研磨される基板の位置に寄らずに常に新しい研磨剤が供給され、基板の外周部でも中心部でも研磨特性に大差が無く、均一な研磨が行なわれるようにすると共に、研磨剤の無駄を少なくする研磨技術を提供することである。例文帳に追加

To provide a polishing technique for always supplying new polishing agent, without replying on the position of a substrate to be polished, and performing uniform polishing without a great difference in even an outer peripheral part or a center part of the substrate, and reducing waste of the polishing agent. - 特許庁

ブラシ本体１１の基端側１１ｂに把柄１２が取付けられた摺洗用ブラシ１において、前記ブラシ本体１１は、布帛地からなる補強シートとスポンジシートとが貼り合わされた複合シートからなる多数の短冊片２２が、２本の撚り合わされた針金２１，２１の間に狭着固定されてなる棒状のブラシ基材３０によって構成されている。例文帳に追加

In this scrub brush 1 having a brush body 11 and a handle 12 attached to the base end side 11b of the brush body 11, the brush body 11 is comprised of a rod-shaped brush base material 30 where a large number of strips 22 of a composite sheet made of a sponge sheet and a reinforcing cloth sheet are fixed between a pair of two twisted wires 21. - 特許庁