN VERIFICATION METHOD, MASK PATTERN GENERATION METHOD, PATTERN DATA PROCESSOR, AND PROGRAM例文帳に追加

マスクパターン検証方法、マスクパターン作成方法、パターンデータ処理装置、およびプログラム - 特許庁