「substrate surface」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

A GaN substrate 1 is provided with a main surface excluding a c surface (e.g., m surface).例文帳に追加

ＧａＮ基板１は、ｃ面以外の主面（たとえばｍ面）を持つ。 - 特許庁

SUBSTRATE FRONT SURFACE MOUNTING PART, SUBSTRATE CIRCUIT, SUBSTRATE, SOLDER CONNECTING METHOD AND METHOD OF MANUFACTURING SUBSTRATE CIRCUIT例文帳に追加

基板表面実装部品、基板回路、基板、ハンダ接続方法、及び基板回路の製造方法 - 特許庁

CERAMIC SUBSTRATE, SURFACE TREATMENT METHOD FOR CERAMIC SUBSTRATE, AND METHOD FOR FORMING THIN FILM ON ROUGHENED SURFACE OF CERAMIC SUBSTRATE例文帳に追加

セラミックス基板、セラミックス基板の表面処理方法、セラミックス基板の粗化面への薄膜形成方法 - 特許庁

SUBSTRATE FOR SURFACE ACOUSTIC WAVE DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SUBSTRATE AND SURFACE ACOUSTIC WAVE DEVICE USING THE SUBSTRATE例文帳に追加

弾性表面波デバイス用基板、その製造方法およびそれを用いた弾性表面波デバイス - 特許庁

FINISHING DEVICE FOR SUBSTRATE SURFACE WITH JET例文帳に追加

ジェットによる基板表面の仕上げ装置 - 特許庁

METHOD FOR REFORMING SURFACE OF ALUMINUM SUBSTRATE例文帳に追加

アルミニウム基板の表面改質方法 - 特許庁

TRANSPORTATION DEVICE FOR SURFACE-MOUNTING SUBSTRATE AND METHOD FOR SOLDERING SURFACE-MOUNTING SUBSTRATE例文帳に追加

表面実装基板の搬送器具および表面実装基板の半田付け方法 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR SURFACE TREATMENT OF SUBSTRATE例文帳に追加

基板の表面処理方法及び装置 - 特許庁

METHOD FOR PLANARIZING SURFACE OF SiC SUBSTRATE例文帳に追加

ＳｉＣ基板表面の平坦化方法 - 特許庁

SURFACE-MOUNT CONNECTOR AND SUBSTRATE UNIT例文帳に追加

表面実装型コネクタ及び基板ユニット - 特許庁

METHOD OF SMOOTHENING SURFACE OF GLASS SUBSTRATE例文帳に追加

ガラス基板表面を平滑化する方法 - 特許庁

METHOD FOR CLEANING SURFACE OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATE例文帳に追加

半導体基板表面のクリーニング方法 - 特許庁

SURFACE MOUNTING SUBSTRATE AND ANTENNA SYSTEM例文帳に追加

表面実装用基板及びアンテナ装置 - 特許庁

The electrode surface of the capacitor electrode 13 is formed in parallel with the substrate surface of a substrate 2, and the electrode surface of the capacitor electrode 12 is formed while inclining to the substrate surface of the substrate 2.例文帳に追加

コンデンサ電極１３の電極面は基板２の基板面と平行に形成し、コンデンサ電極１２の電極面は基板２の基板面に対して傾けて形成する。 - 特許庁

PIEZOELECTRIC SUBSTRATE AND ELASTIC SURFACE WAVE DEVICE例文帳に追加

圧電基板および弾性表面波装置 - 特許庁

COMPOSITE SUBSTRATE HAVING HYDROPHILIC SURFACE例文帳に追加

親水性表面を有する複合基材 - 特許庁

METHOD FOR POLISHING BOTH SURFACE OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATE例文帳に追加

半導体基板の両面研磨方法 - 特許庁

SURFACE TREATMENT METHOD FOR ALUMINUM-BASED SUBSTRATE例文帳に追加

アルミニウム系基材の表面処理方法 - 特許庁

SURFACE-ROUGHENING METHOD OF SUBSTRATE FOR SOLAR BATTERY例文帳に追加

太陽電池用基板の粗面化方法 - 特許庁

2. The optical properties of the substrate surface 例文帳に追加

（二）　基材の表面の光学的特性 - 日本法令外国語訳データベースシステム

SURFACE ACOUSTIC WAVE DEVICE AND ITS SUBSTRATE例文帳に追加

弾性表面波装置及びその基板 - 特許庁

SURFACE TREATMENT COMPOSITION AND SURFACE-TREATED SUBSTRATE例文帳に追加

表面処理剤組成物、および表面処理された基材 - 特許庁

SURFACE ACOUSTIC WAVE SUBSTRATE AND SURFACE ACOUSTIC WAVE FUNCTIONAL ELEMENT例文帳に追加

弾性表面波基板及び弾性表面波機能素子 - 特許庁

END SURFACE MACHINING DEVICE FOR GLASS SUBSTRATE AND END SURFACE MACHINING METHOD例文帳に追加

ガラス基板の端面加工装置及び端面加工方法 - 特許庁

SURFACE TREATMENT METHOD FOR SUBSTRATE, CLEANING METHOD FOR SUBSTRATE AND PROGRAM例文帳に追加

基板の表面処理方法、基板の洗浄方法、及びプログラム - 特許庁

A sputtering apparatus comprises a substrate holder, and a screening member configured to screen a substrate mount surface to be mounted with a substrate 18 in a surface of the substrate holder.例文帳に追加

スパッタリング装置は、基板ホルダー表面の基板１８が載置される基板載置面を遮蔽可能な遮蔽部材を備える。 - 特許庁

SURFACE PROCESSING METHOD OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATE AND SUBSTRATE PROCESSING DEVICE例文帳に追加

半導体基板の表面処理方法および基板処理装置 - 特許庁

In at least a part for exposing a substrate, the surface of the substrate faces the emission surface, the first surface, the second surface, and the third surface, while the substrate is exposed with the exposure light from the emission surface via third liquid existing between the emission surface and the surface of the substrate.例文帳に追加

基板の露光の少なくとも一部において、射出面、第１面、第２面、及び第３面に基板の表面が対向し、射出面と基板の表面との間の第３液体を介して射出面からの露光光で基板が露光される。 - 特許庁

The lower surface plate holds the first substrate and the upper surface plate holds the second substrate.例文帳に追加

下定盤は、第１の基板を保持し、及び、上定盤は、第２の基板を保持する。 - 特許庁

Consequently, the reverse surface of the device substrate 101 is exposed on the reverse surface side of the support substrate 102.例文帳に追加

これにより、支持基板１０２の裏面側に、デバイス基板１０１の裏面が露出する。 - 特許庁

SUBSTRATE FOR SURFACE-MOUNTED COMPONENT, AND METHOD OF MOUNTING THE SURFACE-MOUNTED COMPONENT ON SUBSTRATE例文帳に追加

表面実装部品用基板および基板に対する表面実装部品の実装方法 - 特許庁

METHOD FOR IMPARTING LUBRICITY TO SURFACE OF SUBSTRATE AND SUBSTRATE HAVING LUBRICATING SURFACE例文帳に追加

基材の表面に潤滑性を付与する方法及び潤滑性表面を有する基材 - 特許庁

A step is formed on the substrate surface of a selector gate 8 and the substrate surface of a memory gate 15.例文帳に追加

選択ゲート８の基板表面とメモリゲート１５の基板表面に段差を設ける。 - 特許庁

The separation oxide film 6 whose upper surface is higher than a substrate 1 surface is formed in the substrate 1.例文帳に追加

上面が基板１表面よりも高い分離酸化膜６を基板１に形成する。 - 特許庁

METHOD FOR REMOVING FOREIGN MATTER FROM GLASS SUBSTRATE SURFACE AND METHOD FOR PROCESSING GLASS SUBSTRATE SURFACE例文帳に追加

ガラス基板表面から異物を除去する方法、ガラス基板表面を加工する方法 - 特許庁

DOUBLE SURFACE TREATMENT METHOD OF SUBSTRATE AND SURFACE-TREATED SUBSTRATE BY THE METHOD例文帳に追加

基板の二重表面処理方法及びこの方法により表面処理された基板 - 特許庁

SURFACE WORKING METHOD FOR SUBSTRATE FOR MAGNETIC DISK例文帳に追加

磁気ディスク用基板の表面加工方法 - 特許庁

The substrate 1 comprises an upper surface 102.例文帳に追加

基材１は上面１０２を有している。 - 特許庁

The surface of the glass substrate is then cleaned.例文帳に追加

次に、ガラス基板の表面を洗浄する。 - 特許庁

To increase the smoothness of a substrate surface.例文帳に追加

基板表面の平滑度をより高くする。 - 特許庁

APPARATUS AND METHOD OF CLEANING SUBSTRATE SURFACE例文帳に追加

基板表面のクリーニング装置及び方法 - 特許庁

METHOD FOR PERFORMING FILM DEPOSITION ON LARGE SUBSTRATE SURFACE例文帳に追加

大型基板表面に成膜する方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING SURFACE-TREATED SUBSTRATE例文帳に追加

表面処理された基材の製造方法 - 特許庁

SURFACE ROUGHENING METHOD FOR LIGHT EMITTING DIODE SUBSTRATE例文帳に追加

発光ダイオード基板粗面処理の方法 - 特許庁

SPRAY UNIT FOR SURFACE TREATMENT OF SUBSTRATE MATERIAL例文帳に追加

基板材の表面処理用のスプレーユニット - 特許庁