サブミクロン精度の英語

軸非対称かつ非球面の被加工物を、工具を自転させることなく、サブミクロン精度に加工できる超精密加工装置を提供する。例文帳に追加

To provide a superfine machining device that can machine aspherical and axially asymmetrical workpieces with submicron precision without revolving its tools. - 特許庁

サブミクロン単位での位置決め精度で上下方向の位置決めが可能であって、しかも耐久性のある垂直ステージ装置を提供する。例文帳に追加

To provide a vertical stage apparatus of long service life in which vertical positioning is enabled with positioning accuracy of submicron unit. - 特許庁

液体中のサブミクロン粒子の捕集性と捕集精度が高い高分離性液体フィルターを得ること。例文帳に追加

To provide a high discreteness liquid filter with high collectability and collection precision of submicron particles in liquid. - 特許庁

光の波長以下のサブミクロンからサブサブミクロンのオーダの高密度微小ピットを用いる光ディスクにおいて、ディスク上に特別なサーボパターンを設けずに高精度のトラッキング制御を可能にし、高効率、高密度の光ディスク装置を実現することにある。例文帳に追加

To realize an optical disk device having a high efficiency and a high density, capable of performing highly precise tracking control without providing a special servo pattern on a disk, in an optical disk using high density micro bits of the order of submicron to sub-submicron shorter than a wavelength of light. - 特許庁

円筒状セラミックス外周面へ数ミクロンからサブミクロンオーダーまで寸法精度良く、スリットピッチ精度良く形成することを可能とするスリット加工方法及び加工装置を提供する。例文帳に追加

To provide a method and an apparatus for slitting an outer periphery of cylindrical ceramics with good dimensional accuracy from several microns to submicron order and good slit pitch accuracy. - 特許庁

技術力を示す特徴的な製品の1つが、リニアシャフトモータを搭載することでサブミクロンの位置決め精度を実現した測定器、「超高精度薄型X－Yステージ」である。例文帳に追加

A characteristic product that exhibits the company's technical capabilities is an "ultra high precision thin X-Y stage," which is a measuring apparatus in which submicron positioning precision was achieved by mounting a linear shaft motor. - 経済産業省

電着レジスト、金属めっき層の膜厚調整が可能であるので、電鋳品をサイズダウンさせて、高精度なサブミクロンオーダーの微細構造体を有するスタンパーを作製できる。例文帳に追加

Since film thicknesses of the electrodeposition resist layer and the metal plating layer can be adjusted, the stamper having a highly precise submicron-order fine structure can be manufactured by downsizing the electroformed product. - 特許庁

本発明は、薄膜トランジスタに用いられるゲート電極や半導体膜を、簡易かつ安価な工程によってサブミクロンオーダーの精度で形成する技術を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide technology of forming a gate electrode or a semiconductor film for use in a thin film transistor with precision of a sub-micron order in a simple and inexpensive process. - 特許庁