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プロセス計測の英語
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英訳・英語 process instrumentation
「プロセス計測」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 110件
プロセス計測制御システム保守点検装置例文帳に追加
MAINTENANCE AND INSPECTION DEVICE FOR PROCESS MEASUREMENT CONTROL SYSTEM - 特許庁
パターン密度計測方法及び計測装置及び膜厚計測方法及びプロセス制御方法例文帳に追加
METHOD AND DEVICE FOR MEASURING PATTERN DENSITY, FILM- THICKNESS MEASURING METHOD, AND PROCESS CONTROL METHOD - 特許庁
計測装置、リソグラフィ装置、プロセス装置、計測方法、及びデバイス製造方法。例文帳に追加
MEASURING INSTRUMENT, LITHOGRAPHY UNIT, PROCESS APPARATUS, MEASURING METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD - 特許庁
放射温度計測方法および装置、放射温度計測用部品、プロセス機器例文帳に追加
METHOD AND APPARATUS FOR MEASURING RADIATION TEMPERATURE, PART FOR MEASURING RADIATION TEMPERATURE, AND PROCESS DEVICE - 特許庁
半導体プロセスにおけるウエハの温度計測方法例文帳に追加
WAFER TEMPERATURE MEASURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR PROCESS - 特許庁
半導体パターン計測方法、およびプロセス管理方法例文帳に追加
SEMICONDUCTOR PATTERN MEASURING METHOD AND PROCESS CONTROL METHOD - 特許庁
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「プロセス計測」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 110件
本プロセスは、オブジェクトを動かす最短距離を計測する。例文帳に追加
The process calculates the shortest distance to move the object. - 特許庁
パターン計測システム、パターン計測方法、プロセス管理方法及び露光条件決定方法例文帳に追加
PATTERN MEASURING SYSTEM, PATTERN MEASURING METHOD, PROCESS MANAGING METHOD, AND EXPOSURE CONDITION RESOLUTION METHOD - 特許庁
プロセス状態計測手段12によりプロセス操作量およびプロセス状態量を計測し、これらのプロセス操作量およびプロセス状態量がプロセス状態記憶手段13に記憶される。例文帳に追加
A process operation quantity and a process state quantity are measured by a process state measuring means 12, and these process operation quantity and process state quantity are stored in a process state storage means 13. - 特許庁
計算装置は、計測プロセスの初期時点における第1計測器(70)及び第2計測器(80)の計測結果、計測プロセスの終期時点における第1計測器(70)及び第2計測器(80)の計測結果、初期時点と終期時点との時間間隔、及び補正係数を用いて、ドレントラップ(DTn)からの蒸気の流量を算出する。例文帳に追加
The calculation apparatus calculates a flow rate of the steam from the drain trap (DTn) by using measurement results of the first and second measuring instruments (70), (80) at an initial point and an end point of a measurement process, a time interval between the initial point and the end point, and a correction coefficient. - 特許庁
定着プロセスにおいて、トナーの変形とトナーにかかる荷重を同時に計測し、定着プロセスに関わるトナーの挙動を可視化計測することができる可視化計測方法および可視化計測装置を提供すること。例文帳に追加
To provide a visualization measurement method and a visualization measurement apparatus capable of simultaneously measuring the deformation of toner and load applied to the toner in a fixing process and capable of visibly measuring toner behavior concerned with the fixing process. - 特許庁
プロセス状態/外部入力推定手段4は、プロセス状態に関する非計測データを推定する。例文帳に追加
A process status/external input estimating means 4 estimates non-measurement data related to a process status. - 特許庁
例えば、半導体製造プロセスやFPD製造プロセス等におけるインライン計測に好適なエリプソメトリ方式の薄膜計測装置を提供すること。例文帳に追加
To provide a thin film measuring device of an ellipsometry system suitable for inline measurement, for example, in a semiconductor manufacturing process or an FPD manufacturing process. - 特許庁
光計測を用いた半導体製造プロセスのプロセスパラメータの測定方法例文帳に追加
METHOD OF MEASURING PROCESS PARAMETER OF SEMICONDUCTOR FABRICATION PROCESS USING OPTICAL MEASUREMENT - 特許庁
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