プラズマ溶射アルミナの英語

プラズマエッチング耐性を有する被膜加工としては例えばアルマイト加工（アルミナイズ）であり、溶射法やスパッタ蒸着法によるＡｌコーティングとしている。例文帳に追加

As coating work having the plasma etching resistance, there is alumite work (aluminizing) for instance and Al coating is by a thermal spray method or a sputter vapor deposition method. - 特許庁

次いで、処理したアルミナイド拡散皮膜上にオーバーレイ合金ボンドコート材料をプラズマ溶射し、オーバーレイ合金ボンドコート層を形成する。例文帳に追加

Then, an overlay alloy bond coat material is plasma thermal-sprayed on the treated aluminide dispersion film to form the overlay alloy bond coat layer. - 特許庁

セラミック被膜１１２は、約２２％のチタニアと約７７％までのアルミナと有機バインダを含む単一の均質な粉体をコア１１０へプラズマ溶射することで形成される。例文帳に追加

The ceramic coating 112 is formed by subjecting the core 110 to plasma thermal spraying with a single homogeneous powder containing about 22% titania, up to about 77% alumina and an organic binder. - 特許庁

板状のワークを対象としてプラズマ処理を行うプラズマ処理装置においてワークの下面に当接する電極部材４６を、複数の貫通孔４５ａが形成された板状の吸着部材４５と冷却プレート４４とをろう付けして構成し、吸着部材４５の上面にアルミナを溶射した溶射膜６５を形成するとともに、貫通孔４５ａが開口した孔部４５ｄのエッジを溶射膜６５によって覆うようにする。例文帳に追加

An electrode member 46 abutting against the lower surface of a work in a plasma processing apparatus performing plasma processing of a planar work is constituted by soldering a planar adsorption member 45 having a plurality of through holes 45a and a cooling plate 44. - 特許庁

また、保護リング８は、内筒部６と同様に、石英で形成した保護リング本体8aの内周面に、アルミナを溶射した耐プラズマ層8cが形成してあり、保護リング本体8aの外周面にマイクロ波反射層8bが形成してある。例文帳に追加

A protective ring 8 is equipped with a quartz protective ring main body, and a plasma- resistant layer is formed on the inner circumferential surface of the quartz protective ring main body by flame spray coating alumina, similarly to the inner cylinder 6, and a microwave reflecting layer is formed on the outer circumferential surface of the protective ring main body. - 特許庁

Ｓｉ、Ａｌ、Ｏ、Ｎ及び３ａ族及び／又は２ａ族の元素によって構成されたガラスからなる耐蝕性部材、及びこれら組成からなるガラス質の耐蝕性溶射膜を被覆した部材は、腐食性ガス及びプラズマに対する耐蝕性と耐熱強度が高く、パーティクルの発生が少なく、このようなガラス質の耐蝕性部材は窒化ケイ素、アルミナ、シリカ及び３ａ及び／又は２ａ族元素の酸化物を混合・成型・熱処理又は基材に対して溶射を行うことによって製造することができる。例文帳に追加

The corrosion resistant member of glass can be manufactured by mixing, molding, heat-treating silicon nitride, alumina, silica and oxides of elements of group 3a and/or group 2a, or performing thermal spraying on a base material. - 特許庁