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substrate surfaceの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 43285件
POLYCRYSTALLINE SILICON SUBSTRATE AND METHOD OF ROUGHING ITS SURFACE例文帳に追加
多結晶シリコン基板およびその粗面化法 - 特許庁
ROUGHENING METHOD OF SILICON SUBSTRATE SURFACE FOR SOLAR BATTERY例文帳に追加
太陽電池用シリコン基板の粗面化方法 - 特許庁
HYDROPHILIC COATING FILM AND SUBSTRATE HAVING HYDROPHILIC SURFACE例文帳に追加
親水性被膜及び表面親水性基材 - 特許庁
SURFACE-WORKING METHOD FOR SUBSTRATE AND SOLAR BATTERY例文帳に追加
基板の表面加工方法及び太陽電池 - 特許庁
A cover for cleaning 100 is placed opposite to a part of the substrate placing surface (the upper surface of a substrate holder 50).例文帳に追加
清掃用カバー100を、基板載置面(基板ホルダ50の上面)の一部に対向配置する。 - 特許庁
STRUCTURE FORMING DEVICE FOR PROCESSING SUBSTRATE SURFACE例文帳に追加
基板の表面を加工する構造形成装置 - 特許庁
SURFACE ROUGHENING APPARATUS OF BUILDUP SUBSTRATE INSULATING LAYER例文帳に追加
ビルドアップ基板絶縁層の表面粗化装置 - 特許庁
SURFACE ROUGHENING DEVICE FOR BUILD-UP SUBSTRATE INSULATING LAYER例文帳に追加
ビルドアップ基板絶縁層の表面粗化装置 - 特許庁
The glass substrate 26 is held by being more curved to the side of the mask processing surface than the substrate holding surface.例文帳に追加
ガラス基板26は、この基板保持面よりマスク処理面の側に湾曲させて保持される。 - 特許庁
In this substrate surface planarization method, a concave part formed on a surface of a substrate is etched.例文帳に追加
基板の表面に形成された凸部をエッチングするための基板の表面平坦化方法である。 - 特許庁
METHOD FOR DETERMINING MERCAPTO GROUP IN SURFACE OF SUBSTRATE例文帳に追加
基材表面のメルカプト基の定量方法 - 特許庁
A source electrode 12 (surface electrode) is formed on a surface of a GaAs substrate 10 (substrate).例文帳に追加
GaAs基板10(基板)の表面上にソース電極12(表面電極)が形成されている。 - 特許庁
Electrodes are formed on a surface of the substrate.例文帳に追加
基板の表面には電極が形成される。 - 特許庁
The gas between the substrate and the supporting surface are decompressed via the air vents, and the substrate is mounted on the supporting surface.例文帳に追加
空気孔を介して基板と支持面間を減圧させ、基板を支持面へ搭載させる。 - 特許庁
SURFACE PROTECTIVE FILM FOR TRANSPARENT CONDUCTIVE SUBSTRATE AND TRANSPARENT CONDUCTIVE SUBSTRATE WITH SURFACE PROTECTIVE FILM例文帳に追加
透明導電性基板用表面保護フィルム及び表面保護フィルム付き透明導電性基板 - 特許庁
To process a substrate in a processing chamber comprising a substrate support, having a receiving surface for receiving a substrate so that a front surface of the substrate is exposed within the chamber.例文帳に追加
基板正面がチャンバ内で露出するような基板用の受け面を有する基板支持体を備える処理チャンバ内で基板を処理する。 - 特許庁
SUPPORT FIXTURE FOR SUBSTRATE AND DRYING METHOD FOR SUBSTRATE SURFACE USING THE SAME例文帳に追加
基板の支持固定具、及びこれを用いた基板表面の乾燥方法 - 特許庁
SUBSTRATE SUPPORT DEVICE, SUBSTRATE TREATMENT APPARATUS, MULTIPLE-CONNECTED MODULE SURFACE MOUNTING EQUIPMENT例文帳に追加
基板支持装置、基板処理装置、多連結モジュール型表面実装機 - 特許庁
A substrate recess 1a is formed on the surface of a semiconductor substrate 1.例文帳に追加
半導体基板1の表面に基板凹部1aが形成されている。 - 特許庁
To inspect a substrate such as a semiconductor substrate for surface roughness at high precision.例文帳に追加
半導体基板などの基板の表面あれを高精度に検査する。 - 特許庁
A substrate through hole 190 is provided from the subordinate surface of the substrate 100 to the cavity.例文帳に追加
基板100の従表面から空洞に至る基板貫通孔190を設ける。 - 特許庁
CERAMIC SUBSTRATE AND METHOD OF FORMING THIN FILM ON COARSE SURFACE OF CERAMIC SUBSTRATE例文帳に追加
セラミックス基板及びセラミックス基板の粗化面への薄膜形成方法 - 特許庁
The substrate 1 is a GaN monocrystalline substrate whose major surface is an m-plane.例文帳に追加
基板1は、m面を主面としたGaN単結晶基板である。 - 特許庁
METHOD OF AND DEVICE FOR POLISHING SURFACE OF SUBSTRATE-PLACING PLATE FOR SUBSTRATE-PLACING DEVICE例文帳に追加
基板戴置装置用の基板戴置板の表面研磨方法及び装置 - 特許庁
To provide a semiconductor light emitting chip in which the slope of a substrate side surface of a substrate to a substrate surface of the substrate is suppressed, and a method of processing the substrate of the semiconductor light emitting chip.例文帳に追加
半導体発光チップにおける基板側面の基板表面に対する傾斜が抑制された半導体発光チップおよび基板の加工方法を提供する。 - 特許庁
The substrate has a recess and the recess has a bottom surface and a sidewall surface joined to the bottom surface.例文帳に追加
基板は凹部を有しており、凹部には底面と該底面に接続された側壁面がある。 - 特許庁
The substrate 1 is placed on the curved surface part 31a to show a first surface 1a on the surface side.例文帳に追加
基板1は、曲面部31a上に第1面1aを表側にして載置される。 - 特許庁
The substrate defines a first surface and a second surface opposite the first surface.例文帳に追加
基材は、第1の表面と、第1の表面の逆側の第2の表面を画定している。 - 特許庁
The flexible substrate includes a first surface 62 and a second surface 64 fixed on the inner surface of the conductor.例文帳に追加
可撓性基板は、導体の内面に固定される第1面62と、第2面64とを有する。 - 特許庁
Then a reverse surface element structure is formed on the reverse surface of the device substrate 101 exposed on the reverse surface side of the support substrate 102.例文帳に追加
ついで、支持基板102の裏面側に露出するデバイス基板101の裏面に、裏面素子構造を形成する。 - 特許庁
SUBSTRATE FOR SURFACE LIGHT-EMITTING ELEMENT, MANUFACTURING METHOD OF SUBSTRATE FOR SURFACE LIGHT-EMITTING ELEMENT, SURFACE LIGHT-EMITTING ELEMENT, LIGHTING APPARATUS, AND DISPLAY DEVICE例文帳に追加
面発光素子用基板、面発光素子用基板の製造方法、面発光素子、照明器具及び表示装置。 - 特許庁
The substrate 16 is held such that the upper surface of the substrate 16 projects from the upper end of the substrate fitting part 45.例文帳に追加
基板16の上面を基板嵌合部45の上端部以上に突設した状態で保持する。 - 特許庁
A substrate stage device has a substrate held by a substrate holding member mounted on a Y step surface table.例文帳に追加
基板ステージ装置は、Yステップ定盤上に搭載された基板支持部材に基板が保持される。 - 特許庁
The substrate table supports a substrate such that a target surface of the substrate substantially coincides with the target plane.例文帳に追加
基板の目標表面は目標面にほぼ一致するように基板テーブルは基板を支持する。 - 特許庁
SURFACE MOUNTING EQUIPMENT, AND SUBSTRATE PRODUCTION CONTROLLER例文帳に追加
表面実装機および基板生産制御装置 - 特許庁
METHOD OF DRY-CLEANING REAR SURFACE OF SUBSTRATE AND APPARATUS THEREFOR例文帳に追加
基板裏面のドライ洗浄方法とその装置 - 特許庁
SURFACE ROUGHING APPARATUS FOR ROUGHING BUILD-UP SUBSTRATE INSULATING LAYER例文帳に追加
ビルドアップ基板絶縁層の表面粗化装置 - 特許庁
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