光起電産業の英語

産業的に実用レベルにある成膜速度で、光電特性の優れたシリコン薄膜の形成方法と、それによって形成されたシリコン系薄膜と、これを用いた光起電力素子を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a method for forming a silicon thin film, having superior photoelectric characteristics at industrially practical film formation speed, a silicon-based thin film formed by the method, and a photovoltaic element using the silicon-based thin film. - 特許庁

コストが安く、産業的に実用レべルにあるプロセス時間で可能な成膜速度で、光電特性の優れたシリコン系半導体形成方法及び光起電力素子を提供することを目的としている。例文帳に追加

To provide a method for forming a silicon-based semiconductor, having superior photoelectric characteristics at a low cost and at a filming rate which is possible in the process time of industrially practical level, and to provide a photovoltaic element. - 特許庁

産業的に実用レべルにある成膜速度で、さらにステブラー—ロンスキー（Ｓｔａｅｂｌｅｒ−Ｗｒｏｎｓｋｉ）効果による光劣化現象に対して、光照射時に光電変換効率の自己回復能を有する光起電力素子を提供することを目的としている。例文帳に追加

To provide a photovoltaic element that can be formed at an industrially practical film forming speed and has photoelectric conversion efficient self-recoverability against an optical degradation phenomenon caused by a Staebler-Wronski effect. - 特許庁