「program mask」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

METHOD FOR CREATING DESIGN PATTERN DATA, METHOD FOR CREATING MASK PATTERN DATA, METHOD FOR MANUFACTURING MASK, AND METHOD AND PROGRAM FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

設計パターンデータ作成方法、マスクパターンデータ作成方法、マスク製造方法、半導体装置の方法およびプログラム - 特許庁

METHOD AND PROGRAM FOR DESIGNING MASK LAYOUT FOR INTEGRATED CIRCUIT AND OPTIMIZATION METHOD OF MASK LAYOUT OF INTEGRATED CIRCUIT例文帳に追加

集積回路のためのマスク・レイアウト設計方法およびプログラムならびに集積回路のマスク・レイアウトの最適化方法 - 特許庁

DESIGNING METHOD OF ILLUMINATION LIGHT SOURCE, MASK PATTERN DESIGNING METHOD, PHOTO MASK MANUFACTURING METHOD, SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD, AND PROGRAM例文帳に追加

照明光源の設計方法、マスクパターン設計方法、フォトマスクの製造方法、半導体装置の製造方法、及びプログラム - 特許庁

The program memory 6 comprises a mask ROM area 7 and a RAM area 8.例文帳に追加

プログラムメモリ５にはマスクＲＯＭ領域７とＲＡＭ領域８を設ける。 - 特許庁

EVALUATION METHOD, MASK PATTERN CORRECTION METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND PROGRAM例文帳に追加

評価方法、マスクパターン補正方法、半導体装置の製造方法、及びプログラム - 特許庁

MASK, SEMICONDUCTOR DEVICE, METHOD FOR MEASUREMENT, METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND PROGRAM例文帳に追加

マスク、半導体装置、測定方法、半導体装置の製造方法、およびプログラム - 特許庁

DITHER MASK GENERATING METHOD, IMAGE PROCESSING APPARATUS, AND PROGRAM EXECUTED BY COMPUTER例文帳に追加

ディザマスク作成方法，画像処理装置，およびコンピュータが実行するためのプログラム - 特許庁

EXPOSURE PROCESSOR, EXPOSURE PROCESSING METHOD, EXPOSURE PROCESSING PROGRAM, RECORDING MEDIUM RECORDING THE PROGRAM, AND BLOCK MASK例文帳に追加

露光処理装置、露光処理方法、露光処理プログラム、および該プログラムを記録した記録媒体、ならびにブロックマスク - 特許庁

METHOD FOR CORRECTING MASK PATTERN, PROGRAM FOR CORRECTING MASK PATTERN, DEVICE FOR CORRECTING MASK PATTERN, METHOD FOR SETTING EXPOSURE CONDITION, PROGRAM FOR SETTING EXPOSURE CONDITION, DEVICE FOR SETTING EXPOSURE CONDITION, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, PROGRAM FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND DEVICE FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

マスクパターン補正方法、マスクパターン補正プログラム、マスクパターン補正装置、露光条件設定方法、露光条件設定プログラム、露光条件設定装置、半導体装置製造方法、半導体装置製造プログラムおよび半導体装置製造装置 - 特許庁

METHOD FOR GENERATING MASK LAYOUT DATA FOR LITHOGRAPHY SIMULATION AND OPTIMUM MASK LAYOUT DATA FOR PHOTOMASK, AND RELATED DEVICE AND PROGRAM例文帳に追加

リソグラフィシミュレーション用マスクレイアウトデータ及びフォトマスク用最適マスクレイアウトデータの生成方法、及び関連する装置及びプログラム - 特許庁

SYSTEM AND METHOD FOR DESIGNING MASK AND PROGRAM FOR CAUSING COMPUTER TO PERFORM MASK DESIGN PROCESSING OR LAYOUT DESIGN PROCESSING例文帳に追加

マスク設計システム、マスク設計方法、およびマスク設計処理またはレイアウト設計処理をコンピュータに実行させるためのプログラム - 特許庁

METHOD AND PROGRAM FOR PATTERN DISPLACEMENT ANALYSIS, PATTERN CORRECTION, AND STENCIL MASK MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

パターン変位解析方法、パターン補正方法、ステンシルマスクの製造方法、およびプログラム - 特許庁

To provide a mask data preparation apparatus, a mask data preparation method, an exposure mask, a method for manufacturing a semiconductor device, and a mask data preparation program which suppress an increase in data for correcting a process proximity effect due to flattening of design data.例文帳に追加

設計データのフラット化によるプロセス近接効果補正データの増加を抑制するマスクデータ作成装置、マスクデータ作成方法、露光マスク、半導体装置の製造方法及びマスクデータ作成プログラムを提供する。 - 特許庁

When the update program is ended, the execution is started from the next program in the update area of the mask instruction ROM 31.例文帳に追加

そして、更新プログラムが終了すると、マスク命令ＲＯＭ３１の更新エリアの次のプログラムから実行させる。 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR MANUFACTURING MASK PROGRAM ROM, COMPUTER PROGRAM CORRESPONDING THERETO, AND COMPUTER READABLE RECORDING MEDIUM例文帳に追加

マスクプログラムＲＯＭを製造する方法及び装置、並びに対応するコンピュータプログラム及びコンピュータ読み取り可能記憶媒体 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, APPARATUS FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, PROGRAM OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND PROGRAM OF GENERATING MASK DATA例文帳に追加

半導体装置の製造方法、半導体装置の製造装置、半導体装置の製造プログラム、マスクデータの生成プログラム - 特許庁

METHOD FOR INSPECTING MASK DEFECT, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, MASK DEFECT INSPECTION APPARATUS, AND METHOD AND PROGRAM FOR FORMING MAP OF INFLUENTIAL DEGREE OF DEFECT例文帳に追加

マスク欠陥検査方法、半導体装置の製造方法、マスク欠陥検査装置、欠陥影響度マップ作成方法およびプログラム - 特許庁

METHOD AND PROGRAM FOR DIVIDING MASK PATTERN AND METHOD FOR FABRICATING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

マスクパターン分割方法およびマスクパターン分割プログラム並びに半導体装置の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR VERIFYING PATTERN DATA, METHOD FOR CREATING PATTERN DATA, METHOD FOR MANUFACTURING EXPOSURE MASK, AND PROGRAM例文帳に追加

パタンデータ検証方法、パタンデータ作成方法、露光用マスクの製造方法およびプログラム - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING MASK, AND METHOD AND PROGRAM FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

パターン作成方法、マスクの製造方法、半導体装置の製造方法及びプログラム - 特許庁

MASK VERIFICATION METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND CONTROL PROGRAM FOR EXPOSURE CONDITION例文帳に追加

マスク検証方法、半導体装置の製造方法及び露光条件の調整プログラム - 特許庁

METHOD FOR DESIGNING MASK PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE AND SEMICONDUCTOR DESIGN PROGRAM例文帳に追加

マスクパターン設計方法および半導体製造方法ならびに半導体設計プログラム - 特許庁

PRECISION CALIBRATION METHOD FOR COORDINATE MEASUREMENT, EVALUATION METHOD FOR COORDINATE MEASUREMENT PRECISION, AND PROGRAM AND MASK例文帳に追加

座標測定精度較正方法、座標測定精度評価方法、プログラムおよびマスク - 特許庁

The mask ROM core 2 records an application program rewriting program for writing an application program sent from a host device into the flash memory core 3.例文帳に追加

マスクＲＯＭコア２は、ホスト機器から送信されるアプリケーションプログラムをフラッシュメモリコア３に書き込むためのアプリケーションプログラム書換プログラムを記録している。 - 特許庁

METHOD, SYSTEM, PROGRAM, RECORDING MEDIUM, MASK, AND EQUIPMENT FOR IMPROVING YIELD OF SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT DEVICE例文帳に追加

半導体集積回路装置の歩留まり向上方法、システム、プログラム、記録媒体、マスク及び装置 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD, PATTERN FORMING PROGRAM, MANUFACTURING METHOD OF MASK, AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

パターン作成方法、パターン作成プログラム、マスクの製造方法、および半導体装置の製造方法 - 特許庁

SYSTEM, METHOD AND PROGRAM FOR SUPPORTING MASK SHAPE DETERMINATION例文帳に追加

マスク形状決定支援システム，マスク形状決定支援方法およびマスク形状決定支援プログラム - 特許庁

INSPECTION METHOD OF EXPOSURE MASK AND RECORD MEDIUM RECORDING PROGRAM FOR SEARCHING PLACE TO MEASURE ITS LENGTH例文帳に追加

露光マスクの検査方法および測長箇所を探索するプログラムを記録した記録媒体 - 特許庁

PATTERN DATA CREATING METHOD, PATTERN DATA CREATING PROGRAM, MANUFACTURING METHOD FOR EXPOSURE MASK, AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

パターンデータ生成方法、パターンデータ生成プログラム、露光マスク製造方法およびパターン形成方法 - 特許庁

METHOD FOR DEFINING VIEW WITH MASK FOR CELL-LEVEL DATA ACCESS CONTROL AND ITS PROGRAM RECORDING MEDIUM例文帳に追加

セルレベルのデータアクセス制御のためのマスク付きビューの定義方法及びそのプログラム記録媒体 - 特許庁

METHOD FOR VERIFYING MASK DATA AND COMPUTER-READABLE RECORDING MEDIUM WITH RECORDED VERIFICATION PROGRAM例文帳に追加

マスクデータの検証方法および検証プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 - 特許庁

To provide a method, an apparatus and a program for quickly complementing a mask region of an image.例文帳に追加

迅速に画像のマスク領域の補完をする方法及び装置並びにプログラムを提供すること。 - 特許庁

To provide a method for correcting a mask pattern for accurately transferring a circuit pattern based on circuit design data, and to provide a mask pattern correction device, a circuit design device and a program for correcting the mask pattern.例文帳に追加

回路設計データに基づいた回路パターンを正確に転写するマスクパターンの補正方法、マスクパターンの補正装置、回路設計装置及びマスクパターンを補正するプログラムマスクパターンを提供する。 - 特許庁

To provide an image processing unit and a mask generation method, enabling mask generation with simple processing; and also to provide a program executed in the image processing unit or the like.例文帳に追加

簡易な処理でマスクを作成できる画像処理装置及びマスク作成方法と、そのような画像処理装置において実行されるプログラムを提供する。 - 特許庁

An element image selecting portion 71 of a mask image information preparing program 70 selects at least one element image to use for preparing the mask image.例文帳に追加

マスク画像情報作成プログラム７０の要素画像選択部７１が、マスク画像の作成に使用する少なくとも１つの要素画像を選択する。 - 特許庁

To provide a mask data preparing method and program for enabling high-speed complementary division between patterns in a mask having beams and a plurality of exposure regions.例文帳に追加

梁および複数の露光領域を有するマスクにおいても、パターンの相補分割処理を高速で行えるマスクデータ作成方法およびプログラムを提供する。 - 特許庁

To provide a generating method of a mask pattern to improve process margin, manufacturing method of a mask, a manufacturing method of a semiconductor device, and a pattern data generating program.例文帳に追加

プロセスマージンを向上するマスクパターン生成方法、マスクの製造方法、半導体装置の製造方法及びパターンデータ生成プログラムを提供すること。 - 特許庁

MASK BLANKS SELECTION METHOD, CALCULATION METHOD FOR BIREFRINGENCE INDEX, LITHOGRAPHIC METHOD, MASK BLANKS SELECTING DEVICE, BIREFRINGENCE INDEX CALCULATION DEVICE AND PROGRAM THEREFOR例文帳に追加

マスクブランクス選定方法、複屈折性指標の算出方法、リソグラフィ方法、マスクブランクス選定装置、複屈折性指標算出装置およびそのプログラム - 特許庁

DUMMY PATTERN INFORMATION PREPARING DEVICE, PATTERN INFORMATION PREPARING DEVICE, MASK, EXPOSURE DEVICE, METHOD OF MANUFACTURING MASK, METHOD OF PREPARING DUMMY PATTERN INFORMATION, PROGRAM, AND COMPUTER-READABLE RECORDING MEDIUM RECORDING THE PROGRAM例文帳に追加

ダミーパターン情報生成装置、パターン情報生成装置、マスク、露光装置、マスク作成方法、ダミーパターン情報生成方法、プログラム及び上記プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 - 特許庁

DOT DISPERSION TYPE MASK, IMAGE DISPLAY DEVICE, DEVICE AND METHOD FOR IMAGE PROCESSING, IMAGE PROCESSING PROGRAM, METHOD AND PROGRAM FOR FORMING THE DOT DISPERSION TYPE MASK, AND COMPUTER-READABLE RECORDING MEDIUM例文帳に追加

ドット分散型マスク、画像表示装置、画像処理装置及び方法、画像処理プログラム、ドット分散型マスクの作成方法、ドット分散型マスクの作成プログラムおよびコンピュータ読み取り可能な記録媒体 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING TEST PATTERN, PROGRAM FOR PRODUCING TEST PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

テストパターン作成方法、テストパターン作成プログラム、マスク作製方法、及び半導体装置製造方法 - 特許庁

METHOD FOR INSPECTING LOCAL VARIANCE IN MASK PATTERN, METHOD FOR ASSURING LOCAL VARIANCE, AND INSPECTION PROGRAM FOR LOCAL VARIANCE例文帳に追加

マスクパターンのローカルばらつき検査方法、ローカルばらつき保証方法、及びローカルばらつき検査プログラム - 特許庁

To make a program or data of a mask ROM built in one-chip microcomputer correctable from outside.例文帳に追加

外部より、ワンチップマイクロコンピュータに内蔵されたマスクＲＯＭのプログラムもしくはデータを修正可能とする。 - 特許庁

To provide a method for producing a mask capable of easily designing a mask utilized in production of a substrate by divided exposure without causing an increase in production costs, and to provide a storage medium in which a mask pattern layout program is stored and an apparatus for producing the mask.例文帳に追加

製造コストの増大を招くことなく分割露光によって基板を製造する際に利用されるマスクを容易に設計できるマスク製造方法、マスクパターンレイアウトプログラムを記憶した記憶媒体、及びマスク製造装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

A data adding circuit of the memory controller adds mask data to the first program data and it generates a second program data with a size equivalent to the size of the page buffer.例文帳に追加

メモリコントローラのデータ付加回路は、第１プログラムデータにマスクデータを付加して、ページバッファのサイズに等しい第２プログラムデータを生成する。 - 特許庁