よう素化学レーザの英語

化学励起酸素−沃素レーザ装置用励起酸素発生装置例文帳に追加

EXCITATION OXYGEN GENERATOR FOR CHEMICAL EXCITATION OXYGEN-IODINE LASER DEVICE - 特許庁

化学励起酸素‐沃素レーザ装置用励起酸素発生装置例文帳に追加

EXCITATED OXYGEN GENERATOR FOR CHEMICALLY EXCITATED OXYGEN-IODINE LASER DEVICE - 特許庁

マスキング部材、レーザ溶接方法および電気化学素子の製造方法例文帳に追加

MASKING MEMBER, LASER WELDING METHOD, AND ELECTROCHEMICAL ELEMENT MANUFACTURING METHOD - 特許庁

化学酸素ヨウ素レーザにおいて、励起酸素ガスと高いよどみ点圧力を有する超音速希釈ガスとの混合を促進することにより、高いレーザ出力とレーザ発振後の高い圧力回復とを同時に達成できる混合ノズルを提供する。例文帳に追加

To provide a mixing nozzel for simultaneously attaining high laser output and recovery of high pressure after the laser oscillation by promoting mixing of an exciting oxygen gas and the ultra sound velocity reduction gas having a high stagnating point pressure. - 特許庁

印字層１２３は色素の他、レーザ光の照射により可視可能な化学反応を示す物質であれば溶融、炭化するものでもよい。例文帳に追加

The print layer 123 may be formed of dyes or of substances which melt or carbonize as far as the substances exhibit visible information through a chemical reaction by irradiation of laser light. - 特許庁

化学励起酸素—沃素レーザ用励起酸素発生装置の塩基性過酸化水素溶液の組成を制御して、高い反応効率で連続的に長時間安定して励起酸素を発生する。例文帳に追加

To stably and continuously generate excitated oxygen over a long time with high reaction efficiency, by controlling the composition of the basic hydrogen peroxide solution of an excited oxygen generator for chemically excitated oxygen - iodine laser. - 特許庁

微細加工のためのフォトリソグラフィー、特にＫｒＦレーザー、ＡｒＦレーザー、Ｆ2レーザー、極短紫外線、電子線、Ｘ線などを露光源として用いたリソグラフィーにおいて、高解像性を達成すると共に、マスク被覆率依存性を低減し、更には液浸露光にも適用可能な化学増幅型レジスト材料に好適に用いられる新規な含窒素有機化合物の提供。例文帳に追加

To provide a new nitrogen-containing organic compound suitably used for a chemically-amplified resist material applicable to immersion exposure that gives a high-resolution image and reduces dependence on mask coverage in photolithography for microfabrication, especially in lithography using as a light source a KrF laser, an ArF laser, an F2 laser, extremely-short ultraviolet rays, an electron beam, X-rays and the like. - 特許庁

半導体、高エネルギーレーザおよび化学気相成長などの分野で広範な用途が見出される三フッ化窒素の新規な製造方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a new method for preparing nitrogen trifluoride which finds extensive application in the technology of semiconductors, high energy lasers and chemical vapor deposition. - 特許庁