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ellipsometricとは 意味・読み方・使い方
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「ellipsometric」を含む例文一覧
該当件数 : 14件
ELLIPSOMETRIC MEASUREMENT METHOD AND APPARATUS例文帳に追加
偏光解析測定方法および装置 - 特許庁
A rigorous model is then used to calculate the intensity or the ellipsometric signature of the diffracting structure.例文帳に追加
そして、厳密なモデルを使って回折構造体の強度またはエリプソメトリックな署名を計算する。 - 特許庁
A rigorous model is then used to calculate the intensity or the ellipsometric parameter of the diffracting structure 12c.例文帳に追加
そして、厳密なモデルを使って回折構造体12cの強度またはエリプソメトリックなパラメータを計算する。 - 特許庁
A rigorous model is then used to calculate the intensity or the ellipsometric characteristic parameter of the diffracting structure 12c.例文帳に追加
そして、厳密なモデルを使って回折構造体12cの強度またはエリプソメトリックな特徴的パラメータを計算する。 - 特許庁
To solve various problems existing in the case of using an ellipsometric crystal for quick determination of a structure factor tensor and improvement of measurement sensitivity, though an ellipsometric method of an X-ray domain which is necessary for determining the structure factor tensor of a material is already proposed.例文帳に追加
物質の構造因子テンソルの決定に必要なX線領域の偏光解析の方法は既に提案されているが、構造因子テンソルの迅速決定および測定感度向上のために、偏光解析結晶を用いる場合には、種々の問題を解決しなければならない。 - 特許庁
In this method, the structure factor tensor can be determined without using the ellipsometric crystal, by measuring and analyzing incidence polarization dependency of scattered X-ray intensity from a sample.例文帳に追加
試料からの散乱X線強度の入射偏光依存性を測定・解析することで、偏光解析結晶を使用することなく構造因子テンソルを決定する方法。 - 特許庁
The diffracting structure is then measured using a spectroscopic scatterometer using polarized and broadband radiation to obtain the intensity or the ellipsometric signature of the diffracting structure.例文帳に追加
次に、偏光放射線および広帯域放射線を用いた分光散乱計を使って回折構造体を測定して回折構造体の強度またはエリプソメトリックな署名を得る。 - 特許庁
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「ellipsometric」を含む例文一覧
該当件数 : 14件
The diffracting structure 12c is then measured using a spectroscopic scatterometer using polarized radiation and broadband radiation to obtain the intensity or an ellipsometric signature of the diffracting structure.例文帳に追加
次に、偏光放射線および広帯域放射線を用いた分光散乱計を使って回折構造体12cを測定して回折構造体の強度またはエリプソメトリックな署名を得る。 - 特許庁
By measuring and analyzing incident polarization dependence on the intensity of the scattered X-rays from a sample, the structure factor tensors are determined, without having to use the ellipsometric crystal in this method.例文帳に追加
試料からの散乱X線強度の入射偏光依存性を測定・解析することで、偏光解析結晶を使用することなく構造因子テンソルを決定する方法。 - 特許庁
The diffracting structure 12c is then measured using a spectroscopic scatterometer using polarized radiation and broadband radiation to obtain the intensity or an ellipsometric parameter of the diffracting structure 12c.例文帳に追加
次に、偏光放射線および広帯域放射線を用いた分光散乱計を使って回折構造体12cを測定して回折構造体12cの強度またはエリプソメトリックなパラメータを得る。 - 特許庁
The diffracting structure 12c is then measured using a spectroscopic scatterometer using polarized radiation and broadband radiation to obtain the intensity or an ellipsometric characteristic parameter of the diffracting structure 12c.例文帳に追加
次に、偏光放射線および広帯域放射線を用いた分光散乱計を使って回折構造体12cを測定して回折構造体12cの強度またはエリプソメトリックな特徴的パラメータを得る。 - 特許庁
To provide a scatterometer with an ellipsometric function so as to measure a phase difference and amplitude of beams diffracted by a structure in a plurality of wavelength ranges without using an existing phase modulator and without integrating additional hardware.例文帳に追加
構造で回折したビームの位相差および振幅を、既知の位相変調器を使用することなく、また、過剰な追加ハードウェアを組み込むことなく、複数の波長レンジで測定することができるよう、スキャトロメータにエリプソメトリック機能を提供する。 - 特許庁
To provide a method for a real time control of manufacturing of thin film structure through ellipsometric measurement, without using an optical reversal or calculation in order to obtain optical parameters from Ψ and Δ.例文帳に追加
本発明は、光学的パラメータをΨおよびΔから得るために光学的反転またはパラメータ化を使用しないで楕円偏光測定によって薄膜構造の製造の実時間制御を行うことのできる方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
To speedily determine structure factor tensors and improve the measurement sensitivity, in the case of using an ellipsometric crystal when the ellipsometry of an X-ray region required for determining the structure factor tensors of substances is performed.例文帳に追加
物質の構造因子テンソルの決定に必要なX線領域の偏光解析の方法は既に提案されているが、構造因子テンソルの迅速決定および測定感度向上のために、偏光解析結晶を用いる場合には、種々の問題を解決しなければならない。 - 特許庁
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