スリットスキャンの英語

スリットスキャン露光方式で、マスクのパターンの像を正確に基板上に形成する。例文帳に追加

To form the image of a mask pattern accurately on a substrate by slit scan aligning system. - 特許庁

例えばスリットスキャン露光方式の走査型露光装置におけるステージの制御を正確に行う。例文帳に追加

To control a stage accurately in a scanning aligner of slit scan aligning system. - 特許庁

基板に対してスリットスキャン現像を行い、その後現像停止液を供給した後、当該基板を十分に洗浄すること。例文帳に追加

To provide a substrate treatment device that performs slit scan development for the substrate and then sufficiently cleans the substrate after a developing stopper is supplied. - 特許庁

スリットスキャン現像・スリットスキャンリンスを行う場合に、リンス液吐出ノズルを基板の上面から離して水平移動させてもスリット状吐出口から吐出されるリンス液がシャワー状とならないようにすることができる装置を提供する。例文帳に追加

To provide an apparatus, in which when slit scan development slit scan rinsing is performed, even if a rinse solution discharge nozzle is separated from the upper surface of a substrate and is moved horizontally, the rinse solution discharged from a slit-shaped discharge outlet is prevented from turning into shower. - 特許庁

スリットスキャン露光方式で露光を行う際に、露光対象となる基板上の露光フィールドの露光が開始されるまでに、露光光の状態を安定させる。例文帳に追加

To stabilize exposure light conditions before the start of exposure in an exposure field on a substrate which is to be exposed at exposure by slit scan exposure method. - 特許庁

そして、多点ＡＦ系を用いてパターン板９０の光軸方向位置及び傾斜をサーボ制御しつつパターン板９０を用いてスリットスキャン方式の空間像計測を繰り返して投影光学系の像面を検出する。例文帳に追加

Then the image plane of the projecting optical system is detected by repeating slit scanning type spatial image measurement by using the pattern plate 90 while servo-controlling the optical axis direction and inclination of the pattern plate 90 by using the multi-point AF system. - 特許庁

パルス発光型の露光ビームを用いてスリットスキャン露光方式で露光を行うときに露光対象となる物体上の積算露光量を適正化する。例文帳に追加

To rationalize integrated exposure on an object to be exposed, when the object is exposed by the slit scanning exposing method using a pulsed light type exposure beam. - 特許庁