ellipsometryとは 意味・読み方・使い方

The measurements made by the detector elements provide ellipsometry/reflectometry data for the test surface.例文帳に追加

検出器要素が行なう測定によって、検査表面に関する変更解析／反射率データが供給される。 - 特許庁

FTIR ELLIPSOMETRY DEVICE AND PROCESS FOR CHARACTERIZATION AND FURTHER IDENTIFICATION OF SAMPLES OF COMPLEX BIOLOGICAL MATERIALS, NOTABLY MICROORGANISMS例文帳に追加

複雑な生物学的材料、特に微生物の試料の特性を明らかにし、さらに特定するＦＴＩＲ偏光解析装置と方法 - 特許庁

Thereafter the thickness t1 of the second semiconductor layer 11b in the substrate 10 for the temperature measurement is measured by a spectral ellipsometry device.例文帳に追加

その後、分光エリプソメトリ装置により、温度測定用基板１０における第２の半導体層１１ｂの厚さｔ１を測定する。 - 特許庁

The measurement device 1 comprises an ellipsometry measurement system for measuring changes in film thickness, and a UV radiation system for removing organics.例文帳に追加

測定装置１を、膜厚変化の測定を行うエリプソメトリ測定系と、有機物の除去を行うＵＶ光照射系と、から構成する。 - 特許庁

To provide a thin film measuring device of an ellipsometry system suitable for inline measurement, for example, in a semiconductor manufacturing process or an FPD manufacturing process.例文帳に追加

例えば、半導体製造プロセスやＦＰＤ製造プロセス等におけるインライン計測に好適なエリプソメトリ方式の薄膜計測装置を提供すること。 - 特許庁

An areal (XY) determination of working layer thickness is made by ellipsometry, laser interferometry or x-ray diffraction or other known means.例文帳に追加

偏光解析法、レーザ干渉法、又はｘ線回折法又はその他の既知の手段により加工層７０の領域的（ＸＹ）厚さの決定が行われる。 - 特許庁

Refractive index and extinction coefficient of before-film- formation (a base film 7 with a magnetic film) are determined by fitting optical features ψ, δ measured by a spectrum ellipsometry measuring part 9a before film-formation.例文帳に追加

成膜前に分光エリプソ測定部９ａで測定した光学的特徴ψ、δをフィッティングして成膜前（磁性膜付ベースフィルム）の屈折率、消衰係数を求める。 - 特許庁

To provide an ellipsometry in which the measurement of the thickness and the cross-sectional shape of a film formed on multilayer wiring can be carried out nondestructively with a high throughput.例文帳に追加

多層配線上に形成された膜の膜厚測定及び断面形状測定を、非破壊かつ高スループットで行うことのできる偏光解析方法を提供する。 - 特許庁