ベクトルマシンの英語

本構成において、該機械学習モデルに、最大エントロピーモデルまたはサポートベクトルマシンを採用することもできる。例文帳に追加

The apparatus can adopt a maximum entropy model or a support vector machine as the machine learning model. - 特許庁

診断装置２６ではこれらのデータを統計化し、サポートベクトルマシン群６８とクラスター解析部７０で解析する。例文帳に追加

The diagnosis device 26 statistically processes obtained data to be analyzed by a support vector machine group 68 and a cluster analysis part 70. - 特許庁

求められた特徴ベクトルをサポートベクトルマシンにより評点にしたがって分類して時別モデルを構築する。例文帳に追加

The determined feature vector is classified according to the score by a support vector machine, and time-by-time model is constructed. - 特許庁

そして、選択された領域画像に対して識別処理（サポートベクトルマシンアルゴリズム処理）を行い、対象物を抽出する。例文帳に追加

Then, a discrimination process (support vector machine algorism process) is executed for the selected area image, and the object is extracted. - 特許庁

訓練済みサポートベクトルマシンの出力として、構造のプロファイルパラメータの値が取得される。例文帳に追加

A value of profile parameter of the structure as an output of the trained support vector machine is acquired. - 特許庁

そのため、既存のサポートベクトルマシンに発生しやすかった「過学習」または「過剰適合」のリスクを低減することができる。例文帳に追加

Therefore, risk of "over learning" or "excess adaptation" having been apt to occur in an existing support vector machine can be reduced. - 特許庁

テキストがあるカテゴリーに属するか否かに関するラベルがあらかじめ付与された訓練データ集合が与えられた場合に、訓練データ集合のテキストを特徴ベクトルに変換し、ラベルとともに特徴ベクトルをサポートベクトルマシンに適用して、学習を行って、サポートベクトルマシンによるテキスト分類器を生成する。例文帳に追加

When a training data group with a label related to whether the text thereof belongs to a certain category or not being preliminarily assigned is given, the text of the training data group is converted to the characteristic vector, the characteristic vector is applied to a support vector machine together with the label to perform learning, and a text classifier by the support vector machine is generated. - 特許庁

入力としてシミュレート回折信号の組を、予期される出力としてプロファイルパラメータの値の組を用いて、サポートベクトルマシンが訓練された後、ウェハ上に構造を製造するように製造プロセスが実行される。例文帳に追加

After a support vector machine is trained using a set of the simulation diffraction signals as an input and a set of profile parameter value as an expected output, process of production is performed so that the structure may be fabricated on a wafer. - 特許庁