不純物添加～の英語

キャップ層には第１導電型の不純物が添加されている。例文帳に追加

First conductivity impurities are added in advance to the cap layer 4. - 特許庁

不純物が添加された原料溶液を準備的な前駆溶液と混合２２して、不純物が添加されたシリコン酸化物の溶液を調製する。例文帳に追加

The resultant doped source solution is mixed 22 with the preliminary precursor solution to form a doped silicon oxide precursor solution. - 特許庁

カソード基板１０は、ダイヤモンド基板１２、不純物添加層１４ａ（不純物添加ダイヤモンド）、及びノンドープ層１４ｂ（ノンドープダイヤモンド）を有する。例文帳に追加

The cathode substrate 10 is provided with a diamond substrate 12, an impurity added layer 14a (impurity added diamond) and a non-dope layer 14b (non-dope diamond). - 特許庁

すなわち、従来のように不純物の添加による不純物コロニーが石英ガラス中に発生しにくくなる。例文帳に追加

Namely, the impurity colonies by the addition of impurities like heretofore are hardly generated in the quartz glass. - 特許庁

２−メトキシエタノールにドーピング不純物を溶解２０させて、不純物が添加された原料溶液を調製する。例文帳に追加

A doping impurity is dissolved 20 in 2-methoxyethanol to form a doped source solution. - 特許庁

このとき、シリコン膜のうちメモリセル部上の領域に第１の不純物濃度になるように不純物を添加し、ロジック回路部上の領域に、第１の不純物濃度よりも低濃度の第２の不純物濃度になるように不純物を添加する。例文帳に追加

The impurity is added to the area over a memory cell part of the silicon film so as to have a first impurity concentration, and to the area over a logic circuit part so as to have a second impurity concentration which is lower than the first impurity concentration. - 特許庁

シリコン基板１に非貫通孔を形成し、この非貫通孔の底面からシリコン基板１に不純物を添加して、不純物添加部２を形成する。例文帳に追加

A non-through hole is formed in a silicon board 1, and impurities are given to the silicon board 1 from the bottom surface of the non-through hole to form an impurity added part 2. - 特許庁

（ｂ）不純物が添加された領域に、少なくとも４つのレーザパルスを含むパルスレーザビームを入射させ、添加されている不純物を活性化させる。例文帳に追加

(b) Impurities thus added are activated by irradiating the region to which impurities are added with a pulse laser beam including at least four laser pulses. - 特許庁