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semiconductor surfaceの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 17881件
ADHESIVE TAPE FOR SURFACE PROTECTION FOR SEMICONDUCTOR WAFER例文帳に追加
半導体ウエハ表面保護用粘着テープ - 特許庁
SURFACE TREATMENT METHOD FOR SEMICONDUCTOR PROCESSING APPARATUS例文帳に追加
半導体処理装置の表面処理方法 - 特許庁
METHOD FOR MODIFYING SURFACE OF SEMICONDUCTOR NANOPARTICLE例文帳に追加
半導体ナノ粒子表面修飾方法 - 特許庁
SURFACE-EMISSION SEMICONDUCTOR LASER ELEMENT AND LASER ARRAY例文帳に追加
面発光半導体レーザ素子及びレーザアレイ - 特許庁
The semiconductor device is provided with a semiconductor layer 103, and a surface insulation film 108 that is formed on the surface of the semiconductor layer 103.例文帳に追加
半導体層103と、この半導体層103の表面に設けられた表面絶縁膜108とを備える。 - 特許庁
FILM FOR FLIP-CHIP TYPE SEMICONDUCTOR REAR SURFACE, DICING TAPE INTEGRATED TYPE FILM FOR SEMICONDUCTOR REAR SURFACE, MANUFACTURING METHOD OF THE FILM FOR FLIP-CHIP TYPE SEMICONDUCTOR REAR SURFACE, AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
フリップチップ型半導体裏面用フィルム、ダイシングテープ一体型半導体裏面用フィルム、フリップチップ型半導体裏面用フィルムの製造方法、及び、半導体装置 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND SURFACE-MOUNTED SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
半導体装置の製造方法及び表面実装型半導体装置 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE AND SURFACE TREATMENT METHOD OF SEMICONDUCTOR例文帳に追加
半導体装置の製造方法および半導体の表面処理方法 - 特許庁
A semiconductor element is formed on a surface of a semiconductor substrate.例文帳に追加
半導体基板の表面上に半導体素子が形成されている。 - 特許庁
SEMICONDUCTOR SUBSTRATE SURFACE IMPURITY RECOVERING DEVICE例文帳に追加
半導体基板表面不純物回収装置 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD OF SURFACE LIGHT-EMISSION TYPE SEMICONDUCTOR LASER例文帳に追加
面発光型半導体レーザの製造方法 - 特許庁
FORMATION METHOD FOR FINE PATTERN OF SEMICONDUCTOR SURFACE例文帳に追加
半導体表面の微細パターン形成方法 - 特許庁
GRINDING METHOD FOR GRINDING BACK-SURFACE OF SEMICONDUCTOR WAFER AND GRINDING APPARATUS FOR GRINDING BACK-SURFACE OF SEMICONDUCTOR WAFER USED IN SAME例文帳に追加
半導体ウェーハ裏面の研削方法及びそれに用いる半導体ウェーハ裏面研削装置 - 特許庁
NITRIDE SEMICONDUCTOR VERTICAL CAVITY SURFACE-EMITTING LASER例文帳に追加
窒化物半導体垂直キャビティ面発光レーザ - 特許庁
SURFACE EMISSION SEMICONDUCTOR LASER AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
面発光半導体レーザーとその製造方法 - 特許庁
At the junction J, a junction surface (N surface) of the semiconductor structure 19 and a junction surface (Ga surface) of the semiconductor structure 45 are joined together.例文帳に追加
接合Jでは半導体構造物19の接合面(N面)と半導体構造物45の接合面(Ga面)とが接合される。 - 特許庁
MIRROR SURFACE POLISHING DEVICE AND MIRROR SURFACE POLISHING METHOD FOR SEMICONDUCTOR WAFER例文帳に追加
半導体ウェーハの鏡面研磨装置および鏡面研磨方法 - 特許庁
METHOD FOR SIMULTANEOUS POLISHING OF FRONT SURFACE AND BACK SURFACE OF SEMICONDUCTOR WAFER例文帳に追加
半導体ウェハの前面および裏面を同時にポリッシングする方法 - 特許庁
The semiconductor laser is achieved as a surface-emitting semiconductor laser having a semiconductor body 4.例文帳に追加
半導体レーザーは、半導体ボディ4を備える面発光型半導体レーザー2として実現される。 - 特許庁
The semiconductor light emitting device includes a surface-emitting semiconductor laser 1, a filter 3, and the semiconductor photodetector 2.例文帳に追加
面発光型半導体レーザ1、フィルタ部3および半導体光検出器2を備える。 - 特許庁
SEMICONDUCTOR ELEMENT MANUFACTURING METHOD, SEMICONDUCTOR ELEMENT, SEMICONDUCTOR LASER, SURFACE LIGHT-EMITTING ELEMENT, AND OPTICAL WAVEGUIDE例文帳に追加
半導体素子の製造方法、半導体素子、半導体レーザ、面発光素子、および光導波路 - 特許庁
In a semiconductor device 10, a semiconductor substrate 11 has a first surface and a second surface facing the first surface.例文帳に追加
半導体装置10では、半導体基板11は第1の面と、第1の面に対向する第2の面を有している。 - 特許庁
The semiconductor layer includes a first surface, a second surface facing opposite the first surface, and a light-emitting layer.例文帳に追加
半導体層は、第1の面と、その反対側の第2の面と、発光層とを有する。 - 特許庁
METHOD FOR PLANARIZING SURFACE OF SEMICONDUCTOR WAFER例文帳に追加
半導体ウェーハの表面を平坦化する方法 - 特許庁
A package surface temperature of a semiconductor is measured.例文帳に追加
半導体のパッケージ表面温度を測定する。 - 特許庁
POLISHING METHOD FOR PLANARIZING SURFACE OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
半導体デバイス表面の平坦化研磨方法 - 特許庁
LEAD FRAME AND SURFACE MOUNTING TYPE SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
リードフレーム及び表面実装型半導体装置 - 特許庁
SURFACE MOUNT SEMICONDUCTOR PACKAGE, AND TERMINAL BOARD例文帳に追加
表面実装型半導体パッケージ及び端子板 - 特許庁
SURFACE EMITTING SEMICONDUCTOR LASER AND ITS MANUFACTURE例文帳に追加
面発光型半導体レーザとその製造方法 - 特許庁
SURFACE-EMITTING SEMICONDUCTOR ELEMENT AND MANUFACTURING METHOD THEREOF例文帳に追加
面発光型半導体素子とその製造方法 - 特許庁
SURFACE-EMITTING SEMICONDUCTOR LASER AND MANUFACTURING METHOD THEREOF例文帳に追加
面発光半導体レーザ及びその製造方法 - 特許庁
The surface of a semiconductor wafer is subjected to a hydrophobic treatment.例文帳に追加
半導体ウェハの表面を疎水処理する。 - 特許庁
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