痕跡量金属の英語

ＩＶｂ族金属四ハロゲン化物から痕跡量のＩＶｂ族金属汚染物およびＶｂ族金属汚染物を除去する改良方法、特に四塩化チタンから四塩化ジルコニウムを除去する方法、を提供すること。例文帳に追加

To provide an improved process for removing trace of Group IVb metal and Group Vb metal impurities from Group IVb metal tetrahalides, particularly a process for removing zirconium tetrachloride from titanium tetrachloride. - 特許庁

金属枠と金属膜膜溶接の際、軽量な金属枠構成でき、ローラ電極の痕跡を金属膜上に残さず、溶接におけるちり、火花の発生を抑制しつつ、金属枠の傾きや、板厚に依存しない低電流低加圧溶接を実現できる。例文帳に追加

To provide a low current low welding force weld for welding a metallic frame with a metallic film which weld adopts a light weighted metallic frame structure, leaves no traces of a roller electrode on the metallic film, suppresses a generation of dust and sparks during the welding, and independent of a tilt of the metallic frame or the thickness of the metallic film. - 特許庁

本発明は、貴金属をドーパントとして添加しておいたアニオン交換体の存在下で水素を加えることでビスフェノールＡ製造前のフェノールに痕跡量で残存する酸素を除去することを通してポリカーボネート製造で望まれてない変色を回避することに関する。例文帳に追加

The discoloration, which is undesirable in polycarbonate manufacturing, is avoided through the removal of trace of oxygen which remains in phenol before bisphenol A manufacturing by adding hydrogen in the presence of an anion exchanger, to which a noble metal has been added as a dopant. - 特許庁