「program mask」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

SUBSTRATE PROVIDED WITH ALIGNMENT MARK, METHOD OF DESIGNING MASK, COMPUTER, PROGRAM, MASK FOR EXPOSING THE MARK, METHOD OF MANUFACTURING DEVICE, AND DEVICE MANUFACTURED BY THE METHOD例文帳に追加

位置決めマークを備えた基板、マスクを設計する方法、コンピュータ・プログラム、位置決めマークを露光するマスク、デバイス製造方法、およびこれらによって製造されるデバイス - 特許庁

To provide a device and a program for generating mask-covered type questions in a remote education system enabling easy generation of mask- covered type questions with improved reusability and enabling learners to alter a teaching material in appearance without editing it, and to provide a recording medium for the same.例文帳に追加

再利用性を高めてマスク形式問題を平易に作成することができ、学習者が教材を編集せずに見た目に変更を加えられる。 - 特許庁

DEVICE MANUFACTURING METHOD, MASK SET USED FOR THE METHOD, DATA SET FOR CONTROLLING PROGRAMMABLE PATTERN FORMING APPARATUS, METHOD OF FORMING MASK PATTERN, AND COMPUTER PROGRAM例文帳に追加

デバイス製造方法、その方法で使用するためのマスク・セット、プログラム可能なパターン形成装置を制御するためのデータ・セット、マスク・パターンを作成する方法、およびコンピュータ・プログラム - 特許庁

LAYOUT FIGURE DATA DIVISION PROCESSING APPARATUS AND METHOD OF STENCIL MASK, AND PROGRAM FOR MAKING COMPUTER PERFORM LAYOUT FIGURE DATA DIVISION PROCESSING OF THE STENCIL MASK例文帳に追加

ステンシルマスクのレイアウト図形データ分割処理装置、ステンシルマスクのレイアウト図形データ分割処理方法、コンピュータにステンシルマスクのレイアウト図形データ分割処理を行わせるためのプログラム - 特許庁

The program instructions are compressed in blocks of program instructions with an associated mask value where the bit values within the mask indicate whether corresponding bit slices within the blocks of program instructions are to be represented by a default bit value or a separately specified by bit slice specifier values.例文帳に追加

プログラム命令は関連するマスク値を有するプログラム命令のブロック内で圧縮され、マスク内のビット値はプログラム命令のブロック内の対応するビットスライスがデフォルトビット値により表現されるかあるいはビットスライス指定子により別々に指定されるかを示す。 - 特許庁

CREATION METHOD OF RANDOM PATTERN, MANUFACTURING METHODS OF MASK AND ELECTRO-OPTICAL DEVICE, AND CREATION PROGRAM OF RANDOM PATTERN例文帳に追加

ランダムパターンの作成方法、マスクの製造方法、電気光学装置の製造方法、及びランダムパターンの作成プログラム - 特許庁

To provide a method, a system and a computer program product for evaluating placement errors within a lithographic mask.例文帳に追加

リソグラフィマスク内の配置誤差を評価するための方法、システム及びコンピュータプログラム製品を提供すること。 - 特許庁

To provide a method, a system and a computer program product for evaluating an evaluated pattern of a mask.例文帳に追加

マスクの評価すべきパターンを評価するための効率的な方法、システム及びコンピュータプログラム製品を提供する。 - 特許庁

CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE METHOD, DEVICE, CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE DATA CREATION METHOD AND PROGRAM, AND BLOCK MASK例文帳に追加

荷電粒子ビーム露光方法及び装置、荷電粒子ビーム露光データ作成方法及びプログラム、並びに、ブロックマスク - 特許庁

DEVICE, METHOD, AND PROGRAM FOR GENERATING MASKING GERBER DATA FOR SOLDER PRINT MASK例文帳に追加

半田印刷マスクのマスク用ガーバーデータ作成装置、マスク用ガーバーデータ作成方法、及びマスク用ガーバーデータ作成プログラム - 特許庁

METHOD OF ARRANGING PRINTING ASSIST FEATURES IN MASK LAYOUT, SYSTEM FOR GENERATING THE PRINTING ASSIST FEATURES, AND PROGRAM例文帳に追加

マスク・レイアウト内に印刷補助フィーチャを配置する方法、印刷補助フィーチャを生成するシステム、およびプログラム - 特許庁

METHOD FOR CREATING PATTERN DATA, METHOD FOR CREATING MASK, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND METHOD AND PROGRAM FOR CREATING PATTERN例文帳に追加

パターンデータ作成方法、マスク作成方法、半導体装置の製造方法、パターン作成方法及びプログラム - 特許庁

PATTERN CORRECTION METHOD, PATTERN CORRECTION SYSTEM, PATTERN CORRECTION PROGRAM, METHOD FOR PRODUCING MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

パターン補正方法、パターン補正システム、パターン補正プログラム、マスクの作成方法、および半導体装置の製造方法 - 特許庁

To provide a forming method of an etching mask capable of improving uniformity of CD of a pattern in double patterning, and forming an etching mask having uniform and excellent CD, and to provide a control program and a program storage medium.例文帳に追加

ダブルパターニングにおけるパターンのＣＤの均一性を向上させることができ、ＣＤが均一で良好なエッチングマスクを形成することのできるエッチングマスクの形成方法、制御プログラム及びプログラム記憶媒体を提供する。 - 特許庁

In the apparatus, a control program and a program to install the constants into a FROM 4 are stored in a mask ROM 3, a program related to a vehicle control and the constants are stored in the FROM 4.例文帳に追加

マスクＲＯＭ３には、制御プログラムや制御定数をＦＲＯＭ４にインストールするためのプログラムを記憶させ、ＦＲＯＭ４には、車両制御に係わるプログラムや制御定数を記憶させておく。 - 特許庁

There are provided the device manufacturing method, a mask set used for the method, a data set for controlling a programmable pattern forming apparatus, a method of forming a mask pattern, and a computer program.例文帳に追加

デバイス製造方法、その方法で使用するためのマスク・セット、プログラム可能なパターン形成装置を制御するためのデータ・セット、マスク・パターンを作成する方法、およびコンピュータ・プログラム。 - 特許庁

METHOD OF FORMING MASK FOR CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE AND PROGRAM FOR PROCESSING PATTERN DATA FOR FORMING THE SAME例文帳に追加

荷電粒子線露光用マスクの形成方法および荷電粒子線用マスクを形成するためのパターンデータの処理プログラム - 特許庁

DEVICE AND PROGRAM FOR GENERATING MASK COVERED TYPE QUESTION IN REMOTE EDUCATION SYSTEM, AND RECORDING MEDIUM例文帳に追加

遠隔教育システムにおけるマスク形式問題作成装置、及びそのマスク形式問題作成プログラム、並びに記録媒体 - 特許庁

PATTERN VERIFICATION METHOD, PATTERN VERIFICATION SYSTEM, PATTERN VERIFICATION PROGRAM, METHOD FOR MANUFACTURING MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

パターン検証方法、パターン検証システム、パターン検証プログラム、マスク製造方法、および半導体装置の製造方法 - 特許庁

MASK IMAGE INFORMATION PREPARING METHOD, APPARATUS, AND PROGRAM, AND INFORMATION COMMUNICATION TERMINAL APPARATUS例文帳に追加

マスク画像情報作成方法、マスク画像情報作成装置、マスク画像情報作成プログラム及び情報通信端末装置 - 特許庁

BACK ANNOTATION APPARATUS, MASK LAYOUT CORRECTION APPARATUS, BACK ANNOTATION METHOD, PROGRAM, RECORDING MEDIUM, METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT例文帳に追加

バックアノテーション装置、マスクレイアウト補正装置、バックアノテーション方法、プログラム、記録媒体、半導体集積回路の製造方法 - 特許庁

DEVICE FOR EVALUATION OF MASK PATTERN SHAPE, METHOD OF EVALUATING SHAPE AND RECORDING MEDIUM IN WHICH PROGRAM FOR EVALUATION OF SHAPE IS RECORDED例文帳に追加

マスクパターン形状評価装置および形状評価方法並びに形状評価プログラムを記録した記録媒体 - 特許庁

METHOD FOR CORRECTING PATTERN, PATTERN CORRECTING SYSTEM, METHOD FOR MANUFACTURING MASK, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, PATTERN CORRECTING PROGRAM AND DESIGN PATTERN例文帳に追加

パターン補正方法、パターン補正システム、マスク製造方法、半導体装置製造方法、パターン補正プログラム、及び設計パターン - 特許庁

DEVICE FOR EVALUATION OF MASK PATTERN SHAPE, METHOD FOR EVALUATION OF SHAPE AND RECORDING MEDIUM IN WHICH PROGRAM FOR EVALUATION OF SHAPE IS RECORDED例文帳に追加

マスクパターン形状評価装置および形状評価方法並びに形状評価プログラムを記録した記録媒体 - 特許庁

The mask information can be generated from previously registered attribute information and a log that an application program sends.例文帳に追加

マスク情報は登録データにあらかじめ記録された属性情報、応用プログラムが発信するログから作成できる。 - 特許庁

WIRING PATTERN GENERATION DEVICE, WIRING PATTERN GENERATION PROGRAM, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, MASK FOR EXPOSURE, AND IMAGE DISPLAY DEVICE例文帳に追加

配線パターン生成装置、配線パターン生成プログラム、半導体装置の製造方法、露光用マスク、および、画像表示装置 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF ETCHING MASK FOR SILICON STRUCTURE HAVING OPENING OF HIGH ASPECT RATIO, ITS DEVICE AND ITS MANUFACTURING PROGRAM例文帳に追加

高アスペクト比の開口を有するシリコン構造体用エッチングマスクの製造方法及びその装置並びにその製造プログラム - 特許庁

METHOD FOR DESIGNING DUMMY PATTERN, EXPOSURE MASK, SEMICONDUCTOR DEVICE, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND DESIGN PROGRAM OF DUMMY PATTERN例文帳に追加

ダミーパターンの設計方法、露光マスク、半導体装置、半導体装置の製造方法およびダミーパターンの設計プログラム - 特許庁

To provide a simulation method and program that can measure the intensity distribution of light irradiated on a substrate surface through a mask in a short time period in the same way as thin film mask approximate calculation, and can measure the intensity distribution more accurately than the thin film mask approximate calculation.例文帳に追加

リソグラフィシミュレーションにおいて、マスクを通して基板表面上に照射される光の強度分布を、薄膜マスク近似計算と同様に短時間で測定でき、且つ薄膜マスク近似計算よりも正確に測定することができる。 - 特許庁

In an issue of instructions to update a flash ROM 354 for storing the control program in a nonvolatile manner and the control program stored in the flash ROM 354, control is shifted to a program which is stored in the mask ROM 353, and the control program to be updated is received and written into the flash ROM 354 under the control based on the program stored in the mask ROM 353.例文帳に追加

制御プログラムを不揮発に記憶するフラッシュＲＯＭ３５４と、フラッシュＲＯＭ３５４に記憶されている制御プログラムの更新が指示されるとマスクＲＯＭ３５３に記憶されているプログラムに制御を移行し、そのマスクＲＯＭ３５３に記憶されているプログラムの制御の下で、更新される制御プログラムを受信してフラッシュＲＯＭ３５４に書込む。 - 特許庁

When the abnormality is also present in the USB communication program, a UART communication program stored in a mask ROM is executed, and the print control program, the USB communication program and a rewriting program are downloaded from a maintenance computer by communication through a UART interface (S90, S100).例文帳に追加

ＵＳＢ通信プログラムにも異常がある場合には、マスクＲＯＭに記憶されたＵＡＲＴ通信プログラムを実行して、ＵＡＲＴインターフェイスを介した通信によりメンテナンスコンピュータから印刷制御プログラム、ＵＳＢ通信プログラム及び書き換えプログラムをダウンロードする（Ｓ９０，Ｓ１００）。 - 特許庁

To provide a process for producing a mask in which a mask blank having a black/white defect is not discarded but utilized, managing method, program and system of the mask blank for making it possible, and a process for fabricating a semiconductor device employing the process for producing a mask.例文帳に追加

黒／白欠陥が存在するマスクブランクスを廃棄せずに利用することを可能にするマスクの製造方法と、これを可能にするマスクブランクスの管理方法、マスクブランクスの管理プログラムおよびマスクブランクスの管理装置、並びに上記マスクの製造方法を用いた半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To use a synchronous mask ROM as an ROM for a program by setting an MR(mode register) before a CPU performs access to a synchronous mask ROM even when the initial value of the synchronous mask ROM is not appropriate to a system to be used in a system in which a CPU performs access to a synchronous mask ROM at first.例文帳に追加

ＣＰＵが最初にシンクロナスマスクＲＯＭにアクセスするようなシステムにおいて、シンクロナスマスクＲＯＭの初期値が使用するシステムにそぐわない値でも、ＣＰＵがシンクロナスマスクＲＯＭにアクセスする前にＭＲを設定しても問題はなく、シンクロナスマスクＲＯＭをプログラム用のＲＯＭとして使用できるようにする。 - 特許庁

To provide a mask pattern formation support apparatus, a mask pattern formation support method, a program, a storage medium, and an exposure mask, which facilitate the formation of a mask pattern for the manufacture of a semiconductor device having a circuit pattern with the figure and dimensions both in high fidelity to the aimed circuit pattern designed by a designer.例文帳に追加

設計時に設計者が意図した回路パターンに対して、形状および寸法がともに忠実な回路パターンを有する半導体デバイスを製造するマスクパターンの作成を容易化することができるマスクパターン作成支援装置、マスクパターン作成支援方法、プログラム、記憶媒体および露光用マスクを提供する。 - 特許庁

The program corrects defect size and calculates inferiority probability for each mask (step 5-10).例文帳に追加

次に検査結果データの各欠陥に対して、欠陥サイズの補正と各マスクに対する不良確率の算出を行う（ステップ５〜１０）。 - 特許庁

To provide a program and method capable of determining an exposure condition and a mask pattern which provide good imaging performance.例文帳に追加

良好な結像性能を与える露光条件及びマスクパターンを決定することができるプログラム及び方法を提供する。 - 特許庁

LITHOGRAPHY DEVICE AND METHOD FOR GENERATING MASK AND PATTERN, COMPUTER PROGRAM PRODUCT AND DEVICE MANUFACTURING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

マスク・パターンを生成するためのリソグラフィ装置、方法、及びコンピュータ・プログラマ製品並びにそれらを使用するデバイス製造方法 - 特許庁

LIGHT INTENSITY DISTRIBUTION SIMULATION SYSTEM, LIGHT INTENSITY DISTRIBUTION SIMULATION METHOD, MASK PATTERN CORRECTING METHOD, AND LIGHT INTENSITY DISTRIBUTION SIMULATION PROGRAM例文帳に追加

光強度分布シミュレーションシステム、光強度分布シミュレーション方法、マスクパターン補正方法、及び光強度分布シミュレーションプログラム - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, METHOD AND PROGRAM FOR PREPARING CHARGED GRAIN BEAM EXPOSURE DATA, AND BLOCK MASK例文帳に追加

半導体装置の製造方法、荷電粒子ビーム露光データ作成方法、荷電粒子ビーム露光データ作成プログラム、及び、ブロックマスク - 特許庁

An exposure condition determining section 15 determines exposure conditions suited for a new mask, based on the wide variety of information abstracted from the database 10 and new mask information 20 using an exposure condition determining program, and outputs a result to be new mask exposure conditions 21.例文帳に追加

露光条件決定部１５は、データベース１０から抽出した各種情報並びに新規マスク情報２０に基づき、露光条件決定プログラムにより新規マスクに適した露光条件を決定し、その結果である新規マスクの露光条件２１を出力する。 - 特許庁

To provide a mask data creation method by which what kind of OPC (optical proximity correction) process is performed can be easily read out and removal of an OPC pattern in an inhibited region can be easily checked, and to provide a mask manufacturing apparatus, a mask, a program and a method for manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

どの種類のＯＰＣ処理が行われているかを容易に読み取れ、かつ禁止領域でＯＰＣパターンが除去されていることが容易に確認できるマスクデータ作成方法、マスク製造装置、マスク、プログラム及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a route search method that, in LSI mask design, reduces the value of via resistance accompanied by passage between wiring layers and reduces the number of mask layers, and a recording medium with a program thereof recorded.例文帳に追加

ＬＳＩマスク設計の配線層間の通過に伴うヴィアによる抵抗値の低減、およびマスク層数を削減する経路探索法とそのプログラムを記録した記録媒体を提供する。 - 特許庁

EXPOSURE DEVICE, EXPOSURE PATTERN DETERMINATION EQUIPMENT, EXPOSURE PATTERN DETERMINATION METHOD, PROGRAM CAPABLE OF MAKING COMPUTER EXECUTE THE SAME RECORDING MEDIUM STORING PROGRAM AND MASK例文帳に追加

露光装置、露光パターン決定装置、露光パターン決定方法、その露光パターン決定方法をコンピュータに実行させることが可能なプログラム、そのプログラムを記録した記録媒体、及び、マスク - 特許庁

Further, the microcomputer is equipped with a mask ROM 3 where a write control program for writing to the EEP-ROM 4 is fixedly stored in advance as part of a standard program.例文帳に追加

これとともに、そのＥＥＰ−ＲＯＭ４に書込を行うための書込制御プログラムが標準プログラムの一部として予め固定的に格納されたマスクＲＯＭ３を備えるものである。 - 特許庁

OPTICAL PROXIMITY EFFECT CORRECTION METHOD AND DEVICE, OPTICAL PROXIMITY EFFECT VERIFICATION METHOD AND DEVICE, METHOD FOR MANUFACTURING EXPOSURE MASK, AND OPTICAL PROXIMITY EFFECT CORRECTION PROGRAM AND OPTICAL PROXIMITY EFFECT VERIFICATION PROGRAM例文帳に追加

光近接効果補正方法と装置、光近接効果検証方法と装置、露光用マスクの製造方法、更に光近接効果補正プログラムと光近接効果検証プログラム - 特許庁