「surface roughness requirement」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

A surface roughness discrimination characteristic correction sheet is attached to a device having a piezo-electric contact type media sensor and when the result of cumulative detection number (=cumulative paper-passing number) count of the device arrives at a predetermined number, a correction requirement signal is transmitted and correction by paper-passing of the discrimination characteristic correction sheet is promoted.例文帳に追加

圧電接触式メディアセンサを有する装置に表面粗さ識別特性校正用シートを添付し、装置の累積検知回数（＝累積通紙枚数）カウント結果が所定回数に達した際に校正要求信号を発信させて表面粗さ識別特性校正用シートの通紙による校正を促す。 - 特許庁

Each of the models 100-300 is related with attribute information for expressing a requirement (for example, used working tool, surface roughness to be realized, and the like) on the production in a portion corresponding to each constitutive element of each three-dimensional solid model, to the element, using the three-dimensional solid model for expressing a shape as a core.例文帳に追加

それら各モデル１００〜３００は、形状を表す３次元ソリッドモデルを核とし、該ソリッドモデルの各構成要素に対してその要素に対応する部分の製造上の要件（例えば使用する加工工具や実現すべき面粗度など）を示す属性情報を関連づけたものである。 - 特許庁

To provide a surface treatment method of a resist pattern which meets the requirement that the line width and LWR (Line Width Roughness) of a first resist pattern are not varied by the freezing of the first resist pattern and the formation of a second resist pattern in a double patterning method.例文帳に追加

ダブルパターニング法における第一のレジストパターンに対して行うフリージングプロセスにおいて、フリージング処理および第二のレジストパターンの形成によって、第一のレジストパターンの線幅及びＬＷＲが変動しないという要件を満たすレジストパターンの表面処理方法およびその表面処理方法を用いたレジストパターンの形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a surface treatment agent for a freezing process that meets the requirement that (1) the line width of a first resist pattern does not fluctuate and (2) the line edge roughness (LER) of the first resist pattern does not deteriorate, by a freezing process in a freezing process that is applied to the first resist pattern in a double patterning method, and a pattern forming method using it.例文帳に追加

ダブルパターニング法における第一のレジストパターンに対して行うフリージングプロセスにおいて、フリージング処理によって、（１）第一のレジストパターンの線幅が変動しない、（２）第一のレジストパターンのラインエッジラフネス（ＬＥＲ）が悪化しない、という要件を満たすフリージングプロセス用の表面処理剤およびそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁