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光トポグラフィーの英語
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英訳・英語 optical topography
「光トポグラフィー」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 7件
私の母はうつ病の疑いがあるので、光トポグラフィー検査を受けに行きます。例文帳に追加
There's suspicion that my mother has depression, so she's going to have an optical topography scan. - Weblio英語基本例文集
露光装置は、トポグラフィー計測デバイスと、パターニング用デバイスPDと、補正システムCSとを備える。例文帳に追加
An exposure device is equipped with a topography measurement device, a patterning device PD, and a correction system CS. - 特許庁
直接光の影響を効果的に低減できるFZP拡大法によるトポグラフィー測定装置を提供すること。例文帳に追加
To provide a topography measurement device using an FZP expansion method capable of reducing influence of direct light effectively. - 特許庁
半導体ウェハ上に光を照射する複数のレンズ110と、半導体ウェハのトポグラフィーを測定し、このトポグラフィーに応じたデータを生成するレベリングセンサ122と、レベリングセンサからのデータを受け、ある焦点面に誘起させる収差を決定するアナイライザ112と、複数のレンズのうち少なくとも1つのレンズを調整して収差を誘起させるコントローラ114とを具備する。例文帳に追加
Semiconductor wafer exposure apparatus includes a plurality of lenses 110 for illuminating light on a semiconductor wafer, a leveling sensor 122 for measuring a topography of the semiconductor wafer to generate data according to the topography, an analyzer 112 for defining an aberration induced on a focal plane by receiving data from the leveling sensor, a controller 114 for inducing the aberration by regulating at least a lens in a plurality of lenses. - 特許庁
測定部111は、特に、第1受光部23からの第1受光信号に基づき、眼光学特性測定を行い、第2受光部35からの第2受光信号に基づき、角膜トポグラフィー測定を行う。例文帳に追加
A measuring part 111 measures optical characteristics of the eye especially on the basis of the first light detection signal from the first light detection part 23 and performs cornea topographic measurement on the basis of the second light detection signal from the second light detection part 35. - 特許庁
測定部111は、特に、第1受光部23からの第1受光信号に基づき、眼光学特性測定を行い、第2受光部35からの第2受光信号に基づき、角膜トポグラフィー測定を行う。例文帳に追加
A measuring unit 111 measures ocular optical characteristics based on a first photodetection signal from a first photodetector 23, and measures a cornea topography based on a second photodetection signal from a second photodetector 35. - 特許庁
トポグラフィーを有する基体上にフォトレジストレリーフイメージを形成する方法であって、(a)約8、000以下の分子量を有するポリマーを含む反射防止組成物の層を基体上に適用し、(b)該反射防止組成物層の上にフォトレジスト組成物の層を適用し、および(c)活性化放射線によりフォトレジスト層を露光し、露光したフォトレジスト層を現像する、ことを含む、フォトレジストレリーフイメージを形成する方法。例文帳に追加
When a photoresist relief image is formed on a substrate having a topography, (a) a layer of antireflection composition containing polymer having molecular weight of at most about 8,000 is applied on the substrate, (b) the layer of a photoresist composition is applied on the antireflection composition layer, and (c) the photoresist layer is exposed to activated radiant rays, and the exposed photoresist layer is developed. - 特許庁
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光トポグラフィー
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