例文 (999件) |
substrate surfaceの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 43290件
SUBSTRATE SURFACE PROCESSING APPARATUS例文帳に追加
基板表面処理装置 - 特許庁
FLAT SURFACE SUBSTRATE STORAGE DEVICE例文帳に追加
平面基板保管装置 - 特許庁
SUBSTRATE SURFACE PROCESSING DEVICE例文帳に追加
基板表面処理装置 - 特許庁
A substrate has a first substrate surface and a second substrate surface opposite to the first substrate surface.例文帳に追加
基板は第一基板表面と、第一基板表面と反対の第二基板表面を有する。 - 特許庁
SUBSTRATE SURFACE TREATMENT EQUIPMENT AND SUBSTRATE SURFACE TREATMENT METHOD例文帳に追加
基板表面処理装置及び基板表面処理方法 - 特許庁
SUBSTRATE SURFACE PROCESSING METHOD AND SUBSTRATE SURFACE PROCESSOR例文帳に追加
基板表面処理方法および基板表面処理装置 - 特許庁
SUBSTRATE SURFACE TREATING METHOD, AND SUBSTRATE SURFACE TREATING APPARATUS例文帳に追加
基板表面処理方法及び基板表面処理装置 - 特許庁
SUBSTRATE SURFACE TREATMENT APPARATUS AND SUBSTRATE SURFACE TREATMENT METHOD例文帳に追加
基板表面処理装置および基板表面処理方法 - 特許庁
SUBSTRATE SURFACE-TREATING DEVICE, SUBSTRATE SURFACE TREATMENT METHOD, AND SUBSTRATE-TREATING DEVICE例文帳に追加
基板表面処理装置、基板表面処理方法および基板処理装置 - 特許庁
SURFACE-MODIFIED SUBSTRATE, METHOD FOR PRODUCING SURFACE-MODIFIED SUBSTRATE AND SYSTEM FOR PRODUCING SURFACE-MODIFIED SUBSTRATE例文帳に追加
表面修飾基板、表面修飾基板の製造方法及び表面修飾基板の製造システム - 特許庁
SURFACE-MODIFIED SUBSTRATE, METHOD FOR PRODUCING SURFACE-MODIFIED SUBSTRATE, AND SYSTEM FOR PRODUCING SURFACE-MODIFIED SUBSTRATE例文帳に追加
表面修飾基板、表面修飾基板の製造方法及び表面修飾基板の製造システム - 特許庁
SUBSTRATE SURFACE PLANARIZATION METHOD例文帳に追加
基板の表面平坦化方法 - 特許庁
SURFACE TREATMENT AGENT FOR SEMICONDUCTOR SUBSTRATE例文帳に追加
半導体基板の表面処理剤 - 特許庁
METHOD OF MACHINING SEMICONDUCTOR SUBSTRATE SURFACE例文帳に追加
半導体基板表面の加工方法 - 特許庁
SURFACE PROCESSING METHOD OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATE例文帳に追加
半導体基板の表面処理方法 - 特許庁
SURFACE TREATMENT DEVICE FOR SEMICONDUCTOR SUBSTRATE例文帳に追加
半導体基板の表面処理装置 - 特許庁
SURFACE ROUGHENING METHOD FOR SEMICONDUCTOR SUBSTRATE例文帳に追加
半導体基板の粗面化法 - 特許庁
APPARATUS FOR SURFACE MODIFICATION OF RESIN SUBSTRATE例文帳に追加
樹脂基板の表面改質装置 - 特許庁
INSPECTION METHOD FOR SUBSTRATE SURFACE例文帳に追加
基板表面の検査方法 - 特許庁
METHOD FOR PROTECTING SURFACE OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATE例文帳に追加
半導体基板の表面保護方法 - 特許庁
DEVICE FOR POLISHING REAR SURFACE OF SUBSTRATE, SYSTEM FOR POLISHING REAR SURFACE OF SUBSTRATE AND METHOD FOR POLISHING REAR SURFACE OF SUBSTRATE, AND RECORDING MEDIUM HAVING RECORDED PROGRAM FOR POLISHING REAR SURFACE OF SUBSTRATE例文帳に追加
基板裏面研磨装置、基板裏面研磨システム及び基板裏面研磨方法並びに基板裏面研磨プログラムを記録した記録媒体 - 特許庁
SURFACE PROCESSING OF DIAMOND SUBSTRATE例文帳に追加
ダイヤモンド基板表面加工方法 - 特許庁
SURFACE PROCESSING APPARATUS OF SUBSTRATE MATERIAL例文帳に追加
基板材の表面処理装置 - 特許庁
SURFACE EVALUATING DEVICE FOR SUBSTRATE例文帳に追加
基板の表面評価装置 - 特許庁
SUBSTRATE SURFACE DISPLACEMENT MEASURING DEVICE例文帳に追加
基板表面変位測定装置 - 特許庁
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