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submicron processingの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 7件
To perform film deposition processing of high quality by removing microparticles of submicron size.例文帳に追加
サブミクロンサイズの微細なパーティクルを除去し、高品質の成膜処理を行うことを目的とする。 - 特許庁
To provide the method of processing a high voltage p++/n- well junction in a standard submicron CMOS process.例文帳に追加
標準サブミクロンＣＭＯＳプロセスで、高耐圧ｐ^＋＋／ｎ^−ウエル接合部を処理する方法を提供する。 - 特許庁
To provide a stable processing method of a recessed portion by which accuracy of a submicron order is easily obtained without using a complicated processing process such as a lithography process.例文帳に追加
リソグラフィー工程のような複雑な加工工程を使用することなく、簡単にサブμｍ精度の安定した凹部の加工方法を得る。 - 特許庁
To provide a magnetoresistive effect film of very small size less than submicron size, specially, a magnetoresistive effect film of minimum processing size and further a memory element using the magnetoresistive effect film.例文帳に追加
サブミクロンサイズ以下の微小サイズの磁気抵抗効果膜、特に最小加工寸法の磁気抵抗効果膜を提供し、さらにこの磁気抵抗効果膜を用いたメモリ素子を提供する。 - 特許庁
The depth of the cavity formed on the laminate of the sugar-coated layers can be controlled in a submicron unit by the nonthermal processing of the ultrashort pulsed laser so as to expose the color of the desired sugar-coated layer.例文帳に追加
超短パルスレーザの非熱加工により、糖衣層の積層に形成される窪みの深さをサブミクロン単位で制御することができ、所望の糖衣層の色を露出させることができる。 - 特許庁
To provide a grid polarizer manufacturing method with which a large-sized grid polarizer having the grid shaped pattern of submicron order can be economically manufactured by precise fine processing and vapor deposition.例文帳に追加
サブミクロンオーダーの格子形状を有するグリッド偏光子を、精密微細加工及び蒸着により大面積で経済的に製造することができるグリッド偏光子の製造方法を提供する。 - 特許庁
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