ニッケル不純物の英語

第２のシリサイド層１３にシリコンとニッケルの他にＰ型不純物を含める。例文帳に追加

Silicon, nickel and the p-type impurities are contained in the 2nd silicide layer 13. - 特許庁

支持基板に金属不純物を残留させず、かつ低ニッケル化を可能とする。例文帳に追加

To prevent metal impurities from remaining on a support substrate, and to reduce the amount of nickel. - 特許庁

簡便で確実なニッケルめっき皮膜中の不純物の定量方法を提供することを課題とする。例文帳に追加

To provide a simple and certain quantification method of impurities in a nickel plating film. - 特許庁

不純物を含有するニッケル塩から精製ニッケル溶液を調製する方法において、コバルトの除去率を向上させることを課題とする。例文帳に追加

To improve a removal rate of cobalt in a method for preparing a refined nickel solution from a nickel salt containing impurities. - 特許庁

重量でアルミニウム０．０２〜０．１５％含有し、残部がニッケルおよび不可避不純物からなるニッケル組成物を提供する。例文帳に追加

The nickel composition contains, by weight, 0.02 to 0.15% aluminum, and the balance nickel with inevitable impurities. - 特許庁

不純物を含んだ硫酸ニッケル水溶液をニッケル保有有機相と接触させて不純物とニッケルとを交換させる際に、カルシウムの有機相への分配比を極大化することが可能な高純度硫酸ニッケル水溶液の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a production method of a high purity nickel sulfate solution capable of maximizing the distribution ratio to an organic phase of calcium, when exchanging the impurities and nickel by contacting with the organic phase containing nickel and the nickel sulfate solution containing impurities. - 特許庁

ＭＬＣＣスクラップを硫酸等の鉱酸で浸出し、得られたニッケル浸出液に含まれるニッケル以外の不純物をＦｅイオン共存下で中和し、さらに溶媒抽出法により不純物を除去し、高純度のニッケル水溶液として回収する方法である。例文帳に追加

The method for recovering the nickel in the form of the aqueous nickel solution of high purity by leaching the MLCC scrap by a mineral acid, such as sulfuric acid, neutralizing impurities, exclusive of the nickel, included in the resultant nickel leachate in the copresence with Fe ions, and further removing the impurities by a solvent extraction process. - 特許庁

ニッケル地金を製造する硫酸ニッケル溶液から、不純物として含有しているカルシウムをアルキルリン酸エステルにより、抽出時のｐＨを１．５以上５．０以下で抽出、除去するニッケル電解液の精製方法。例文帳に追加

A purification method of a nickel electrolyte solution includes extracting and removing calcium contained as an impurity from a nickel sulfate solution for producing nickel metal with an alkyl phosphate ester at a pH of 1.5 or more and 5.0 or less during extraction. - 特許庁