レベンの英語

レベンソン位相シフトマスク１０に代えてシフタエッジ位相シフトマスク使用することができる。例文帳に追加

A shifter edge phase shift mask may be used in place of the mask 10. - 特許庁

レベンソンマスクの製造方法は、（ａ）工程と（ｂ）工程とを具備している。例文帳に追加

A method for manufacturing the Levenson phase shift mask includes a (a) step and a (b) step. - 特許庁

半導体製造方法、マスクパターンの形成方法及びレベンソン型位相シフトマスク。例文帳に追加

METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR, METHOD FOR FORMING MASK PATTERN, AND LEVENSON TYPE PHASE SHIFT MASK - 特許庁

微細なパターンを形成できるレベンソン型マスクの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing a levenson type mask forming a fine pattern. - 特許庁

レベンソン位相シフトマスクの露光パターンに位置ずれ、コントラスト低下の改善を図る。例文帳に追加

To ameliorate the deviation in position and the degradation in contrast in exposure patterns of a Levenson type phase shift mask. - 特許庁

テープカセット１が装填され、Ｓ−ＲＡＭに管理情報が格納されると、その管理情報の中からプレベントリードリトライフラグとプレベントライトリトライフラグを検出して内容判別を行う（Ｓ００１〜Ｓ００３）。例文帳に追加

When a tape cassette is loaded and management information is stored in an S-RAM, a prevent read retry flag and a prevent write retry flag are detected in the stored management information and their contents are discriminated (S001-S003). - 特許庁

レベンソンマスクにおける基板の掘り込み部の側壁からの光を適切に抑制することができ、解像度や焦点深度を改善し、転写特性を向上させることができるレベンソンマスクを提供する。例文帳に追加

To provide a Levenson phase shift mask capable of restraining properly light from a side wall of an engraved part of a substrate in the Levenson phase shift mask, capable of improving resolution and a focal depth, and capable of enhancing a transfer characteristic. - 特許庁

レベンソンマスク１０，２０は、遮光部１１１，…を挟んでシフタ部１２１，…及び非シフタ部１３１，…が対向配置されたパターンを有する。例文帳に追加

Levenson masks 10 and 20 have patterns in which shifter parts 121,... and non-shifter parts 131,... are arranged opposite to each other across shading parts 111,.... - 特許庁