「program mask」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

DESIGN LAYOUT GENERATION METHOD, SYSTEM AND PROGRAM, METHOD FOR MANUFACTURING MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

設計レイアウト作成方法、設計レイアウト作成システム、マスクの製造方法、半導体装置の製造方法、及び設計レイアウト作成プログラム - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR MEASURING AND EVALUATING FORM OF MASK PATTERN AND RECORDING MEDIUM RECORDING FORM MEASURING AND EVALUATING PROGRAM例文帳に追加

マスクパターン形状計測評価装置および形状計測評価方法並びに形状計測評価プログラムを記録した記録媒体 - 特許庁

The timing of starting the pseudo on-the-fly processing is made possible to be controlled indirectly from the user program by providing an asynchronous break mask control means.例文帳に追加

非同期ブレークマスク制御手段を設けることで、ユーザプログラムから擬似オンザフライ処理の開始タイミングを間接的に制御可能にする。 - 特許庁

METHOD, DEVICE, PROGRAM, AND RECORDING MEDIUM FOR LOCALLY CHANGING SHARPNESS OF PHOTOGRAPHED IMAGE BY USING MASK, AND IMAGE REPRODUCING DEVICE例文帳に追加

マスクを用いて写真画像の鮮鋭度を局部的に変更するための方法、装置、プログラムおよび記録媒体、並びに画像再生装置 - 特許庁

The third mechanism utilizes an application program mask similarly applied to allow applications to be run only on certain consoles. 例文帳に追加

第３の機構はアプリケーションプログラムマスクを利用するもので、同様にアプリケーションがある種のコンソール上でのみ走行できるように適用される。 - コンピューター用語辞典

Consequently, the value of the PC 15a is set in a specified address in the EEPROM 11b and a performance program is switched from a processing program in a mask ROM 11a to a program for addition and correction in the EEPROM 11b.例文帳に追加

これにより、ＰＣ１５ａの値は、ＥＥＰＲＯＭ１１ｂ内の所定のアドレスにセットされ、実行プログラムは、マスクＲＯＭ１１ａ中の処理プログラムから、このＥＥＰＲＯＭ１１ｂ内の追加・修正用のプログラムへ切り換えられる。 - 特許庁

An inspection state processing program reads out wafer information from a wafer (step 1), reads out inspection result data (step 2), reads out a layout file name and a mask name from mask corresponding data (step 3), and reads out corresponding inferiority probability data (step 4).例文帳に追加

ウェーハからウェーハ情報を読み出し（ステップ１）、検査結果データを読み出し（ステップ２）、マスク対応データからレイアウトファイル名とマスク名を読み出し（ステップ３）、対応する不良確率データを読み出す（ステップ４）。 - 特許庁

To provide a document group mask device, a document group mask method, a program and a recording medium by which a user hardly perform a classification not meeting his or her intention when the user excludes undesired documents.例文帳に追加

利用者が所望しない文書を排除する場合、利用者の意図に沿わない分類をすることが少ない文書群マスク装置、文書群マスク方法、プログラムおよび記録媒体を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a system, a method and a computer program product for detecting a defect, especially the defect in a mask used for a photolithographic process.例文帳に追加

欠陥検出、特にフォトリソグラフィープロセスに使用されるマスクの欠陥検出のためのシステム、方法およびコンピュータプログラム製品を提供する。 - 特許庁

A program for automatically using the weighing apparatuses 12 and 14 via the input mask on the computer 11 can be defined, and the program can be executed in the gravimetric apparatuses 12 and 14.例文帳に追加

コンピュータ１１上の入力マスクを介して、重量測定装置１２、１４を自動で使用するためのプログラムを定義することが可能で、このプログラムは重量測定装置１２、１４で実行可能である。 - 特許庁

To provide a computer-readable recording medium recording a program for making a computer execute a method of determining a pattern of a mask and an effective light source distribution with which the mask is illuminated, both of which are used for an exposure apparatus including an illumination optical system which illuminates a mask with light from a light source and a projection optical system which projects a pattern of the mask onto a substrate.例文帳に追加

光源からの光を用いてマスクを照明する照明光学系と、前記マスクのパターンを基板に投影する投影光学系とを備える露光装置に用いられるマスクのパターンとマスクを照明する際の有効光源分布とを決定する決定方法をコンピュータに実行させるプログラムを記録したコンピュータで読み取り可能な記録媒体を提供する。 - 特許庁

To provide a method, a device, a server, and a computer program which are capable of easily substituting desired partial text data of even electronic document data with mask data and of easily dynamically changing a position of substitution with the mask data.例文帳に追加

電子文書データであっても所望の部分テキストデータを容易にマスクデータに置換することができ、マスクデータに置換する位置を動的に容易に変更することができる方法、装置、サーバ及びコンピュータプログラムを提供する。 - 特許庁

To provide a device and a method for exposure, a program and a method for ensuring mask position precision by which the precision of the position of an exposure pattern is improved by correction by grasping the pattern position of a mask in a posture in exposure precisely.例文帳に追加

露光時の姿勢におけるマスクのパターン位置を正確に把握して、補正により露光パターンの位置精度を向上させることができる露光装置、露光方法、プログラム、およびマスク位置精度保証方法を提供する。 - 特許庁

Because UART communication is a communication system not having a logic layer, the UART communication program has small data capacity, and is added to the mask ROM.例文帳に追加

ＵＡＲＴ通信は論理層を有しない通信方式なので、ＵＡＲＴ通信プログラムはデータ容量が小さく、マスクＲＯＭに追加されている。 - 特許庁

METHOD, DEVICE, PROGRAM AND STORAGE MEDIUM FOR DETECTING LINE IN IMAGE, MASK USED WITH DRO, ITS USE AND DEVICE FOR STORING IT例文帳に追加

画像中の線を検出する方法、装置、プログラム、および記憶媒体、ならびに、ＤＲＯとともに用いられるマスク、その使用方法、およびこれを記憶する装置 - 特許庁

This program has a mask image (D) for masking a protruded portion from the item main body and making it transparent as item image data in addition to an image (B) of the item main body.例文帳に追加

アイテム本体の画像（Ｂ）に加えて、アイテム本体からはみ出した部分をマスクして透明化するためのマスク画像（Ｄ）をアイテム画像データとして持つ。 - 特許庁

Successively, an element image behavior designating portion 72 of the mask image information preparing program 70 conducts the behavior designation of each selected element image.例文帳に追加

引き続き、マスク画像情報作成プログラム７０の要素画像振る舞い指定部７２が、選択された要素画像それぞれの振る舞い指定を行う。 - 特許庁

To provide a method for identifying an extreme interaction pitch region, a method for designing and manufacturing a mask pattern, a device manufacturing method and a computer program.例文帳に追加

極端相互作用ピッチ領域を識別する方法、マスクパターンを設計、製造する方法、デバイス製造方法およびコンピュータプログラムを提供すること。 - 特許庁

A control program stored in the mask ROM 14 is updated by using the FROM 22 incorporated in the second integrated circuit chip 20.例文帳に追加

そして、第２の集積回路チップ２０に内蔵されたＦＲＯＭ２２を利用して、マスクＲＯＭ１４に格納された制御プログラムの更新を行うようにした。 - 特許庁

CALCULATION METHOD OF STORED ENERGY AND PROXIMITY EFFECT, PROGRAM MEMORY MEDIUM, DESIGNING METHOD OF MASK OR RETICLE PATTERN, AND PROCESSING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

蓄積エネルギー計算方法、プログラム記憶媒体、近接効果計算方法、マスク又はレチクルパターンの設計方法、及び半導体デバイスの製造方法 - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR GENERATING MASK PATTERN, COMPUTER-READABLE RECORDING MEDIUM WITH PROGRAM MAKING COMPUTER TO IMPLEMENT THE SAME METHOD RECORDED THEREON, AND PHOTOMASK例文帳に追加

マスクパターン生成装置、マスクパターン生成方法、その方法をコンピュータに実行させるプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体およびフォトマスク - 特許庁

Since the mask data are not programmed into a memory cell, only the first program data supplied from the system is programmed in a page of a nonvolatile semiconductor memory.例文帳に追加

マスクデータは、メモリセルにプログラムされないため、不揮発性半導体メモリのページには、システムから供給された第１プログラムデータのみがプログラムされる。 - 特許庁

Betsu Kyogen indicates Sanbaso (usually written as "三番叟" in Chinese characters, except the Okura school, which writes it as "三番三"), which is one of Acts in a Noh program 'Okina' (dance performance putting on a mask of an old man), and its special version 'Furyu.' 例文帳に追加

能「翁」の一部をなす三番叟（さんばそう。大蔵流では「三番三」と書く）と、その特別演出である風流（ふりゅう）をいう。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

To provide an image processing method and device capable of creating optimal mask image data for use in masking image data and to provide a program.例文帳に追加

画像データをマスク処理する際に用いる最適なマスク画像データを生成することができる画像処理方法、画像処理装置、およびプログラムを提供する。 - 特許庁

Respective programmable elements are constituted of depletion type transistors D100, D101 being same as memory cells of a mask ROM apparatus, the depletion type transistors are programmed in a first program state of a conduction state in an ion injection process for memory cells of the mask ROM apparatus or in a second program state of a non-conduction state.例文帳に追加

プログラム可能な素子の各々はマスクＲＯＭ装置のメモリセルと同一の空乏型トランジスタＤ１００，Ｄ１０１で構成され、空乏型トランジスタはマスクＲＯＭ装置のメモリセルに対するイオン注入工程で導通状態の第１プログラム状態又は非導通状態の第２プログラム状態にプログラムされる。 - 特許庁

The option dictionary 76 is stored in the flash ROM 76, and the command option recognition program 72 and the option execution program 74 which are hardly changed and are universal are stored in a mask ROM 14.例文帳に追加

このうち、オプション辞書７６はフラッシュＲＯＭ７６に格納されるが、変更される可能性がほとんどない普遍的なコマンド・オプション認識プログラム７２及びオプション実行プログラム７４は、マスクＲＯＭ１４に格納される。 - 特許庁

To provide a method and a program for dividing a shield pattern having an island pattern into at most two mask blocks without making an imbalance or the like in a small figure or area, and a mask block having figures divided by the method.例文帳に追加

島状パターンを持つ遮蔽パターンを、微小図形や面積のアンバランス等を発生させることなく高々２つのマスクブロックに分割する方法、そのプログラム、そしてその方法により分割された図形を有するマスクブロックを提供すること。 - 特許庁

To provide an object deciding device and a program for deciding whether or not an object is wearing a mounted object such as a mask or sun glasses with high reliability.例文帳に追加

対象物がマスクやサングラスなどの装着物を装着しているか否かを信頼性高く判定することができる対象物判定装置及びプログラムを提供する。 - 特許庁

To use a mask ROM formed on the same semiconductor chip as a control circuit for storing a program, and to use an outside ROM for substitution as necessary.例文帳に追加

プログラム格納用に、制御回路と同一半導体チップ上に形成したマスクＲＯＭを使用し、必要に応じて代替用の外部ＲＯＭが使用できるようにする。 - 特許庁

To provide a non-volatile memory array in which the chip area is reduced by giving a contrivance to a mask ROM in which a loader program or the like are stored in a memory array.例文帳に追加

メモリアレイにおいて、ローダプログラム等を格納したマスクＲＯＭに工夫を与えることにより、チップ面積の削減を図った不揮発性メモリアレイを提供する。 - 特許庁

To provide a method of, and a program product for optimizing an intensity profile of a pattern to be formed in a surface of a substrate relative to a given mask using an optical system.例文帳に追加

光学システムを使用して、任意のマスクに対して基板の表面に形成すべきパターンの強度プロフィールを最適化する方法およびプログラム製品を提供する。 - 特許庁

To provide an object deciding device and a program for deciding whether or not an object is wearing a mounted object such as a mask or sunglasses with high reliability.例文帳に追加

対象物がマスクやサングラスなどの装着物を装着しているか否かを信頼性高く判定することができる対象物判定装置及びプログラムを提供する。 - 特許庁

AUTOMATIC DESIGN METHOD, MASK SET FOR EXPOSURE, SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT DEVICE, PRODUCING METHOD FOR SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT DEVICE AND RECORDING MEDIUM WITH RECORDED AUTOMATIC DESIGN PROGRAM例文帳に追加

自動設計方法、露光用マスクセット、半導体集積回路装置、半導体集積回路装置の製造方法、および自動設計プログラムを記録した記録媒体 - 特許庁

To provide a method of identifying an extreme interaction pitch region, a method of designing mask patterns, a method of manufacturing masks, a device manufacturing method, and a computer program.例文帳に追加

極端相互作用ピッチ領域を識別する方法、マスクパターンを設計する方法およびマスクを製造する方法、デバイス製造方法およびコンピュータプログラムを提供すること。 - 特許庁

The controller 90 adjusts the angles of inclination of the squeegees SQ1 and SQ2 with respect to the upper surface of the metal mask MK, the moving speeds of the squeegees SQ1 and SQ2 and the pressing forces of the squeegees SQ1 and SQ2 to the metal mask MK by program processing.例文帳に追加

この評価に基づいて、コントローラ９０は、プログラム処理により、メタルマスクＭＫの上面に対するスキージＳＱ１，ＳＱ２の傾斜角、スキージＳＱ１，ＳＱ２の移動速度、メタルマスクＭＫに対するスキージＳＱ１、ＳＱ２の押し付け力などを調整する。 - 特許庁

To provide a recording medium into which a program of a working control data generating method, an optical processing system and a working control data generation capable of generating the working control data driving and controlling an aperture mask and a print mask material of an optical processing device is recorded based on garber data.例文帳に追加

ガーバーデータに基づいて、光加工装置のアパーチャーマスク及び印刷マスク材を駆動制御する加工制御データを生成することができる加工制御データ生成方法、光加工システム、及び該加工制御データ生成のプログラムを記録した記録媒体を提供する。 - 特許庁

To provide a method for carrying out model-based optical proximity correction by disposing a mask matrix having a region of interest (ROI) and locating a plurality of points of interest within the mask matrix, and to provide a program storage device for executing the above method.例文帳に追加

関心領域（ＲＯＩ）を有するマスク行列を設けることと、マスク行列内で複数の関心点を位置付けることによってモデルに基づく光学的近接効果補正を実行する方法、およびそのような方法を実行するプログラム記憶装置を提供すること。 - 特許庁

In a program/program-verify cycle and a erase/erase-verify cycle, a non-volatile storage element over-writen preventing circuit masks a mode enable-mask internal signal line 111 by a pass signal outputted by a memory control circuit 103 through a verify-pass signal line 110.例文帳に追加

プログラム／プログラムベリファイサイクル、イレーズ／イレーズベリファイサイクルにおいてメモリ制御回路１０３がベリファイパス信号線１１０を介して出力するパス信号により不揮発性記憶素子過書込防止回路はモードイネーブルマスク内部信号線１１１をマスクする。 - 特許庁

DRAWING DATA, CREATING METHOD AND APPARATUS THEREOF, DRAWING METHOD, MASK AND ITS CREATION METHOD, SEMICONDUCTOR DEVICE AND ITS MANUFACTURING METHOD, PROGRAM FOR DRAWING DATA CREATION, AND COMPUTER READABLE RECORD MEDIUM WITH RECORDED PROGRAM例文帳に追加

描画データの作成方法、描画データの作成装置、描画データ、描画方法、マスク、マスクの作成方法、半導体装置、半導体装置の製造方法、描画データ作成用プログラム及びこのプログラムを記録したコンピュータ読みとり可能な記録媒体 - 特許庁

CORRECTION METHOD AND VERIFICATION METHOD FOR PATTERN DIMENSION BY USING OPC, MASK AND SEMICONDUCTOR DEVICE FORMED BY USING THIS CORRECTION METHOD, AND SYSTEM AND PROGRAM TO EXECUTE THIS CORRECTION METHOD例文帳に追加

ＯＰＣを用いたパターン寸法の補正方法及び検証方法、該補正方法を用いて作成されたマスク及び半導体装置、並びに該補正方法を実行するシステム及びプログラム - 特許庁

To provide a mask that is favorable for measurement performed by adding stitching accuracy without increasing the measuring time; and to provide a semiconductor device, a method for measurement, a method of manufacturing semiconductor device, and a program.例文帳に追加

測定時間を増加させることなくつなぎ精度を追加して測定するのに好ましいマスク、半導体装置、測定方法、半導体装置の製造方法およびプログラムを提供する。 - 特許庁

When the execution of the instruction of a mask instruction ROM 31 under the control of a CPU core 30 reaches the front of start address of the update area, an update program is executed by a debug control part 20.例文帳に追加

デバッグ制御部２０は、ＣＰＵコア３０によるマスク命令ＲＯＭ３１の命令実行が、更新エリアのスタートアドレスの前まで達すると、更新プログラムを実行させる。 - 特許庁

To provide a complementary mask for exposure which is prevented from being broken or deformed and can be improved in exposure precision, and to provide its manufacturing method and its manufacturing program.例文帳に追加

露光マスクの破損や変形を防止して、露光精度を向上させることのできる、露光用の相補形マスク、その製造方法及びその製造プログラムを提供することにある。 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR PARTITIONING PATTERN FOR WRITING, METHOD FOR WRITING, METHOD FOR MAKING MASK, SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, PROGRAM FOR PARTITIONING PATTERN FOR WRITING AND COMPUTER READABLE RECORDING MEDIUM RECORDED WITH THE PROGRAM例文帳に追加

描画用パターンの分割処理方法、描画用パターンの分割処理装置、描画方法、マスク、マスクの作成方法、半導体装置、半導体装置の製造方法、描画用パターンの分割処理プログラム及びこのプログラムを記録したコンピュータ読みとり可能な記録媒体 - 特許庁

Even when a flash memory of the microcomputer B4 is replaced with a mask ROM or the like, a correction of a boot program for each microcomputer is unnecessary, and the processing system can be used immediately for various purposes.例文帳に追加

これにより、マイコンＢ４のフラッシュメモリをマスクＲＯＭ等に変更しても、各マイコンのブートプログラムの修正は不要となり、本処理システムを様々な用途に即座に利用することが可能となる。 - 特許庁