「program mask」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

Kurama Tengu also refers to the title of a program of "Noh" (Japanese traditional dance-drama in mask), whose theme was taken from the above-mentioned story. 例文帳に追加

上記に取材した能の題名。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

MASK PATTERN MANUFACTURING MACHINE, PROGRAM, AND METHOD, AND MASK MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

マスクパターン作成装置、マスクパターン作成プログラム、マスクパターン作成方法およびマスク製造方法 - 特許庁

DIVING MASK, CONTROL METHOD FOR DISPLAY DEVICE FOR DIVING MASK, CONTROL PROGRAM AND RECORDING MEDIUM例文帳に追加

潜水用マスク、潜水マスク用表示装置の制御方法、制御プログラム及び記録媒体 - 特許庁

CONDUCTIVE MATERIAL PRINTING MACHINE, METHOD FOR CLEANING PRINTING MASK, AND CLEANING PROGRAM FOR PRINTING MASK例文帳に追加

導電材の印刷装置、印刷マスクのクリーニング方法および印刷マスクのクリーニングプログラム - 特許庁

PREPARING METHOD FOR MASK PATTERN, MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE AND PROGRAM FOR PREPARING MASK PATTERN例文帳に追加

マスクパターン作成方法、半導体装置の製造方法およびマスクパターン作成プログラム - 特許庁

PATTERN TRANSFER MASK, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND COMPUTER PROGRAM FOR FORMING MASK PATTERN例文帳に追加

パターン転写マスク、半導体装置の製造方法、及び、マスクパターン作成用コンピュータプログラム - 特許庁

MASK PATTERN DESIGNING DEVICE, MASK PATTERN DESIGNING METHOD AND COMPUTER-READABLE RECORDING MEDIUM STORING MASK PATTERN DESIGN PROGRAM例文帳に追加

マスクパターン設計装置、マスクパターン設計方法およびマスクパターン設計プログラムを格納したコンピュータ読取り可能な記録媒体 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR FORMING MASK PATTERN, AND COMPUTER PROGRAM例文帳に追加

マスクパターン形成方法及び装置、並びに、コンピュータ・プログラム - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR EXAMINING SHADOW MASK, AND PROGRAM THEREFOR例文帳に追加

シャドウマスク用検査方法及びその装置及びそのプログラム - 特許庁

INSPECTION METHOD AND SYSTEM FOR SHADOW MASK AND ITS PROGRAM例文帳に追加

シャドウマスク用検査方法及びその装置及びそのプログラム - 特許庁

CORRECTION VERIFICATION METHOD AND CORRECTION VERIFICATION PROGRAM FOR MASK PATTERN例文帳に追加

マスクパターンの補正検証方法および補正検証プログラム - 特許庁

CHARACTER RECOGNITION DEVICE FOR RECOGNIZING CHARACTER ON BUSINESS FORM, MASK PROCESSING METHOD, AND MASK PROCESSING PROGRAM例文帳に追加

帳票上の文字を認識する文字認識装置、マスク処理方法、および、マスク処理プログラム - 特許庁

LINE PRINTER, HALFTONE PROCESSING METHOD, DITHER MASK FORMING METHOD, HALFTONE PROCESSING PROGRAM, RECORDING MEDIUM AND DITHER MASK例文帳に追加

ラインプリンタ、ハーフトーン処理方法、ディザマスク作成方法、ハーフトーン処理プログラム、記録媒体及びディザマスク - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, PHASE SHIFT MASK, AND METHOD AND PROGRAM FOR MASK PATTERN CORRECTION例文帳に追加

半導体装置の製造方法、位相シフトマスク、マスクパターン補正方法およびマスクパターン補正プログラム - 特許庁

METHOD FOR PROCESSING MASK DATA, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND PROGRAM FOR EXECUTING MASK DATA PROCESSING例文帳に追加

マスクデータ処理方法、半導体装置の製造方法、及びマスクデータ処理を実行するプログラム - 特許庁

METHOD FOR GENERATING ADDRESS MASK SIGNAL FOR OPTICAL INFORMATION RECORDING MEDIUM AND PROGRAM FOR GENERATING ADDRESS MASK SIGNAL例文帳に追加

光情報記録媒体のアドレスマスク信号の作成方法、及びアドレスマスク信号作成プログラム - 特許庁

PATTERN CORRECTION METHOD OF REFLECTIVE EXPOSURE MASK, MANUFACTURING METHOD OF REFLECTIVE EXPOSURE MASK AND PROGRAM例文帳に追加

反射型露光用マスクのパターン補正方法、反射型露光用マスクの製造方法およびプログラム - 特許庁

METHOD FOR CORRECTING MASK PATTERN, DEVICE FOR CORRECTING MASK PATTERN, RECORDING MEDIUM STORING MASK PATTERN CORRECTING PROGRAM, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

マスクパターン補正方法、マスクパターン補正装置、マスクパターン補正プログラムを格納した記録媒体、及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

MASK OF ELECTRON BEAM ALIGNER, METHOD FOR DETERMINING LINE WIDTH OF MASK APERTURE, PROGRAM FOR DETERMINING LINE WIDTH OF MASK APERTURE, AND ELECTRON BEAM ALIGNER例文帳に追加

電子ビーム露光装置のマスク、マスク開口の線幅決定方法、マスク開口の線幅決定プログラムおよび電子ビーム露光装置 - 特許庁

DEVICE FOR GENERATING THINNED-OUT MASK PATTERN, RECORDING DEVICE EQUIPPED WITH THIS DEVICE FOR GENERATING THINNED-OUT MASK PATTERN, METHOD FOR GENERATING MASK PATTERN, PROGRAM AND STORAGE MEDIUM例文帳に追加

間引きマスクパターン生成装置及び当該生成装置を備えた記録装置、マスクパターンの生成方法、プログラム、記憶媒体 - 特許庁

To provide a mask inspection method that has enhanced detection sensitivity regarding line width flaws, and to provide a mask inspection device and a mask inspection program.例文帳に追加

線幅欠陥についての検出感度が高いマスク検査方法、マスク検査装置及びマスク検査プログラムを提供する。 - 特許庁

MASK DATA GENERATION METHOD, MASK FABRICATION METHOD, EXPOSURE METHOD, DEVICE FABRICATION METHOD AND PROGRAM FOR GENERATION OF MASK DATA例文帳に追加

原版データの生成方法、原版作成方法、露光方法、デバイス製造方法及び原版データを作成するためのプログラム - 特許庁

PROGRAM AND METHOD FOR DETERMINING EXPOSURE CONDITION AND MASK PATTERN例文帳に追加

露光条件及びマスクパターンを決定するプログラム及び方法 - 特許庁

METHOD AND PROGRAM OF CREATING MASK DRAWING DATA OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

半導体装置のマスク描画データ作成方法及びプログラム - 特許庁

OPERATING DEVICE FOR MASK GENERATING FUNCTION, AND PROGRAM AND RECORDING MEDIUM FOR THE SAME例文帳に追加

マスク生成関数演算装置、そのプログラム及び記録媒体 - 特許庁

MASK FOR TRANSFERRING CIRCUIT PATTERN, METHOD FOR FORMING MASK PATTERN, PROGRAM FOR FORMING MASK PATTERN, MASK PATTERN FORMING APPARATUS, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND APPARATUS FOR MANUFACTURING THE SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

回路パターン転写用マスク、マスクパターン作成方法、マスクパターン作成プログラム、マスクパターン作成装置、半導体装置製造方法および半導体装置製造装置 - 特許庁

METHOD FOR CORRECTING MASK PATTERN FOR EXPOSURE, PROGRAM, MASK PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

露光用マスクパターンの補正方法、プログラム、マスクパターン形成方法、及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR FABRICATING PHASE SHIFT MASK, PROXIMITY EFFECT CORRECTION DEVICE AND PROGRAM例文帳に追加

位相シフトマスクの製造方法、近接効果補正装置およびプログラム - 特許庁

METHOD AND PROGRAM FOR CREATING MASK IMAGE FOR FRAME IMAGE OF CARTOON例文帳に追加

マンガのコマ画像のためのマスク画像の作成方法及びプログラム - 特許庁

PATTERN CORRECTING METHOD FOR MASK FOR EXPOSURE, PATTERN FORMING METHOD AND PROGRAM例文帳に追加

露光マスクのパターン補正方法、パターン形成方法およびプログラム - 特許庁

IMAGE DATA CORRECTION METHOD, LITHOGRAPHY SIMULATION METHOD, PROGRAM AND MASK例文帳に追加

画像データの補正方法、リソグラフィシミュレーション方法、プログラム及びマスク - 特許庁

COMPLEMENTARY MASK FOR EXPOSURE, ITS MANUFACTURING METHOD AND ITS MANUFACTURING PROGRAM例文帳に追加

露光用の相補形マスク、その製造方法及びその製造プログラム - 特許庁

DESIGNING METHOD FOR SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT, AND MASK DATA GENERATING PROGRAM例文帳に追加

半導体集積回路の設計方法及びマスクデータ作成プログラム - 特許庁

To exactly verify a program error or the like when a mask data is corrected by using a program.例文帳に追加

マスクデータの補正をプログラムで行うにあたり、プログラムのエラー等を的確に検証すること。 - 特許庁

METHOD AND PROGRAM FOR EXTRACTING MASK IMAGE, AND METHOD AND PROGRAM FOR CONSTRUCTING VOXEL DATA例文帳に追加

マスク画像を抽出する方法及びプログラム並びにボクセルデータを構築する方法及びプログラム - 特許庁

METHOD FOR DETECTING DEFECT IN MASK, COMPUTER PROGRAM, AND REFERENCE SUBSTRATE例文帳に追加

マスクの欠陥を検出する方法、コンピュータ・プログラム、および参照基板 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE, DESIGN METHOD OF MASK PATTERN, AND PROGRAM例文帳に追加

半導体装置の製造方法、マスクパターンの設計方法およびプログラム - 特許庁

GENERATING METHOD OF MASK PATTERN DATA, MANUFACTURING METHOD OF MASK, MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE, AND PATTERN DATA GENERATING PROGRAM例文帳に追加

マスクパターンデータ生成方法、マスクの製造方法、半導体装置の製造方法及びパターンデータ生成プログラム - 特許庁

MASK PATTERN CORRECTING METHOD, PHOTOMASK, AND COMPUTER-READABLE RECORDING MEDIUM STORED WITH MASK PATTERN CORRECTING PROGRAM例文帳に追加

マスクパターン補正方法、フォトマスク及びマスクパターン補正方法プログラムを格納したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 - 特許庁

METHOD FOR CORRECTING MASK PATTERN, PROGRAM FOR CORRECTING MASK PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

マスクパターン補正方法、マスクパターン補正プログラム、フォトマスクの作製方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR EXPOSURE, PROGRAM, AND METHOD FOR ENSURING MASK PRECISION例文帳に追加

露光装置および露光方法、並びにプログラムおよびマスク精度保証方法 - 特許庁

METHOD AND PROGRAM FOR PROFILE SIMULATION, AND MASK PATTERN CREATION METHOD例文帳に追加

形状シミュレーション方法、形状シミュレーションプログラム及びマスクパターン作成方法 - 特許庁

DRAWING DATA GENERATING PROGRAM, ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM, AND METHOD FOR MANUFACTURING MASK例文帳に追加

描画データ生成プログラム、電子線描画装置およびマスクの製造方法 - 特許庁

APPARATUS AND METHOD FOR SETTING SUBNET MASK AND SUBNET SETTING PROGRAM例文帳に追加

サブネットマスク設定装置、サブネットマスク設定方法及びサブネットマスク設定プログラム - 特許庁

MASK IMAGE GENERATION DEVICE, THREE-DIMENSIONAL MODEL INFORMATION GENERATION DEVICE, AND PROGRAM例文帳に追加

マスク画像生成装置、３次元物体モデル情報生成装置及びプログラム - 特許庁