タンタル錯体の英語

タンタル錯体及び該錯体を含む有機金属化学蒸着法用溶液原料並びにこれを用いて作製されたタンタル含有薄膜例文帳に追加

TANTALUM COMPLEX AND SOLUTION RAW MATERIAL CONTAINING THE COMPLEX AND USED FOR ORGANIC METAL CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD AND TANTALUM-CONTAINING THIN FILM FORMED FROM THE SAME - 特許庁

タンタル錯体、オレフィン重合用触媒及びオレフィン重合体の製造方法。例文帳に追加

TANTALUM COMPLEX, CATALYST FOR OLEFIN POLYMERIZATION AND PRODUCTION METHOD FOR OLEFIN POLYMER - 特許庁

新規タンタル−ヒドリド錯体及びそれを用いた一酸化炭素の六量体の製造方法例文帳に追加

NEW TANTALUM HYDRIDE COMPLEX AND METHOD FOR PRODUCING CARBON MONOXIDE HEXAMER USING THE SAME - 特許庁

タンタル錯体を含む有機金属化学蒸着法用溶液原料及びそれを用いて作製されたタンタル含有薄膜例文帳に追加

SOLUTION RAW MATERIAL FOR ORGANOMETALLIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD CONTAINING TANTALUM COMPLEX AND TANTALUM-CONTAINING THIN FILM PRODUCED BY USING THE SAME - 特許庁

一般式（１）で表わされる金属−ヒドリド錯体をエーテル系溶媒中でＣＯと反応させると特定のＣＯの六量体成分を含むタンタル錯体が得られる。例文帳に追加

A metal hydride complex represented by general formula (1) is allowed to react with CO in an ether solvent to obtain a tantalum complex including a specific CO hexamer. - 特許庁

良好な蒸気圧を持ち、ＣＶＤ法又はＡＬＤ法等によってニオブ又はタンタル含有薄膜を製造するための原料となる新規なニオブあるいはタンタル錯体、その製造方法、それを用いた金属含有薄膜及びその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a new niobium or tantalum complex having good vapor pressure, which becomes a raw material for producing a niobium- or tantalum-containing thin film by CVD, ALD or the like, and to provide a method for producing the complex, and to provide a metal-containing thin film using the complex and to provide a method for producing such a metal-containing thin film. - 特許庁

光重合性の炭素-炭素不飽和結合を有する有機基を有するβ-ジケトン化合物と、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、ニオブ、タンタルおよびタングステンからなる群より選択されるいずれか１つの遷移金属の原子を有する遷移金属アルコキシド化合物とを、上記遷移金属の原子に対する上記β−ジケトン化合物のβ-ジケトン構造の当量比が２以上となる割合で反応させて得られる有機金属錯体化合物。例文帳に追加

The organometal complex compound is obtained by reacting a β-diketone compound having an organic group having a photopolymerizable carbon-carbon unsaturated bond with a transition metal alkoxide compound having an atom of one transition metal selected from the group consisting of titanium, zirconium, hafnium, niobium, tantalum and tungsten, in such a proportion that the equivalent ratio of a β-diketone structure of the β-diketone compound to the atom of a transition metal is ≥2. - 特許庁